利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

16 条记录 (耗时 0.028 秒)

    Process for producing an image using a first minimum bottom antireflective coating composition
    1.
    发明授权
    Process for producing an image using a first minimum bottom antireflective coating composition 有权
    使用第一最小底部抗反射涂料组合物制造图像的方法

    公开(公告)号：US07070914B2

    公开(公告)日：2006-07-04

    申请号：US10042878

    申请日：2002-01-09

    申请人： Mark O. Neisser ,  Joseph E. Oberlander ,  Medhat A. Toukhy ,  Raj Sakamuri ,  Shuji Ding-Lee

    发明人： Mark O. Neisser ,  Joseph E. Oberlander ,  Medhat A. Toukhy ,  Raj Sakamuri ,  Shuji Ding-Lee

    IPC分类号： G03F7/00

    CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/095 ,  Y10S430/151

    摘要： Disclosed is a process for forming an image on a substrate, comprising the steps of: (a) coating on the substrate a first layer of a radiation sensitive, antireflective composition; (b) coating a second layer of a photoresist composition onto the first layer of the antireflective composition; (c) selectively exposing the coated substrate from step (b) to actinic radiation; and (d) developing the exposed coated substrate from step (c) to form an image; wherein both the photoresist composition and the antireflective composition are exposed in step (c); both are developed in step (d) using a single developer; wherein the antireflective composition of step (a) is a first minimum bottom antireflective coating (B.A.R.C.) composition, having a solids content of up to about 8% solids, and a maximum coating thickness of the coated substrate of λ 2 ⁢ n wherein λ is the wavelength of the actinic radiation of step (c) and n is the refractive index of the B.A.R.C. composition.

    摘要翻译： 公开了一种在衬底上形成图像的方法，包括以下步骤：（a）在衬底上涂覆第一层辐射敏感的抗反射组合物; （b）将第二层光致抗蚀剂组合物涂覆到抗反射组合物的第一层上; （c）将涂覆的基材从步骤（b）选择性暴露于光化辐射; 和（d）将来自步骤（c）的曝光的涂覆的基底显影以形成图像; 其中在步骤（c）中曝光光致抗蚀剂组合物和抗反射组合物; 在步骤（d）中使用单个显影剂开发两者; 其中步骤（a）的抗反射组合物是具有固体含量高达约8％固体的第一最小底部抗反射涂层（BARC）组合物，并且涂覆的基材的最大涂层厚度为 λ 2 n 其中λ是步骤（c）的光化辐射的波长，n是BARC的折射率 组成。

      Positive-working photoimageable bottom antireflective coating
      2.
      发明授权
      Positive-working photoimageable bottom antireflective coating 有权
      正面工作的可光成像底部抗反射涂层

      公开(公告)号：US06844131B2

      公开(公告)日：2005-01-18

      申请号：US10042532

      申请日：2002-01-09

      申请人： Joseph E. Oberlander ,  Ralph R. Dammel ,  Shuji Ding-Lee ,  Mark O. Neisser ,  Medhat A. Toukhy

      发明人： Joseph E. Oberlander ,  Ralph R. Dammel ,  Shuji Ding-Lee ,  Mark O. Neisser ,  Medhat A. Toukhy

      IPC分类号： G03F7/11 ,  A61P29/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/09

      CPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/091 ,  Y10S430/106

      摘要： The present invention relates to a novel absorbing, photoimageable and aqueous developable positive-working antireflective coating composition comprising a photoacid generator and a polymer comprising at least one unit with an acid labile group and at least one unit with an absorbing chromophore. The invention further relates to a process for using such a composition. The present invention also relates to a novel absorbing, photoimageable and aqueous alkali developable positive-working antireflective coating composition comprising a polymer comprising at least one unit with an acid labile group, a dye and a photoacid generator. The invention further relates to a process for using such a composition. The invention also relates to a novel process for forming a positive image with a positive photoresist and a novel photoimageable and aqueous developable positive-working antireflective coating composition, where the antireflective coating comprises a polymer comprising an acid labile group. The invention further relates to such a composition. The invention also relates to a process for imaging a photoimageable antireflective coating composition.

      摘要翻译： 本发明涉及一种新颖的吸收光可成像和水性显影正性抗反射涂料组合物，其包含光酸产生剂和包含至少一个具有酸不稳定基团的单元和至少一个具有吸收发色团的单元的聚合物。 本发明还涉及一种使用这种组合物的方法。 本发明还涉及一种新型的吸收，可光成像和水性碱显影正性抗反射涂料组合物，其包含含有至少一个具有酸不稳定基团的单元，染料和光致酸产生剂的聚合物。 本发明还涉及使用这种组合物的方法。 本发明还涉及一种用正性光致抗蚀剂形成正像的新方法，以及一种新型可光成像和水性可显影正性抗反射涂料组合物，其中抗反射涂层包含含酸不稳定基团的聚合物。 本发明还涉及这种组合物。 本发明还涉及一种用于对可光成象抗反射涂层组合物进行成像的方法。

      Antireflective compositions for photoresists
      3.
      发明授权
      Antireflective compositions for photoresists 有权
      用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

      公开(公告)号：US07264913B2

      公开(公告)日：2007-09-04

      申请号：US10301462

      申请日：2002-11-21

      申请人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Joseph E. Oberlander ,  Mark O. Neisser ,  Eleazar Gonzalez ,  Jainhui Shan

      发明人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Joseph E. Oberlander ,  Mark O. Neisser ,  Eleazar Gonzalez ,  Jainhui Shan

      IPC分类号： G03C1/825 ,  G03C1/74 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36

      CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/109 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122

      摘要： The present invention relates to a novel antireflective coating composition comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator. The present invention further relates to a process for using the novel composition, particularly at 193 nm. The polymer of the present invention contains at least one unit selected from structures 1, 2 and 3, where, Y is a hydrocarbyl linking group of 1 to about 10 carbon atoms, R, R1, R′ and R″ are independently hydrogen, hydrocarbyl group of 1 to about 10 carbon atoms, halogen, —O(CO)Z, —C(CF3)2Z, —C(CF3)2(CO)OZ, —SO2CF3, —(CO)OZ, —SO3Z, —COZ, —OZ, —NZ2, —SZ, —SO2Z, —NHCOZ, —NZCOZ or —SO2NZ2, where Z is H or a hydrocarbyl group of 1 to about 10 carbon atoms, n=1–4, X is O, CO, S, COO, CH2O, CH2COO, SO2, NH, NL, OWO, OW, W, and where L and W are independently hydrocarbyl groups of 1 to about 10 carbon atoms, and m=0–3.

      摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，交联剂和酸发生剂的新型抗反射涂料组合物。 本发明还涉及使用该组合物的方法，特别是在193nm。 本发明的聚合物含有至少一种选自结构1,2和3的单元，其中Y是1至约10个碳原子的烃基连接基团，R 1，R 1，R' 和R“独立地为氢，1至约10个碳原子的烃基，卤素，-O（CO）Z，-C（CF 3）2 Z， -C（CF 3）2（CO）OZ，-SO 2 CF 3 - ， - （CO） OZ，-SO 3 Z，-COZ，-OZ，-NZ 2，-SZ，-SO 2 Z，-NHCOZ， - NZCOZ或-SO 2 NZ 2，其中Z为H或1至约10个碳原子的烃基，n = 1-4，X为O，CO， S，COO，CH 2 O，CH 2 COO，SO 2，NH，NL，OWO，OW，W，其中L和 W独立地为1至约10个碳原子的烃基，并且m = 0-3。

      Process for producing an image using a first minimum bottom antireflective coating composition
      4.
      发明申请
      Process for producing an image using a first minimum bottom antireflective coating composition 审中-公开
      使用第一最小底部抗反射涂料组合物制造图像的方法

      公开(公告)号：US20060199103A1

      公开(公告)日：2006-09-07

      申请号：US11416240

      申请日：2006-05-02

      申请人： Mark Neisser ,  Joseph Oberlander ,  Medhat Toukhy ,  Raj Sakamuri ,  Shuji Ding-Lee

      发明人： Mark Neisser ,  Joseph Oberlander ,  Medhat Toukhy ,  Raj Sakamuri ,  Shuji Ding-Lee

      IPC分类号： G03F7/004

      CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/095 ,  Y10S430/151

      摘要： Disclosed is a process for forming an image on a substrate, comprising the steps of: (a) coating on the substrate a first layer of a radiation sensitive, antireflective composition; (b) coating a second layer of a photoresist composition onto the first layer of the antireflective composition; (c) selectively exposing the coated substrate from step (b) to actinic radiation; and (d) developing the exposed coated substrate from step (c) to form an image; wherein both the photoresist composition and the antireflective composition are exposed in step (c); both are developed in step (d) using a single developer; wherein the antireflective composition of step (a) is a first minimum bottom antireflective coating (B.A.R.C.) composition, having a solids content of up to about 8% solids, and a maximum coating thickness of the coated substrate of λ/2n wherein λ is the wavelength of the actinic radiation of step (c) and n is the refractive index of the B.A.R.C. composition.

      摘要翻译： 公开了一种在衬底上形成图像的方法，包括以下步骤：（a）在衬底上涂覆第一层辐射敏感的抗反射组合物; （b）将第二层光致抗蚀剂组合物涂覆到抗反射组合物的第一层上; （c）将涂覆的基材从步骤（b）选择性暴露于光化辐射; 和（d）将来自步骤（c）的曝光的涂覆的基底显影以形成图像; 其中在步骤（c）中曝光光致抗蚀剂组合物和抗反射组合物; 在步骤（d）中使用单个显影剂开发两者; 其中步骤（a）的抗反射组合物是第一最小底部抗反射涂层（BARC）组合物，其固体含量高达约8％固体，并且涂覆的基底的最大涂层厚度为λ/ 2n，其中λ为 步骤（c）的光化辐射的波长，n是BARC的折射率 组成。

      Antireflective compositions for photoresists
      8.
      发明授权
      Antireflective compositions for photoresists 有权
      用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

      公开(公告)号：US07691556B2

      公开(公告)日：2010-04-06

      申请号：US11159002

      申请日：2005-06-22

      申请人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Aritaka Hishida ,  Jianhui Shan ,  Hong Zhuang

      发明人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Aritaka Hishida ,  Jianhui Shan ,  Hong Zhuang

      IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

      CPC分类号： G03F7/091

      摘要： The present invention relates to a coating solution comprising a polymer obtained by reacting a glycoluril compound with at least one reactive compound containing at least one hydroxy group and/or at least one acid group, and further where the polymer is soluble in an organic solvent. The invention also relates to a process for imaging a photoresist coated over such a coating composition and to a polymer for the coating composition.

      摘要翻译： 本发明涉及一种包含通过使甘脲化合物与至少一种含有至少一个羟基和/或至少一个酸基团的反应性化合物反应而得到的聚合物的涂层溶液，此外，聚合物可溶于有机溶剂中。 本发明还涉及一种用于对涂覆在这种涂料组合物上的光致抗蚀剂和用于涂料组合物的聚合物进行成像的方法。