METHOD FOR FABRICATING CONDUCTIVE PATTERN
    2.
    发明申请
    METHOD FOR FABRICATING CONDUCTIVE PATTERN 审中-公开
    制作导电图案的方法

    公开(公告)号:US20100081273A1

    公开(公告)日:2010-04-01

    申请号:US12242850

    申请日:2008-09-30

    IPC分类号: H01L21/768

    CPC分类号: H01L21/76885 H01L21/76877

    摘要: A method for fabricating a conductive pattern including following steps is provided. A first conductive layer is formed on a substrate. A patterned hard mask layer is formed on the first conductive layer. A portion of the first conductive layer is removed to expose a portion of the substrate by using the patterned hard mask layer as a mask. A dielectric layer covering the patterned hard mask layer is formed on the substrate. A portion of the dielectric layer is removed to expose the patterned hard mask layer. The patterned hard mask layer is removed to form an opening in the dielectric layer. A second conductive layer is formed in the opening.

    摘要翻译: 提供一种制造包括以下步骤的导电图案的方法。 在基板上形成第一导电层。 图案化的硬掩模层形成在第一导电层上。 通过使用图案化的硬掩模层作为掩模,去除第一导电层的一部分以露出衬底的一部分。 覆盖图案化的硬掩模层的电介质层形成在衬底上。 去除介电层的一部分以暴露图案化的硬掩模层。 图案化的硬掩模层被去除以在介电层中形成开口。 在开口中形成第二导电层。