公开(公告)号：US06940587B2

公开(公告)日：2005-09-06

申请号：US10670801

申请日：2003-09-26

申请人： Hans Van Der Laan ,  Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Johannes Hubertus Josephina Moors

发明人： Hans Van Der Laan ,  Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Johannes Hubertus Josephina Moors

IPC分类号： G01M11/02 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/52 ,  G03B27/54 ,  G03B27/68

CPC分类号： G03F7/706

摘要： A measurement system configured to measure wave front aberrations of a projection system, as well as a lithographic apparatus including such a measurement system, is provided wherein the measurement system includes a diffractive element and structure configured to increase the pupil filling of the radiation in the pupil of the projection system, both movable into the projection beam between a radiation system and the projection system, and a sensor module configured to sense radiation that has traversed the projection system to measure wave front aberrations of the projection system.

摘要翻译： 提供了一种被配置为测量投影系统的波前像差的测量系统以及包括这种测量系统的光刻设备，其中测量系统包括衍射元件和结构，其被配置为增加瞳孔中的瞳孔填充 所述投影系统可移动到辐射系统和投影系统之间的投影光束中;以及传感器模块，被配置为感测已经穿过投影系统的辐射以测量投影系统的波前像差。

公开(公告)号：US07116399B2

公开(公告)日：2006-10-03

申请号：US10844570

申请日：2004-05-13

申请人： Wilhelmus Josephus Box ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Erik Roelof Loopstra ,  Josephus Jacobus Smits ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst

发明人： Wilhelmus Josephus Box ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Erik Roelof Loopstra ,  Josephus Jacobus Smits ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54 ,  G02B7/02

CPC分类号： G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/709 ,  G03F7/70991

摘要： A lithographic projection apparatus contains a projection system configured to project a patterned beam of radiation onto a target portion of a substrate. The projection system contains one or more optically active mirrors and heat shields located to intercept heat radiation to or from the mirrors and/or their support. The heat shields are actively cooled and the mirrors and the heat shields and the mirrors are supported separately on a support frame to reduce vibration of the mirrors due to active cooling. The heat shields may include heat shields that intercept heat radiation to or from the support and/or respective heat shields for individual mirrors that intercept heat radiation to or from the mirrors.

摘要翻译： 光刻投影设备包含投影系统，该投影系统配置成将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上。 投影系统包含一个或多个光学反射镜和隔热罩，其被定位成拦截到达镜子和/或其支撑件的热辐射。 热屏蔽被主动冷却，镜子和隔热罩和镜子分别支撑在支撑框架上，以减少由于主动冷却引起的反射镜振动。 隔热罩可以包括热屏蔽件，该隔热板截取向支撑和/或相应的隔热板的热辐射，用于隔离到或从反射镜散发的各个反射镜。

公开(公告)号：US06741329B2

公开(公告)日：2004-05-25

申请号：US10235854

申请日：2002-09-06

申请人： Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Erik Roelof Loopstra ,  Noud Jan Gilissen ,  Markus Franciscus Antonius Eurlings

发明人： Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Erik Roelof Loopstra ,  Noud Jan Gilissen ,  Markus Franciscus Antonius Eurlings

IPC分类号： G03B2742

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70558

摘要： An illumination intensity adjustment device includes a plurality of blades disposed in the projection beam so as to cast half-shadows extending across the illumination field. The blades can be selectively rotated to increase their width perpendicular to the projection beam to control uniformity.

摘要翻译： 照明强度调节装置包括设置在投影光束中的多个叶片，以便投射横过照明场的半阴影。 叶片可以选择性地旋转以增加它们垂直于投影光束的宽度，以控制均匀性。

公开(公告)号：US07492443B2

公开(公告)日：2009-02-17

申请号：US11023359

申请日：2004-12-29

申请人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

发明人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

IPC分类号： G03B27/68 ,  G03B27/42 ,  G03F9/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/703

摘要： A device manufacturing method according to one embodiment of the invention includes positioning a reflective patterning structure to reflect at least a portion of a beam of radiation as a patterned beam of radiation having a pattern in its cross-section. The method also includes using a projection system to project the patterned beam of radiation to form an image on a target portion of a layer of radiation-sensitive material. Positioning includes at least one among shifting and tilting a nominal reflective surface of the reflective patterning structure with respect to a nominal object plane of the projection system according to a distortion value.

摘要翻译： 根据本发明的一个实施例的器件制造方法包括定位反射图案形成结构以将辐射束的至少一部分反射为在其横截面中具有图案的图案化辐射束。 该方法还包括使用投影系统投影图案化的辐射束以在辐射敏感材料层的目标部分上形成图像。 定位包括根据失真值相对于投影系统的标称物平面移动和倾斜反射图案形成结构的标称反射表面中的至少一个。

公开(公告)号：US06781673B2

公开(公告)日：2004-08-24

申请号：US09934698

申请日：2001-08-23

申请人： Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Henri Gerard Cato Werij ,  Hugo Matthieu Visser ,  Gerrit-Jan Heerens ,  Erik Leonardus Ham ,  Hans Meiling ,  Erik Roelof Loopstra ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders

发明人： Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Henri Gerard Cato Werij ,  Hugo Matthieu Visser ,  Gerrit-Jan Heerens ,  Erik Leonardus Ham ,  Hans Meiling ,  Erik Roelof Loopstra ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders

IPC分类号： G03B2762

CPC分类号： G03F7/70558 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70983

摘要： In a lithographic projection apparatus, an object such as a mask is shielded from stray particles by a particle shield using electromagnetic fields. The fields may be a uniform electric field, a non-uniform electric field or an optical breeze. The particle shield is fixed to the mask holder rather than the mask.

摘要翻译： 在光刻投影装置中，通过使用电磁场的粒子屏蔽物将诸如掩模的物体与杂散颗粒屏蔽。 这些场可以是均匀的电场，不均匀的电场或光学微风。 颗粒屏蔽固定在面罩支架而不是面罩上。

公开(公告)号：US20050146703A1

公开(公告)日：2005-07-07

申请号：US11023359

申请日：2004-12-29

申请人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

发明人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

IPC分类号： G03F1/16 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/703

摘要： A device manufacturing method according to one embodiment of the invention includes positioning a reflective patterning structure to reflect at least a portion of a beam of raditaion as a patterned beam of radiation having a pattern in its cross-section. The method also includes using a projection system to project the patterned beam of radiation to form an image on a target portion of a layer of radiation-sensitive material. Positioning includes at least one among shifting and tilting a nominal reflective surface of the reflective patterning structure with respect to a nominal object plane of the projection system according to a distortion value.

摘要翻译： 根据本发明的一个实施例的器件制造方法包括定位反射图案形成结构，以将辐射束的至少一部分反射为在其横截面中具有图案的图案化的辐射束。 该方法还包括使用投影系统投影图案化的辐射束以在辐射敏感材料层的目标部分上形成图像。 定位包括根据失真值相对于投影系统的标称物平面移动和倾斜反射图案形成结构的标称反射表面中的至少一个。

公开(公告)号：US06879374B2

公开(公告)日：2005-04-12

申请号：US10173559

申请日：2002-06-18

申请人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

发明人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

IPC分类号： G03F1/16 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/68 ,  G03B27/42 ,  G03C5/00 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/703

摘要： A device manufacturing method according to one embodiment of the invention includes positioning a reflective patterning structure to reflect at least a portion of a beam of radiation as a patterned beam of radiation having a pattern in its cross-section. The method also includes using a projection system to project the patterned beam of radiation to form an image on a target portion of a layer of radiation-sensitive material. Positioning includes at least one among shifting and tilting a nominal reflective surface of the reflective patterning structure with respect to a nominal object plane of the projection system according to a distortion value.

摘要翻译： 根据本发明的一个实施例的器件制造方法包括定位反射图案形成结构以将辐射束的至少一部分反射为在其横截面中具有图案的图案化辐射束。 该方法还包括使用投影系统投影图案化的辐射束以在辐射敏感材料层的目标部分上形成图像。 定位包括根据失真值相对于投影系统的标称物平面移动和倾斜反射图案形成结构的标称反射表面中的至少一个。

公开(公告)号：US07095479B2

公开(公告)日：2006-08-22

申请号：US10738981

申请日：2003-12-19

申请人： Lucas Henricus Johannes Stevens ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors

发明人： Lucas Henricus Johannes Stevens ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70925 ,  B08B7/0035

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed. The apparatus includes a radiation system that provides a beam of radiation, and a support structure that supports a patterning structure. The patterning structure is configured to pattern the beam of radiation according to a desired pattern. The apparatus also includes a substrate support that supports a substrate, a projection system that projects the patterned beam onto a target portion of the substrate, a plurality of optical elements that form part of at least one of the radiation system, the patterning structure, and the projection system; and a cleaning device. The cleaning device includes at least one cleaning beam of radiation, and a gas. The cleaning device is configured to clean an individual optical element or a subset of the plurality of optical elements.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置。 该装置包括提供辐射束的辐射系统和支撑图形结构的支撑结构。 图形结构被配置为根据期望的图案对辐射束进行图案化。 该装置还包括支撑基板的基板支撑件，将图案化的光束投影到基板的目标部分上的投影系统，形成辐射系统，图案形成结构和至少一个的一部分的多个光学元件 投影系统; 和清洁装置。 清洁装置包括至少一个清洁的辐射束和气体。 清洁装置被配置为清洁单个光学元件或多个光学元件的子集。

公开(公告)号：US07042550B2

公开(公告)日：2006-05-09

申请号：US10716939

申请日：2003-11-20

申请人： Martin Lowisch ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Koen Van Ingen Schenau ,  Hans Van Der Laan ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Elaine McCoo ,  Uwe Mickan

发明人： Martin Lowisch ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Koen Van Ingen Schenau ,  Hans Van Der Laan ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Elaine McCoo ,  Uwe Mickan

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/32 ,  G03F1/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/706

摘要： System aberrations are effected in a projection system of a lithographic apparatus to optimize imaging of a thick reflective mask with a thick absorber that is obliquely illuminated. The aberrations may include Z5 astigmatism, Z9 spherical, and Z12 astigmatism.

摘要翻译： 系统像差在光刻设备的投影系统中实现，以优化具有倾斜照明的厚吸收体的厚反射掩模的成像。 像差可能包括Z 5散光，Z 9球形和Z 12散光。

公开(公告)号：US09158206B2

公开(公告)日：2015-10-13

申请号：US13032222

申请日：2011-02-22

申请人： Anthonius Martinus Cornelis Petrus De Jong ,  Hans Jansen ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Antonius Johannus Van Der Net ,  Peter Franciscus Wanten ,  Jacques Cor Johan Van Der Donck ,  Robert Douglas Watso ,  Teunis Cornelis Van Den Dool ,  Nadja Schuh ,  Jan Willem Cromwijk

发明人： Anthonius Martinus Cornelis Petrus De Jong ,  Hans Jansen ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Antonius Johannus Van Der Net ,  Peter Franciscus Wanten ,  Jacques Cor Johan Van Der Donck ,  Robert Douglas Watso ,  Teunis Cornelis Van Den Dool ,  Nadja Schuh ,  Jan Willem Cromwijk

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70925

摘要： An immersion lithographic apparatus is cleaned by use of a cleaning liquid consisting essentially of ultra-pure water and (a) a mixture of hydrogen peroxide and ozone, or (b) hydrogen peroxide at a concentration of up to 5%, or (c) ozone at a concentration of up to 50 ppm, or (d) oxygen at concentration of up to 10 ppm, or (e) any combination selected from (a)-(d).

摘要翻译： 或（c）过氧化氢和臭氧的混合物，或（b）浓度高达5％的过氧化氢，或（c） 浓度高达50ppm的臭氧，或（d）浓度高达10ppm的氧，或（e）选自（a） - （d）的任何组合。