公开(公告)号：US08039202B2

公开(公告)日：2011-10-18

申请号：US11877891

申请日：2007-10-24

申请人： Yu Sui ,  Hengpeng Wu ,  Wenbing Kang ,  Mark O. Neisser ,  Tomohide Katayama ,  Shuji S. Ding-Lee ,  Aritaka Hishida ,  Joseph E. Oberlander ,  Medhat E. Toukhy

发明人： Yu Sui ,  Hengpeng Wu ,  Wenbing Kang ,  Mark O. Neisser ,  Tomohide Katayama ,  Shuji S. Ding-Lee ,  Aritaka Hishida ,  Joseph E. Oberlander ,  Medhat E. Toukhy

IPC分类号： G03F7/26

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/115 ,  Y10S438/952

摘要： The present invention relates to a positive bottom photoimageable antireflective coating composition which is capable of being developed in an aqueous alkaline developer, wherein the antireflective coating composition comprises a polymer comprising at least one recurring unit with a chromophore group and one recurring unit with a hydroxyl and/or a carboxyl group, a vinyl ether terminated crosslinking agent, and optionally, a photoacid generator and/or an acid and/or a thermal acid generator. The invention further relates to a process for using such a composition.

摘要翻译： 本发明涉及能够在含水碱性显影剂中显影的正底部可光成像抗反射涂料组合物，其中抗反射涂料组合物包含含有至少一个具有发色团的重复单元的聚合物和一个具有羟基的重复单元， /或羧基，乙烯基醚封端的交联剂，以及任选的光酸产生剂和/或酸和/或热酸发生剂。 本发明还涉及使用这种组合物的方法。

公开(公告)号：US07824837B2

公开(公告)日：2010-11-02

申请号：US11876332

申请日：2007-10-22

申请人： Hengpeng Wu ,  Mark O. Neisser ,  Shuji S Ding-Lee ,  Aritaka Hishida ,  Joseph E. Oberlander ,  Medhat E. Toukhy

发明人： Hengpeng Wu ,  Mark O. Neisser ,  Shuji S Ding-Lee ,  Aritaka Hishida ,  Joseph E. Oberlander ,  Medhat E. Toukhy

IPC分类号： G03F7/095 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/115 ,  Y10S438/952

摘要： The present invention relates to a positive bottom photoimageable antireflective coating composition which is capable of being developed in an aqueous alkaline developer, wherein the antireflective coating composition comprises a polymer comprising at least one recurring unit with a chromophore group and one recurring unit with a hydroxyl and/or a carboxyl group, a vinyl ether terminated crosslinking agent, and optionally, a photoacid generator and/or an acid and/or a thermal acid generator. The invention further relates to a process for using such a composition.

摘要翻译： 本发明涉及能够在含水碱性显影剂中显影的正底部可光成像抗反射涂料组合物，其中抗反射涂料组合物包含含有至少一个具有发色团的重复单元的聚合物和一个具有羟基的重复单元， /或羧基，乙烯基醚封端的交联剂，以及任选的光酸产生剂和/或酸和/或热酸发生剂。 本发明还涉及使用这种组合物的方法。

公开(公告)号：US07264913B2

公开(公告)日：2007-09-04

申请号：US10301462

申请日：2002-11-21

申请人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Joseph E. Oberlander ,  Mark O. Neisser ,  Eleazar Gonzalez ,  Jainhui Shan

发明人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Joseph E. Oberlander ,  Mark O. Neisser ,  Eleazar Gonzalez ,  Jainhui Shan

IPC分类号： G03C1/825 ,  G03C1/74 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/109 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122

摘要： The present invention relates to a novel antireflective coating composition comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator. The present invention further relates to a process for using the novel composition, particularly at 193 nm. The polymer of the present invention contains at least one unit selected from structures 1, 2 and 3, where, Y is a hydrocarbyl linking group of 1 to about 10 carbon atoms, R, R1, R′ and R″ are independently hydrogen, hydrocarbyl group of 1 to about 10 carbon atoms, halogen, —O(CO)Z, —C(CF3)2Z, —C(CF3)2(CO)OZ, —SO2CF3, —(CO)OZ, —SO3Z, —COZ, —OZ, —NZ2, —SZ, —SO2Z, —NHCOZ, —NZCOZ or —SO2NZ2, where Z is H or a hydrocarbyl group of 1 to about 10 carbon atoms, n=1–4, X is O, CO, S, COO, CH2O, CH2COO, SO2, NH, NL, OWO, OW, W, and where L and W are independently hydrocarbyl groups of 1 to about 10 carbon atoms, and m=0–3.

摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，交联剂和酸发生剂的新型抗反射涂料组合物。 本发明还涉及使用该组合物的方法，特别是在193nm。 本发明的聚合物含有至少一种选自结构1,2和3的单元，其中Y是1至约10个碳原子的烃基连接基团，R 1，R 1，R' 和R“独立地为氢，1至约10个碳原子的烃基，卤素，-O（CO）Z，-C（CF 3）2 Z， -C（CF 3）2（CO）OZ，-SO 2 CF 3 - ， - （CO） OZ，-SO 3 Z，-COZ，-OZ，-NZ 2，-SZ，-SO 2 Z，-NHCOZ， - NZCOZ或-SO 2 NZ 2，其中Z为H或1至约10个碳原子的烃基，n = 1-4，X为O，CO， S，COO，CH 2 O，CH 2 COO，SO 2，NH，NL，OWO，OW，W，其中L和 W独立地为1至约10个碳原子的烃基，并且m = 0-3。

公开(公告)号：US07824844B2

公开(公告)日：2010-11-02

申请号：US11624744

申请日：2007-01-19

申请人： Zhong Xiang ,  Hengpeng Wu ,  Hong Zhuang ,  Eleazar Gonzalez ,  Mark O. Neisser

发明人： Zhong Xiang ,  Hengpeng Wu ,  Hong Zhuang ,  Eleazar Gonzalez ,  Mark O. Neisser

IPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/30 ,  G03F7/11 ,  C08F8/30 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/091 ,  C09D7/20 ,  G03F7/0048

摘要： The invention relates to an antireflective coating composition capable of being coated beneath a photoresist layer, where the antireflective coating composition comprises a polymeric crosslinker and a solvent mixture, where the solvent mixture comprises at least one primary organic solvent and at least one secondary organic solvent selected from any of structures 1, 2 and 3, where, R1, R3, and R4, are selected from H and C1-C6 alkyl, and R2, R5, R6, R7, R8, and R9 are selected from C1-C6 alkyl, and n=1-5. The invention also relates to an antireflective coating composition capable of being coated beneath a photoresist layer, where the antireflective coating composition comprises a polymeric crosslinker and a solvent mixture, where the solvent mixture comprises at least 2 organic solvents, and where the antireflective coating composition has a liquid particle count at 0.2 micron of less than 100/ml after accelerated aging.

摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其能够涂覆在光致抗蚀剂层下面，其中抗反射涂料组合物包含聚合物交联剂和溶剂混合物，其中溶剂混合物包含至少一种主要有机溶剂和至少一种选择的二级有机溶剂 其中R 1，R 3和R 4选自H和C 1 -C 6烷基，R 2，R 5，R 6，R 7，R 8和R 9选自C 1 -C 6烷基， n = 1-5。 本发明还涉及能够涂覆在光致抗蚀剂层下面的抗反射涂料组合物，其中抗反射涂料组合物包含聚合物交联剂和溶剂混合物，其中溶剂混合物包含至少2种有机溶剂，并且其中抗反射涂料组合物具有 在加速老化后，0.2微米的液体颗粒数小于100 / ml。

公开(公告)号：US08088548B2

公开(公告)日：2012-01-03

申请号：US11876793

申请日：2007-10-23

申请人： Francis M. Houlihan ,  Shinji Miyazaki ,  Mark O. Neisser ,  Alberto D. Dioses ,  Joseph E. Oberlander

发明人： Francis M. Houlihan ,  Shinji Miyazaki ,  Mark O. Neisser ,  Alberto D. Dioses ,  Joseph E. Oberlander

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/039

CPC分类号： C07C211/05 ,  C07C55/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/091 ,  G03F7/095

摘要： Developable bottom antireflective coating compositions are provided.

摘要翻译： 提供可开发的底部抗反射涂料组合物。

公开(公告)号：US07070914B2

公开(公告)日：2006-07-04

申请号：US10042878

申请日：2002-01-09

申请人： Mark O. Neisser ,  Joseph E. Oberlander ,  Medhat A. Toukhy ,  Raj Sakamuri ,  Shuji Ding-Lee

发明人： Mark O. Neisser ,  Joseph E. Oberlander ,  Medhat A. Toukhy ,  Raj Sakamuri ,  Shuji Ding-Lee

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/095 ,  Y10S430/151

摘要： Disclosed is a process for forming an image on a substrate, comprising the steps of: (a) coating on the substrate a first layer of a radiation sensitive, antireflective composition; (b) coating a second layer of a photoresist composition onto the first layer of the antireflective composition; (c) selectively exposing the coated substrate from step (b) to actinic radiation; and (d) developing the exposed coated substrate from step (c) to form an image; wherein both the photoresist composition and the antireflective composition are exposed in step (c); both are developed in step (d) using a single developer; wherein the antireflective composition of step (a) is a first minimum bottom antireflective coating (B.A.R.C.) composition, having a solids content of up to about 8% solids, and a maximum coating thickness of the coated substrate of λ 2 ⁢ n wherein λ is the wavelength of the actinic radiation of step (c) and n is the refractive index of the B.A.R.C. composition.

摘要翻译： 公开了一种在衬底上形成图像的方法，包括以下步骤：（a）在衬底上涂覆第一层辐射敏感的抗反射组合物; （b）将第二层光致抗蚀剂组合物涂覆到抗反射组合物的第一层上; （c）将涂覆的基材从步骤（b）选择性暴露于光化辐射; 和（d）将来自步骤（c）的曝光的涂覆的基底显影以形成图像; 其中在步骤（c）中曝光光致抗蚀剂组合物和抗反射组合物; 在步骤（d）中使用单个显影剂开发两者; 其中步骤（a）的抗反射组合物是具有固体含量高达约8％固体的第一最小底部抗反射涂层（BARC）组合物，并且涂覆的基材的最大涂层厚度为