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    Photopolymers and use in dental restorative materials
    1.
    发明授权
    Photopolymers and use in dental restorative materials 有权
    光聚合物和用于牙科修复材料

    公开(公告)号：US07838571B2

    公开(公告)日：2010-11-23

    申请号：US10576635

    申请日：2004-10-22

    申请人： Christopher N. Bowman ,  Hui Lu ,  Jeffrey W. Stansbury

    发明人： Christopher N. Bowman ,  Hui Lu ,  Jeffrey W. Stansbury

    IPC分类号： A61K6/087 ,  A61K6/08 ,  C08G75/00

    CPC分类号： C08G75/045 ,  A61C13/08 ,  A61C13/087 ,  A61K6/083 ,  C08F2/50 ,  G03F7/0275 ,  C08L33/00

    摘要： Photopolymerizable polymer composites based on dimethacrylate systems have been increasingly utilized as dental restorative materials. One of the biggest drawbacks of current dental resin systems is the volume shrinkage and shrinkage induced stresses that arise during the polymerization. Other major problems include incomplete double bond conversion and insufficient wear resistance. This invention involves the development of an entirely novel approach to the photopolymerization process that utilizes thiol-ene systems as low shrinkage and ultra-low shrinkage stress dental restorative materials. Compared with the traditional dimethacrylate dental resins, these novel photopolymerizations have demonstrated a dramatically decreased volume shrinkage, extremely rapid polymerization, abilities to photopolymerize ultrathick materials and achieve much higher conversion, lack of oxygen inhibition and ultra-low shrinkage stress due to low volume shrinkage and drastically delayed gel point conversion. These polymers have thus shown outstanding suitability as dental restorative materials.

    摘要翻译： 基于二甲基丙烯酸酯体系的可光聚合聚合物复合材料越来越多地用作牙科修复材料。 现有牙科树脂系统的最大缺点之一是在聚合期间产生的体积收缩和收缩诱导的应力。 其他主要问题包括不完全双键转化和耐磨性不足。 本发明涉及开发一种全新的光聚合方法，其利用硫醇系统作为低收缩和超低收缩应力牙科修复材料。 与传统的二甲基丙烯酸酯牙科树脂相比，这些新型光聚合已经显示体积收缩率显着降低，聚合极快，光聚合超薄材料的能力，并且由于低体积收缩而实现了更高的转化率，缺少氧抑制和超低收缩应力， 急剧延迟凝胶点转化。 因此，这些聚合物显示出作为牙科修复材料的突出的适用性。

    Dimer Acid-Derived Dimethacrylates and Use in Dental Restorative Compositions
    2.
    发明申请
    Dimer Acid-Derived Dimethacrylates and Use in Dental Restorative Compositions 有权
    二聚酸衍生的二甲基丙烯酸酯和用于牙齿修复组合物

    公开(公告)号：US20080318188A1

    公开(公告)日：2008-12-25

    申请号：US11568383

    申请日：2004-12-29

    申请人： Jeffrey W. Stansbury ,  Christopher N. Bowman ,  Marianela Trujillo

    发明人： Jeffrey W. Stansbury ,  Christopher N. Bowman ,  Marianela Trujillo

    IPC分类号： A61C13/20 ,  C08F4/32 ,  C08F4/00 ,  A61K6/08 ,  C08F120/18

    CPC分类号： A61K6/083 ,  C08L33/00

    摘要： The present invention provides polymerizable dental compositions comprising a dimer acid-derived monomer such as a dimer acid-derived di(meth)acrylate monomer. In one embodiment, the dimer acid-derived monomer is of the formula (I): wherein R1, R2, R3, R4, R5 and R6 are independently selected from H and optionally substituted C1-C25 straight-chained or branched aliphatic, optionally containing 1 or more double or triple bonds, wherein one or more carbons are optionally replaced by R* wherein R* is —C(O)—, —C(O)C(O)—, —C(O)NR7—, —C(O)NR7NR8—, —C(O)O—, —OC(O)—, —NR7CO2—, —O—, —NR7C(O)NR8—, —OC(O)NR7—, —NR7NR8—, —NR7C(O)—, —NR7C(O)O—, —S—, —SO—, —SO2—, —NR7—, —SO2NR7— or —NR7SO2—, where R7 and R8 are independently selected from H and optionally substituted aliphatic, cycloalkyl, heterocycloalkyl, aryl or heteroaryl; provided that at least two of R1, R2, R3, R4, R5 and R6 are substituted C1-25 straight-chained or branched aliphatic wherein at least one carbon is replaced by R* and at least one of the substituents is an alkenyl group.

    摘要翻译： 本发明提供包含二聚酸衍生的单体如二聚酸衍生的二（甲基）丙烯酸酯单体的可聚合牙科组合物。 在一个实施方案中，二聚酸衍生的单体具有式（I）：其中R 1，R 2，R 3，R 4，R 5和R 6独立地选自H和任选取代的C 1 -C 25直链或支链脂族基，任选地含 1或更多个双键或三键，其中一个或多个碳任选被R *取代，其中R *是-C（O） - ， - C（O）C（O） - ， - C（O）NR 7 - C（O）NR 7 NR 8 - ， - C（O）O-，-OC（O） - ， - NR 7 CO 2 - ， - O - ， - NR 7 C（O）NR 8 - -NR 7 C（O） - ， - NR 7 C（O）O-，-S-，-SO-，-SO 2 - ， - NR 7 - ， - SO 2 NR 7 - 或-NR 7 SO 2 - ，其中R 7和R 8独立地选自H 取代的脂族，环烷基，杂环烷基，芳基或杂芳基; 条件是R 1，R 2，R 3，R 4，R 5和R 6中的至少两个是取代的C 1-2直链或支链脂族基，其中至少一个碳被R *代替，并且至少一个取代基是烯基。

    Dimer acid-derived dimethacrylates and use in dental restorative compositions
    3.
    发明授权
    Dimer acid-derived dimethacrylates and use in dental restorative compositions 有权
    二聚酸衍生的二甲基丙烯酸酯，用于牙齿修复组合物

    公开(公告)号：US08727775B2

    公开(公告)日：2014-05-20

    申请号：US11568383

    申请日：2004-12-29

    申请人： Jeffrey W. Stansbury ,  Christopher N. Bowman ,  Marianela Trujillo

    发明人： Jeffrey W. Stansbury ,  Christopher N. Bowman ,  Marianela Trujillo

    IPC分类号： A61C5/00 ,  A61K6/083 ,  C07C49/84 ,  G03F7/029 ,  C08F299/02

    CPC分类号： A61K6/083 ,  C08L33/00

    摘要： The present invention provides polymerizable dental compositions comprising a dimer acid-derived monomer such as a dimer acid-derived di(meth)acrylate monomer. In one embodiment, the dimer acid-derived monomer is of the formula (I): wherein R1, R2, R3, R4, R5 and R6 are independently selected from H and optionally substituted C1-C25 straight-chained or branched aliphatic, optionally containing 1 or more double or triple bonds, wherein one or more carbons are optionally replaced by R* wherein R* is —C(O)—, —C(O)C(O)—, —C(O)NR7—, —C(O)NR7NR8—, —C(O)O—, —OC(O)—, —NR7CO2—, —O—, —NR7C(O)NR8—, —OC(O)NR7—, —NR7NR8—, —NR7C(O)—, —NR7C(O)O—, —S—, —SO—, —SO2—, —NR7—, —SO2NR7— or —NR7SO2—, where R7 and R8 are independently selected from H and optionally substituted aliphatic, cycloalkyl, heterocycloalkyl, aryl or heteroaryl; provided that at least two of R1, R2, R3, R4, R5 and R6 are substituted C1-25 straight-chained or branched aliphatic wherein at least one carbon is replaced by R* and at least one of the substituents is an alkenyl group.

    摘要翻译： 本发明提供包含二聚酸衍生的单体如二聚酸衍生的二（甲基）丙烯酸酯单体的可聚合牙科组合物。 在一个实施方案中，二聚酸衍生的单体具有式（I）：其中R 1，R 2，R 3，R 4，R 5和R 6独立地选自H和任选取代的C 1 -C 25直链或支链脂族基，任选地含 1或更多个双键或三键，其中一个或多个碳任选被R *取代，其中R *是-C（O） - ， - C（O）C（O） - ， - C（O）NR 7 - C（O）NR 7 NR 8 - ， - C（O）O-，-OC（O） - ， - NR 7 CO 2 - ， - O - ， - NR 7 C（O）NR 8 - -NR 7 C（O） - ， - NR 7 C（O）O-，-S-，-SO-，-SO 2 - ， - NR 7 - ， - SO 2 NR 7 - 或-NR 7 SO 2 - ，其中R 7和R 8独立地选自H 取代的脂族，环烷基，杂环烷基，芳基或杂芳基; 条件是R 1，R 2，R 3，R 4，R 5和R 6中的至少两个是取代的C 1-2直链或支链脂族基，其中至少一个碳被R *代替，并且至少一个取代基是烯基。

    Stress Relaxation in Crosslinked Polymers
    6.
    发明申请
    Stress Relaxation in Crosslinked Polymers 有权
    交联聚合物中的应力松弛

    公开(公告)号：US20080269460A1

    公开(公告)日：2008-10-30

    申请号：US11815914

    申请日：2006-02-10

    申请人： Christopher N. Bowman ,  Timothy F. Scott

    发明人： Christopher N. Bowman ,  Timothy F. Scott

    IPC分类号： C08J3/28 ,  C08G75/00 ,  C07C323/54 ,  C07C323/14

    CPC分类号： C08F2/50 ,  C08F2/38 ,  C08F293/005 ,  C08L51/003 ,  C08L53/00 ,  Y10S522/904 ,  C08L2666/02

    摘要： The invention provides methods for inducing reversible chain cleavage of polymer chains in a crosslinked polymeric material. Reversible cleavage of the polymer backbone is capable of relieving stress in the polymeric material as the bonds reform in a less stressed state. The invention also provides methods for making polymeric materials capable of reversible chain cleavage, materials made by the methods of the invention, and linear monomers containing reversible chain cleavage groups which are useful in the materials and methods of the invention.

    摘要翻译： 本发明提供诱导交联聚合物材料中聚合物链可逆链断裂的方法。 聚合物主链的可逆切割能够缓解聚合物材料中的应力，因为键在较小应力状态下改性。 本发明还提供了制备能够进行可逆链断裂的聚合物材料的方法，通过本发明的方法制备的材料和可用于本发明的材料和方法的可逆链裂解基团的线型单体。

    Diffraction unlimited photolithography
    8.
    发明授权
    Diffraction unlimited photolithography 失效
    衍射无限光刻

    公开(公告)号：US08697346B2

    公开(公告)日：2014-04-15

    申请号：US13078485

    申请日：2011-04-01

    申请人： Robert R. McLeod ,  Christopher N. Bowman ,  Timothy F. Scott ,  Amy C. Sulivan

    发明人： Robert R. McLeod ,  Christopher N. Bowman ,  Timothy F. Scott ,  Amy C. Sulivan

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/00 ,  C08K5/0025 ,  C08K5/18 ,  G02B5/32 ,  G03F7/0037 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0275 ,  G03F7/031 ,  G03F7/095 ,  G03F7/203 ,  G03F7/2051

    摘要： Methods, devices, systems, and materials are disclosed for diffraction unlimited photofabrication. A method is provided where a photoresponsive material is illuminated with a first optical pattern at a first wavelength of light. The first wavelength of light alters a solubility of the photoresponsive organic material. The photoresponsive material is also illuminated with a second optical pattern at a second wavelength of light. The second wavelength of light hinders the ability of the first wavelength of light to alter the solubility of the photoresponsive organic material where the second optical pattern overlaps the first optical pattern. The photoresponsive organic material is then developed.

    摘要翻译： 公开了用于衍射无限制造的方法，装置，系统和材料。 提供一种方法，其中光响应材料在第一波长的光下用第一光学图案照亮。 光的第一波长改变光响应有机材料的溶解度。 光响应材料也用第二波长的光照射第二光学图案。 光的第二波长阻碍第一波长的光改变光响应有机材料在第二光学图案与第一光学图案重叠的溶解度的能力。 然后开发光响应有机材料。