公开(公告)号：US5227280A

公开(公告)日：1993-07-13

申请号：US754847

申请日：1991-09-04

申请人： James A. Jubinsky ,  Steven M. Katz ,  Christopher F. Lyons ,  Wayne M. Moreau

发明人： James A. Jubinsky ,  Steven M. Katz ,  Christopher F. Lyons ,  Wayne M. Moreau

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/037 ,  G03F7/039 ,  G03F7/09 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/094

摘要： A PMGI bilayer resist for integrated circuit fabrication having increased sensitivity to light and formed by the addition of cyclic anhydrides to the resist and the formation of an accompanying bilayer resist structure of a portable conforming mask having a desirable undercut profile for lift-off of patterned metallic circuitry.

摘要翻译： 用于集成电路制造的PMGI双层抗蚀剂具有增加的光的灵敏度并通过向抗蚀剂添加环状酸酐形成，并形成具有用于剥离图案化金属的期望的底切轮廓的便携式贴合掩模的伴随双层抗蚀剂结构 电路。

公开(公告)号：US5821036A

公开(公告)日：1998-10-13

申请号：US960105

申请日：1997-10-27

申请人： Stanley A. Ficner ,  John Magvas ,  Christopher F. Lyons ,  Wayne M. Moreau ,  Marina V. Plat

发明人： Stanley A. Ficner ,  John Magvas ,  Christopher F. Lyons ,  Wayne M. Moreau ,  Marina V. Plat

IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/32 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/322

摘要： A method and composition for developing positive photoresists is illustrated. The developer of the present invention includes an ammonium hydroxide aqueous base and a surfactant of the fluorinated alkyl alkoxylate class most preferably present in an amount of from 10 to 30 ppm. A particularly preferred surfactant includes sulfonyl and amine moieties.

摘要翻译： 示出了用于开发正性光致抗蚀剂的方法和组合物。 本发明的显影剂包括氢氧化铵水性碱和氟化烷基烷氧基化物类的表面活性剂，最优选以10至30ppm的量存在。 特别优选的表面活性剂包括磺酰基和胺部分。

公开(公告)号：US5744537A

公开(公告)日：1998-04-28

申请号：US863678

申请日：1997-05-27

申请人： William R. Brunsvold ,  George J. Hefferon ,  Christopher F. Lyons ,  Wayne M. Moreau ,  Robert L. Wood

发明人： William R. Brunsvold ,  George J. Hefferon ,  Christopher F. Lyons ,  Wayne M. Moreau ,  Robert L. Wood

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08L27/12 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/092 ,  Y10T428/3154

摘要： Enhanced fidelity of pattern transfer of aqueous developable photoresist compositions is achieved with top antirefective coatings which are fluorine-containing and have a refractive index approximately equal to the square root of the underlying photoresist and which are removable in the developer for the photoresist.

摘要翻译： 水性可显影光致抗蚀剂组合物的图案转印的增强的保真度是通过含氟的顶部抗有效涂层实现的，其折射率近似等于下面光致抗蚀剂的平方根，并且可在光致抗蚀剂的显影剂中除去。

公开(公告)号：US5554485A

公开(公告)日：1996-09-10

申请号：US315271

申请日：1994-09-29

申请人： Robert R. Dichiara ,  James T. Fahey ,  Pamela E. Jones ,  Christopher F. Lyons ,  Wayne M. Moreau ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Gary T. Spinillo ,  Kevin M. Welsh ,  Robert L. Wood

发明人： Robert R. Dichiara ,  James T. Fahey ,  Pamela E. Jones ,  Christopher F. Lyons ,  Wayne M. Moreau ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Gary T. Spinillo ,  Kevin M. Welsh ,  Robert L. Wood

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S522/904

摘要： An antireflective coating composition for use with chemically amplified photoresist compositions comprising a polymer composition which is highly absorbent to mid and deep UV radiation, which is substantially inert to contact reactions with a chemically amplified photoresist composition, and which is insoluble in the developer for the chemically amplified photoresist composition.

公开(公告)号：US5401614A

公开(公告)日：1995-03-28

申请号：US17938

申请日：1993-02-16

申请人： Robert R. Dichiara ,  James T. Fahey ,  Pamela E. Jones ,  Christopher F. Lyons ,  Wayne M. Moreau ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Gary T. Spinillo ,  Kevin M. Welsh ,  Robert L. Wood

发明人： Robert R. Dichiara ,  James T. Fahey ,  Pamela E. Jones ,  Christopher F. Lyons ,  Wayne M. Moreau ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Gary T. Spinillo ,  Kevin M. Welsh ,  Robert L. Wood

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S522/904

摘要： An antireflective coating composition for use with chemically amplified photoresist compositions comprising a polymer composition which is highly absorbent to mid and deep UV radiation, which is substantially inert to contact reactions with a chemically amplified photoresist composition, and which is insoluble in the developer for the chemically amplified photoresist composition.

摘要翻译： 一种用于化学放大光致抗蚀剂组合物的抗反射涂料组合物，其包含对中和深紫外线辐射具有高度吸收性的聚合物组合物，其对于与化学放大的光致抗蚀剂组合物的接触反应基本上是惰性的，并且其不溶于用于化学 放大的光致抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US6057080A

公开(公告)日：2000-05-02

申请号：US987073

申请日：1997-12-09

申请人： William R. Brunsvold ,  George J. Hefferon ,  Christopher F. Lyons ,  Wayne M. Moreau ,  Robert L. Wood

发明人： William R. Brunsvold ,  George J. Hefferon ,  Christopher F. Lyons ,  Wayne M. Moreau ,  Robert L. Wood

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08L27/12 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/092

摘要： Enhanced fidelity of pattern transfer of aqueous developable photoresist compositions is achieved with top antireflective coatings which are fluorine-containing and have a refractive index approximately equal to the square root of the underlying photoresist and which are removable in the developer for the photoresist.

摘要翻译： 水性可显影光致抗蚀剂组合物的图案转印的增强的保真度是通过含氟的顶部抗反射涂层实现的，其折射率近似等于下面的光致抗蚀剂的平方根，并且可在光致抗蚀剂的显影剂中除去。

公开(公告)号：US5240812A

公开(公告)日：1993-08-31

申请号：US793884

申请日：1991-11-18

申请人： Willard E. Conley ,  Ranee W. Kwong ,  Richard J. Kvitek ,  Robert N. Lang ,  Christopher F. Lyons ,  Steve S. Miura ,  Wayne M. Moreau ,  Harbans S. Sachdev ,  Robert L. Wood

发明人： Willard E. Conley ,  Ranee W. Kwong ,  Richard J. Kvitek ,  Robert N. Lang ,  Christopher F. Lyons ,  Steve S. Miura ,  Wayne M. Moreau ,  Harbans S. Sachdev ,  Robert L. Wood

IPC分类号： G03F7/09

CPC分类号： G03F7/092

摘要： A protective material for use as an overcoating film for acid catalyzed resist compositions comprising a polymeric film forming compound, the films of which are impermeable to vapors of organic and inorganic bases.

摘要翻译： 用作酸催化抗蚀剂组合物的外涂膜的保护材料，其包含聚合物成膜化合物，其膜对有机和无机碱的蒸气是不可渗透的。

公开(公告)号：US20080227030A1

公开(公告)日：2008-09-18

申请号：US10597904

申请日：2004-02-11

申请人： Wayne M. Moreau ,  Marie Angelopoulos ,  Wu-Song Huang ,  David R. Medeiros ,  Karen E. Petrillo

发明人： Wayne M. Moreau ,  Marie Angelopoulos ,  Wu-Song Huang ,  David R. Medeiros ,  Karen E. Petrillo

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/34

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F1/78 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/143

摘要： Resist compositions having good footing properties even on difficult substrates are obtained by using a combination of base additives including a room temperature solid base, and a liquid low vapor pressure base. The compositions are especially useful on metal substrates such as chromium-containing layers commonly used in mask-making.

摘要翻译： 通过使用包括室温固体碱和液体低蒸气压基料的基础添加剂的组合，可获得即使在困难的基材上也具有良好基础性能的抗蚀剂组合物。 该组合物在通常用于掩模制造的金属基材如含铬层上特别有用。

公开(公告)号：US06927393B2

公开(公告)日：2005-08-09

申请号：US10320835

申请日：2002-12-16

申请人： John M. Cotte ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  Keith R. Pope ,  Robert J. Purtell ,  John P. Simons ,  Charles J. Taft

发明人： John M. Cotte ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  Keith R. Pope ,  Robert J. Purtell ,  John P. Simons ,  Charles J. Taft

IPC分类号： G01N21/35 ,  G01J5/02

CPC分类号： G01N21/359 ,  G01N21/3504

摘要： A method and apparatus are provided for in situ monitoring and analyzing of process parameters for semiconductor fabrication processes including cleaning semiconductor wafers utilizing a supercritical fluid or a high pressure liquid such as CO2. The method and apparatus utilize a spectrometer having a reflective mirror proximate the vessel holding the high pressure fluid. NIR radiation transmitted into the vessel through a window and out of the vessel through an opposed window is reflected and detected and measured and the composition of the fluid in the pressure vessel is determined allowing the user to control process parameters based on the measured composition.

摘要翻译： 提供了一种用于半导体制造工艺的工艺参数的原位监测和分析的方法和装置，包括利用超临界流体或诸如CO 2的高压液体清洗半导体晶片。 该方法和装置利用具有靠近保持高压流体的容器的反射镜的光谱仪。 通过窗口传输到容器中并通过相对的窗口传出容器的NIR辐射被反射和检测和测量，并且确定压力容器中的流体的组成，允许用户基于测量的组成来控制工艺参数。

公开(公告)号：US06736906B2

公开(公告)日：2004-05-18

申请号：US10120309

申请日：2002-04-10

申请人： John M. Cotte ,  Matteo Flotta ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  Keith R. Pope ,  John P. Simons ,  Charles J. Taft

发明人： John M. Cotte ,  Matteo Flotta ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  Keith R. Pope ,  John P. Simons ,  Charles J. Taft

IPC分类号： B08B300

CPC分类号： B08B7/0021 ,  B08B3/10 ,  B08B13/00

摘要： A workpiece holder for processing a workpiece in a chamber of a liquified fluid. In one embodiment, the workpiece holder includes a cylindrically shaped rotator having an exterior wall and at least one fluid guide on the exterior wall. The rotator is adapted to rotate and provide fluid flow across a first end of the rotator, and is adapted to provide fluid flow and mixing perpendicular to a surface of the first end of the rotator. A fixture is coupled to the first end of the rotator for securing the workpiece to the first end of the rotator.

摘要翻译： 一种用于处理液化液体室中的工件的工件保持器。 在一个实施例中，工件保持器包括具有外壁和在外壁上的至少一个流体引导件的圆柱形旋转器。 旋转器适于旋转并提供流过旋转器的第一端的流体流，并且适于提供垂直于旋转体的第一端的表面的流体流动和混合。 固定装置联接到转子的第一端，用于将工件固定到转子的第一端。