公开(公告)号：US20080192215A1

公开(公告)日：2008-08-14

申请号：US12008879

申请日：2008-01-15

申请人： Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Guido Limbach ,  Julian Kaller ,  Hans-Juergen Scherle ,  Dieter Schmerek ,  Detlev Mueller ,  Thomas Schletterer

发明人： Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Guido Limbach ,  Julian Kaller ,  Hans-Juergen Scherle ,  Dieter Schmerek ,  Detlev Mueller ,  Thomas Schletterer

IPC分类号： G03B27/52 ,  G02B7/02

CPC分类号： G02B27/0006 ,  G02B1/18 ,  G02B7/023 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70933

摘要： An optical element unit is provided comprising an optical element group; a housing receiving said optical element group and having an inner housing part and an exit end; and a purge unit connected to said housing and providing a purge medium to said inner housing part. The optical element group comprises an ultimate optical element. The ultimate optical element is located at the exit end of housing and separates the inner housing part from an environment external to the housing. The ultimate optical element and the housing define a sealing gap. The purge unit provides purge medium to the sealing gap to prevent intrusion of contaminants into the inner housing part.

摘要翻译： 提供一种光学元件单元，包括光学元件组; 接收所述光学元件组并具有内部壳体部分和出口端的壳体; 以及净化单元，其连接到所述壳体并且向所述内壳体部件提供净化介质。 光学元件组包括极限光学元件。 最终的光学元件位于壳体的出口端处，并将内部壳体部件与壳体外部的环境分离。 最终的光学元件和壳体限定了密封间隙。 净化单元向密封间隙提供净化介质以防止污染物侵入内壳体部分。

公开(公告)号：US07545483B2

公开(公告)日：2009-06-09

申请号：US12008879

申请日：2008-01-15

申请人： Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Thomas Schletterer ,  Guido Limbach ,  Julian Kaller ,  Hans-Juergen Scherle ,  Detlev Mueller ,  Dieter Schmerek

发明人： Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Thomas Schletterer ,  Guido Limbach ,  Julian Kaller ,  Hans-Juergen Scherle ,  Detlev Mueller ,  Dieter Schmerek

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G02B27/0006 ,  G02B1/18 ,  G02B7/023 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70933

摘要： An optical element unit is provided comprising an optical element group; a housing receiving said optical element group and having an inner housing part and an exit end; and a purge unit connected to said housing and providing a purge medium to said inner housing part. The optical element group comprises an ultimate optical element. The ultimate optical element is located at the exit end of housing and separates the inner housing part from an environment external to the housing. The ultimate optical element and the housing define a sealing gap. The purge unit provides purge medium to the sealing gap to prevent intrusion of contaminants into the inner housing part.

摘要翻译： 提供一种光学元件单元，包括光学元件组; 接收所述光学元件组并具有内部壳体部分和出口端的壳体; 以及净化单元，其连接到所述壳体并且向所述内壳体部件提供净化介质。 光学元件组包括极限光学元件。 最终的光学元件位于壳体的出口端处，并将内部壳体部件与壳体外部的环境分离。 最终的光学元件和壳体限定了密封间隙。 净化单元向密封间隙提供净化介质，以防止污染物侵入内壳体部分。

公开(公告)号：US20070132969A1

公开(公告)日：2007-06-14

申请号：US10565612

申请日：2004-07-08

申请人： Bernhard Gellrich ,  Gerd Reisinger ,  Dieter Schmerek ,  Jens Kugler

发明人： Bernhard Gellrich ,  Gerd Reisinger ,  Dieter Schmerek ,  Jens Kugler

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： The invention relates to a projection exposure system for microlithography, said system comprising an illumination device for generating a projection light, and a projection objective comprising a plurality of optical elements such as lenses (L5) and enabling a reticle that can be arranged in an object plane of the projection objective to be imaged onto a light-sensitive surface (26) that can be arranged in an image plane of the projection objective and is applied to a carrier (30). The inventive system is also provided with an immersion device between an image-side last optical element (L5) of the projection objective and the light-sensitive surface (26), for introducing an immersion liquid (34) into an immersion chamber (50). Said immersion device comprises means (44; 66) which can prevent the appearance of gas bubbles (48) in the immersion liquid (34), affecting the imaging quality, and/or can remove existing gas bubbles (48). Said means can be, for example, an ultrasound source (66) or a degasifier (44).

摘要翻译： 本发明涉及一种用于微光刻的投影曝光系统，所述系统包括用于产生投射光的照明装置，以及包括诸如透镜（L 5）的多个光学元件的投影物镜，并且能够将一个掩模版布置在 将被投影物镜的物体平面成像到能够被布置在投影物镜的像平面中并被施加到载体（30）的光敏表面（26）上。 本发明的系统还在投影物镜的最后一个光学元件（L 5）和光敏表面（26）之间设置浸入装置，用于将浸没液（34）引入到浸没室（50） ）。 所述浸渍装置包括能够防止浸没液体（34）中的气泡（48）出现的装置（44; 66），影响成像质量，和/或可以去除现有的气泡（48）。 所述装置可以是例如超声源（66）或脱气器（44）。

公开(公告)号：US08068279B2

公开(公告)日：2011-11-29

申请号：US11685620

申请日：2007-03-13

申请人： Karl-Heinz Schuster ,  Juergen Hartmaier ,  Manfred Maul ,  Dieter Schmerek ,  Detlev Mueller ,  Otto Hahnemann ,  Frank Marianek ,  Gundula Weiss ,  Damian Fiolka

发明人： Karl-Heinz Schuster ,  Juergen Hartmaier ,  Manfred Maul ,  Dieter Schmerek ,  Detlev Mueller ,  Otto Hahnemann ,  Frank Marianek ,  Gundula Weiss ,  Damian Fiolka

IPC分类号： G02B5/30

CPC分类号： G03F7/70075 ,  G02B1/02 ,  G02B1/08 ,  G02B3/005 ,  G02B3/0068 ,  G02B5/1823 ,  G02B5/1833 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/1866 ,  G03B27/72 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70966

摘要： The disclosure relates to an optical system of an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus, including at least one first light-conductance-increasing element having a plurality of diffractively or refractively beam-deflecting structures extending in a common first preferred direction the light-conductance-increasing element having an optically uniaxial crystal material in such a way that the optical crystal axis of the crystal material is substantially parallel or substantially perpendicular to the first preferred direction.

摘要翻译： 本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的照明装置的光学系统，其包括至少一个第一光电导增量元件，其具有沿共同的第一优选方向延伸的多个衍射或折射光束偏转结构， 电导增加元件具有光学单轴晶体材料，使得晶体材料的光学晶体轴基本上平行或基本垂直于第一优选方向。

公开(公告)号：US20070217013A1

公开(公告)日：2007-09-20

申请号：US11685620

申请日：2007-03-13

申请人： Karl-Heinz Schuster ,  Juergen Hartmaier ,  Manfred Maul ,  Dieter Schmerek ,  Detlev Mueller ,  Otto Hahnemann ,  Frank Marianek ,  Gundula Weiss ,  Damian Fiolka

发明人： Karl-Heinz Schuster ,  Juergen Hartmaier ,  Manfred Maul ,  Dieter Schmerek ,  Detlev Mueller ,  Otto Hahnemann ,  Frank Marianek ,  Gundula Weiss ,  Damian Fiolka

IPC分类号： G02B5/18

CPC分类号： G03F7/70075 ,  G02B1/02 ,  G02B1/08 ,  G02B3/005 ,  G02B3/0068 ,  G02B5/1823 ,  G02B5/1833 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/1866 ,  G03B27/72 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70966

摘要： The disclosure relates to an optical system of an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus, comprising at least one first light-conductance-increasing element having a plurality of diffractively or refractively beam-deflecting structures extending in a common first preferred direction the light-conductance-increasing element having an optically uniaxial crystal material in such a way that the optical crystal axis of the crystal material is substantially parallel or substantially perpendicular to the first preferred direction.

摘要翻译： 本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的照明装置的光学系统，其包括至少一个第一光电导增量元件，其具有沿共同的第一优选方向延伸的多个衍射或折射的光束偏转结构， 电导增加元件具有光学单轴晶体材料，使得晶体材料的光学晶体轴基本上平行或基本垂直于第一优选方向。

公开(公告)号：US20050195376A1

公开(公告)日：2005-09-08

申请号：US11057311

申请日：2005-02-11

申请人： Dieter Schmerek

发明人： Dieter Schmerek

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70933

摘要： A system for purifying purge gases for an optical system, in particular for a projection objective for microlithography for the fabrication of semiconductor components, wherein the optical system has at least one optical element in a housing with a purge gas passing through the housing. Contaminating substances which settle on surfaces of the at least one optical element in the projection objective are filtered out by photochemical means.

摘要翻译： 一种用于净化光学系统的净化气体的系统，特别是用于制造半导体部件的用于微光刻的投影物镜的系统，其中所述光学系统在壳体中具有穿过所述壳体的吹扫气体的至少一个光学元件。 通过光化学方法过滤掉在投影物镜中沉积在至少一个光学元件的表面上的污染物质。

公开(公告)号：US06825914B2

公开(公告)日：2004-11-30

申请号：US10020561

申请日：2001-12-07

申请人： Joachim Schroeder ,  Gerald Richter ,  Dieter Schmerek ,  Uwe Schubert ,  Maria Johanna Agnes Rubingh ,  Willem van Schaik ,  Siebe Landheer

发明人： Joachim Schroeder ,  Gerald Richter ,  Dieter Schmerek ,  Uwe Schubert ,  Maria Johanna Agnes Rubingh ,  Willem van Schaik ,  Siebe Landheer

IPC分类号： G03B2752

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G02B27/0006 ,  G03F7/70883

摘要： In a system for flushing at least one internal space of an objective, in particular an exposure projection objective for semiconductor lithography, flushing is performed by mixing at least two inert gasses in such a way that the refractive index resulting therefrom corresponds at least approximately to the refractive index of air.

摘要翻译： 在用于冲洗物镜的至少一个内部空间的系统中，特别是用于半导体光刻的曝光投影物镜，通过混合至少两种惰性气体来进行冲洗，使得由其产生的折射率至少约为 空气的折射率。

公开(公告)号：US08435726B2

公开(公告)日：2013-05-07

申请号：US12135781

申请日：2008-06-09

申请人： Alexandra Pazidis ,  Christoph Zaczek ,  Alexander Hirnet ,  Herbert Fink ,  Dieter Schmerek

发明人： Alexandra Pazidis ,  Christoph Zaczek ,  Alexander Hirnet ,  Herbert Fink ,  Dieter Schmerek

IPC分类号： G02B3/00

CPC分类号： G03F7/70958

摘要： A method of processing an optical element which has a substrate (110) and a layer system (120) applied to the substrate (110), wherein the layer system (120) in a starting condition has a plurality of volume defects (130), wherein the method includes at least partially filling at least one of the volume defects (130) with a filling material (140). Also disclosed is an associated method of manufacturing an optical element.

摘要翻译： 一种处理光学元件的方法，所述光学元件具有施加到所述衬底（110）上的衬底（110）和层系统（120），其中处于起始状态的层系统（120）具有多个体积缺陷（130）， 其中所述方法包括用填充材料（140）至少部分地填充所述体积缺陷（130）中的至少一个。 还公开了一种制造光学元件的相关方法。

公开(公告)号：US20080309905A1

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：US12135781

申请日：2008-06-09

申请人： Alexandra PAZIDIS ,  Christoph Zaczek ,  Alexander Hirnet ,  Herbert Fink ,  Dieter Schmerek

发明人： Alexandra PAZIDIS ,  Christoph Zaczek ,  Alexander Hirnet ,  Herbert Fink ,  Dieter Schmerek

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03F7/20 ,  B29D11/00

CPC分类号： G03F7/70958

摘要： A method of processing an optical element which has a substrate (110) and a layer system (120) applied to the substrate (110), wherein the layer system (120) in a starting condition has a plurality of volume defects (130), wherein the method includes at least partially filling at least one of the volume defects (130) with a filling material (140). Also disclosed is an associated method of manufacturing an optical element.

摘要翻译： 一种处理光学元件的方法，所述光学元件具有施加到所述衬底（110）上的衬底（110）和层系统（120），其中处于起始状态的层系统（120）具有多个体积缺陷（130）， 其中所述方法包括用填充材料（140）至少部分地填充所述体积缺陷（130）中的至少一个。 还公开了一种制造光学元件的相关方法。