公开(公告)号：US07095479B2

公开(公告)日：2006-08-22

申请号：US10738981

申请日：2003-12-19

申请人： Lucas Henricus Johannes Stevens ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors

发明人： Lucas Henricus Johannes Stevens ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70925 ,  B08B7/0035

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed. The apparatus includes a radiation system that provides a beam of radiation, and a support structure that supports a patterning structure. The patterning structure is configured to pattern the beam of radiation according to a desired pattern. The apparatus also includes a substrate support that supports a substrate, a projection system that projects the patterned beam onto a target portion of the substrate, a plurality of optical elements that form part of at least one of the radiation system, the patterning structure, and the projection system; and a cleaning device. The cleaning device includes at least one cleaning beam of radiation, and a gas. The cleaning device is configured to clean an individual optical element or a subset of the plurality of optical elements.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置。 该装置包括提供辐射束的辐射系统和支撑图形结构的支撑结构。 图形结构被配置为根据期望的图案对辐射束进行图案化。 该装置还包括支撑基板的基板支撑件，将图案化的光束投影到基板的目标部分上的投影系统，形成辐射系统，图案形成结构和至少一个的一部分的多个光学元件 投影系统; 和清洁装置。 清洁装置包括至少一个清洁的辐射束和气体。 清洁装置被配置为清洁单个光学元件或多个光学元件的子集。

公开(公告)号：US20050146703A1

公开(公告)日：2005-07-07

申请号：US11023359

申请日：2004-12-29

申请人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

发明人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

IPC分类号： G03F1/16 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/703

摘要： A device manufacturing method according to one embodiment of the invention includes positioning a reflective patterning structure to reflect at least a portion of a beam of raditaion as a patterned beam of radiation having a pattern in its cross-section. The method also includes using a projection system to project the patterned beam of radiation to form an image on a target portion of a layer of radiation-sensitive material. Positioning includes at least one among shifting and tilting a nominal reflective surface of the reflective patterning structure with respect to a nominal object plane of the projection system according to a distortion value.

摘要翻译： 根据本发明的一个实施例的器件制造方法包括定位反射图案形成结构，以将辐射束的至少一部分反射为在其横截面中具有图案的图案化的辐射束。 该方法还包括使用投影系统投影图案化的辐射束以在辐射敏感材料层的目标部分上形成图像。 定位包括根据失真值相对于投影系统的标称物平面移动和倾斜反射图案形成结构的标称反射表面中的至少一个。

公开(公告)号：US06879374B2

公开(公告)日：2005-04-12

申请号：US10173559

申请日：2002-06-18

申请人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

发明人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

IPC分类号： G03F1/16 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/68 ,  G03B27/42 ,  G03C5/00 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/703

摘要： A device manufacturing method according to one embodiment of the invention includes positioning a reflective patterning structure to reflect at least a portion of a beam of radiation as a patterned beam of radiation having a pattern in its cross-section. The method also includes using a projection system to project the patterned beam of radiation to form an image on a target portion of a layer of radiation-sensitive material. Positioning includes at least one among shifting and tilting a nominal reflective surface of the reflective patterning structure with respect to a nominal object plane of the projection system according to a distortion value.

摘要翻译： 根据本发明的一个实施例的器件制造方法包括定位反射图案形成结构以将辐射束的至少一部分反射为在其横截面中具有图案的图案化辐射束。 该方法还包括使用投影系统投影图案化的辐射束以在辐射敏感材料层的目标部分上形成图像。 定位包括根据失真值相对于投影系统的标称物平面移动和倾斜反射图案形成结构的标称反射表面中的至少一个。

公开(公告)号：US07492443B2

公开(公告)日：2009-02-17

申请号：US11023359

申请日：2004-12-29

申请人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

发明人： Jan Evert Van Der Werf ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hans Meiling ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders

IPC分类号： G03B27/68 ,  G03B27/42 ,  G03F9/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/703

摘要： A device manufacturing method according to one embodiment of the invention includes positioning a reflective patterning structure to reflect at least a portion of a beam of radiation as a patterned beam of radiation having a pattern in its cross-section. The method also includes using a projection system to project the patterned beam of radiation to form an image on a target portion of a layer of radiation-sensitive material. Positioning includes at least one among shifting and tilting a nominal reflective surface of the reflective patterning structure with respect to a nominal object plane of the projection system according to a distortion value.

摘要翻译： 根据本发明的一个实施例的器件制造方法包括定位反射图案形成结构以将辐射束的至少一部分反射为在其横截面中具有图案的图案化辐射束。 该方法还包括使用投影系统投影图案化的辐射束以在辐射敏感材料层的目标部分上形成图像。 定位包括根据失真值相对于投影系统的标称物平面移动和倾斜反射图案形成结构的标称反射表面中的至少一个。

公开(公告)号：US06781673B2

公开(公告)日：2004-08-24

申请号：US09934698

申请日：2001-08-23

申请人： Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Henri Gerard Cato Werij ,  Hugo Matthieu Visser ,  Gerrit-Jan Heerens ,  Erik Leonardus Ham ,  Hans Meiling ,  Erik Roelof Loopstra ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders

发明人： Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Henri Gerard Cato Werij ,  Hugo Matthieu Visser ,  Gerrit-Jan Heerens ,  Erik Leonardus Ham ,  Hans Meiling ,  Erik Roelof Loopstra ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders

IPC分类号： G03B2762

CPC分类号： G03F7/70558 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70983

摘要： In a lithographic projection apparatus, an object such as a mask is shielded from stray particles by a particle shield using electromagnetic fields. The fields may be a uniform electric field, a non-uniform electric field or an optical breeze. The particle shield is fixed to the mask holder rather than the mask.

摘要翻译： 在光刻投影装置中，通过使用电磁场的粒子屏蔽物将诸如掩模的物体与杂散颗粒屏蔽。 这些场可以是均匀的电场，不均匀的电场或光学微风。 颗粒屏蔽固定在面罩支架而不是面罩上。

公开(公告)号：US06940587B2

公开(公告)日：2005-09-06

申请号：US10670801

申请日：2003-09-26

申请人： Hans Van Der Laan ,  Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Johannes Hubertus Josephina Moors

发明人： Hans Van Der Laan ,  Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Johannes Hubertus Josephina Moors

IPC分类号： G01M11/02 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/52 ,  G03B27/54 ,  G03B27/68

CPC分类号： G03F7/706

摘要： A measurement system configured to measure wave front aberrations of a projection system, as well as a lithographic apparatus including such a measurement system, is provided wherein the measurement system includes a diffractive element and structure configured to increase the pupil filling of the radiation in the pupil of the projection system, both movable into the projection beam between a radiation system and the projection system, and a sensor module configured to sense radiation that has traversed the projection system to measure wave front aberrations of the projection system.

摘要翻译： 提供了一种被配置为测量投影系统的波前像差的测量系统以及包括这种测量系统的光刻设备，其中测量系统包括衍射元件和结构，其被配置为增加瞳孔中的瞳孔填充 所述投影系统可移动到辐射系统和投影系统之间的投影光束中;以及传感器模块，被配置为感测已经穿过投影系统的辐射以测量投影系统的波前像差。

公开(公告)号：US06741329B2

公开(公告)日：2004-05-25

申请号：US10235854

申请日：2002-09-06

申请人： Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Erik Roelof Loopstra ,  Noud Jan Gilissen ,  Markus Franciscus Antonius Eurlings

发明人： Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Erik Roelof Loopstra ,  Noud Jan Gilissen ,  Markus Franciscus Antonius Eurlings

IPC分类号： G03B2742

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70558

摘要： An illumination intensity adjustment device includes a plurality of blades disposed in the projection beam so as to cast half-shadows extending across the illumination field. The blades can be selectively rotated to increase their width perpendicular to the projection beam to control uniformity.

摘要翻译： 照明强度调节装置包括设置在投影光束中的多个叶片，以便投射横过照明场的半阴影。 叶片可以选择性地旋转以增加它们垂直于投影光束的宽度，以控制均匀性。

公开(公告)号：US07897110B2

公开(公告)日：2011-03-01

申请号：US11311623

申请日：2005-12-20

申请人： Vadim Yevgenyevich Banine ,  Levinus Pieter Bakker ,  Ralph Kurt ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Lucas Henricus Johannes Stevens ,  Peter Cornelis Zalm

发明人： Vadim Yevgenyevich Banine ,  Levinus Pieter Bakker ,  Ralph Kurt ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Lucas Henricus Johannes Stevens ,  Peter Cornelis Zalm

IPC分类号： G01N7/00

CPC分类号： G01N25/142 ,  G01N25/68 ,  Y10T436/25875

摘要： A system for detecting at least one contamination species in an interior space of a lithographic apparatus, including: at least one monitoring surface configured to be in contact with the interior space, a thermal controller configured to control the temperature of the monitoring surface to at least one detection temperature, and at least one detector configured to detect condensation of the at least one contamination species onto the monitoring surface.

摘要翻译： 一种用于检测光刻设备的内部空间中的至少一种污染物质的系统，包括：被配置为与所述内部空间接触的至少一个监测表面;被配置为将所述监测表面的温度控制在至少 一个检测温度，以及至少一个检测器，被配置为检测所述至少一种污染物质到所述监测表面上的冷凝。

公开(公告)号：US08445873B2

公开(公告)日：2013-05-21

申请号：US13478446

申请日：2012-05-23

申请人： Vadim Yevgenyevich Banine ,  Levinus Pieter Bakker ,  Ralph Kurt ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Lucas Henricus Johannes Stevens ,  Peter Cornelis Zalm

发明人： Vadim Yevgenyevich Banine ,  Levinus Pieter Bakker ,  Ralph Kurt ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Lucas Henricus Johannes Stevens ,  Peter Cornelis Zalm

IPC分类号： G21G5/00

CPC分类号： G01N25/142 ,  G01N25/68 ,  Y10T436/25875

摘要： A system for detecting at least one contamination species in an interior space of a lithographic apparatus, including: at least one monitoring surface configured to be in contact with the interior space, a thermal controller configured to control the temperature of the monitoring surface to at least one detection temperature, and at least one detector configured to detect condensation of the at least one contamination species onto the monitoring surface.

摘要翻译： 一种用于检测光刻设备的内部空间中的至少一种污染物质的系统，包括：被配置为与所述内部空间接触的至少一个监测表面;被配置为将所述监测表面的温度控制在至少 一个检测温度，以及至少一个检测器，被配置为检测所述至少一种污染物质到所述监测表面上的冷凝。

公开(公告)号：US20110037960A1

公开(公告)日：2011-02-17

申请号：US12989045

申请日：2009-04-16

申请人： Luigi Scaccabarozzi ,  Vladimir Vitalevich Ivanov ,  Konstantin Nikolaevich Koshelev ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Lucas Henricus Johannes Stevens ,  Pavel Stanislavoich Antsiferov ,  Vladimir Mihailovitch Krivtsun ,  Leonid Alexandrovich Dorokhin ,  Maarten Van Kampen

发明人： Luigi Scaccabarozzi ,  Vladimir Vitalevich Ivanov ,  Konstantin Nikolaevich Koshelev ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Lucas Henricus Johannes Stevens ,  Pavel Stanislavoich Antsiferov ,  Vladimir Mihailovitch Krivtsun ,  Leonid Alexandrovich Dorokhin ,  Maarten Van Kampen

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70925

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a beam of radiation, and a support structure configured to support a patterning device. The patterning device is configured to impart a pattern to the beam of radiation. The apparatus includes a patterning device cleaning system configured to provide an electrostatic force to contaminant particles that are on the patterning device and that are electrically charged by the beam of radiation, in order to remove the contaminant particles from the patterning device.

摘要翻译： 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统和被配置为支撑图案形成装置的支撑结构。 图案形成装置被配置为向辐射束施加图案。 该装置包括图案形成装置清洁系统，该图案形成装置清洁系统被配置为向图案形成装置上的污染物颗粒提供静电力，并且由辐射束对其进行带电，以便从图案形成装置移除污染物颗粒。