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    Method of forming patterns of semiconductor device
    1.
    发明授权
    Method of forming patterns of semiconductor device 有权
    形成半导体器件图案的方法

    公开(公告)号：US08685865B2

    公开(公告)日：2014-04-01

    申请号：US13608403

    申请日：2012-09-10

    申请人： Jeong-ju Park ,  Kyoung-mi Kim ,  Min-jung Kim ,  Dong-jun Lee ,  Boo-deuk Kim

    发明人： Jeong-ju Park ,  Kyoung-mi Kim ,  Min-jung Kim ,  Dong-jun Lee ,  Boo-deuk Kim

    IPC分类号： H01L21/32 ,  G03F7/20

    CPC分类号： H01L21/32139 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/095 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/203 ,  H01L21/0274

    摘要： A method of forming patterns of a semiconductor device may include forming a photoresist layer that includes a photo acid generator (PAG) and a photo base generator (PBG), generating an acid from the PAG in a first exposed portion of the photoresist layer by first-exposing the photoresist layer, and generating a base from the PBG in a second exposed portion of the photoresist layer by second-exposing a part of the first exposed portion and neutralizing the acid. The method may also include baking the photoresist layer after the first and second-exposing and deblocking the photoresist layer of the first exposed portion in which the acid is generated to form a deblocked photoresist layer, and forming a photoresist pattern by removing the deblocked photoresist layer by using a developer.

    摘要翻译： 形成半导体器件的图案的方法可以包括形成光致抗蚀剂层，该光致抗蚀剂层包括光酸产生剂（PAG）和光产生剂（PBG），首先在光致抗蚀剂层的第一暴露部分中从PAG产生酸 并且在所述光致抗蚀剂层的第二暴露部分中通过将所述第一暴露部分的一部分暴露并中和所述酸而从所述PBG生成碱。 该方法还可以包括在第一和第二次曝光和去除其中产生酸的第一暴露部分的光致抗蚀剂层以形成解封的光致抗蚀剂层之后烘烤光致抗蚀剂层，以及通过去除去封闭的光刻胶层形成光致抗蚀剂图案 通过使用开发人员。

    Method of Forming Micropatterns
    2.
    发明申请
    Method of Forming Micropatterns 审中-公开
    形成微图案的方法

    公开(公告)号：US20120064463A1

    公开(公告)日：2012-03-15

    申请号：US13223592

    申请日：2011-09-01

    申请人： Jeong-ju Park ,  Kyoung-mi Kim ,  Joo-hyung Yang ,  Bo-hee Lee ,  Min-jung Kim ,  Jae-ho Kim ,  Young-ho Kim

    发明人： Jeong-ju Park ,  Kyoung-mi Kim ,  Joo-hyung Yang ,  Bo-hee Lee ,  Min-jung Kim ,  Jae-ho Kim ,  Young-ho Kim

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0337

    摘要： Provided is a method of forming micropatterns, in which a line-and-space pattern is formed using a positive photoresist, and a spin-on-oxide (SOX) spacer is formed on two sidewalls of the line-and-space pattern and used in etching a lower layer, thereby doubling a pattern density. Accordingly, all operations may be performed in single equipment (lithography equipment) without taking a substrate out, and thus a high throughput is obtained, and concerns about pollution are very low. Moreover, as the line-and-space pattern is formed using a wet method by using a negative tone developer, line-width roughness (LWR) of the micropatterns may be improved compared to when a dry etching method is used.

    摘要翻译： 提供一种形成微图案的方法，其中使用正性光致抗蚀剂形成线间距图案，并且在线间距图案的两个侧壁上形成自旋氧化物（SOX）间隔物，并使用 在蚀刻下层，从而使图案密度加倍。 因此，可以在单个设备（光刻设备）中执行所有操作，而不需要将衬底取出，从而获得高生产量，并且对污染的担忧非常低。 此外，由于通过使用负色调显影剂使用湿法形成线间距图案，与使用干蚀刻方法相比，可以提高微图案的线宽粗糙度（LWR）。

    Thermoplastic resin composition
    3.
    发明授权
    Thermoplastic resin composition 有权
    热塑性树脂组合物

    公开(公告)号：US07417088B2

    公开(公告)日：2008-08-26

    申请号：US11511581

    申请日：2006-08-29

    申请人： Tae-bin Ahn ,  Hyun-taek O ,  Jung-tae Park ,  Min-jung Kim ,  Keun-hoon Yoo

    发明人： Tae-bin Ahn ,  Hyun-taek O ,  Jung-tae Park ,  Min-jung Kim ,  Keun-hoon Yoo

    IPC分类号： C08L51/04 ,  C08L53/00

    CPC分类号： G10L19/10

    摘要： The present invention relates to a thermoplastic resin composition, more precisely, a thermoplastic resin composition with enhanced impact resistance, gloss, weather resistance and scratch resistance, compared with the conventional thermoplastic resin compositions, by containing an acrylate-styrene-acrylonitrile (ASA) graft copolymer, an aromatic vinyl compound and vinyl cyan compound copolymer, an alkyl methacrylate/aromatic vinyl compound/vinyl cyan compound terpolymer and a di-block copolymer (aromatic vinyl compound/vinyl cyan compound—alkyl methacrylate/aromatic vinyl compound/vinyl cyan compound).

    摘要翻译： 本发明涉及一种热塑性树脂组合物，更准确地说，与常规热塑性树脂组合物相比，通过含有丙烯酸酯 - 苯乙烯 - 丙烯腈（ASA）接枝物，具有增强的耐冲击性，光泽，耐候性和耐擦伤性的热塑性树脂组合物 共聚物，芳族乙烯基化合物和乙烯基青色化合物共聚物，甲基丙烯酸烷基酯/芳族乙烯基化合物/乙烯基氰化合物三元共聚物和二嵌段共聚物（芳族乙烯基化合物/乙烯基氰基化合物 - 甲基丙烯酸烷基酯/芳族乙烯基化合物/ 。

    Graft copolymer, method for preparing the same and thermoplastic resin composition containing the same
    4.
    发明申请
    Graft copolymer, method for preparing the same and thermoplastic resin composition containing the same 有权
    接枝共聚物，其制备方法和含有该共聚物的热塑性树脂组合物

    公开(公告)号：US20060089462A1

    公开(公告)日：2006-04-27

    申请号：US11255472

    申请日：2005-10-21

    申请人： Hyun-taek O ,  Tae-bin Ahn ,  Jung-tae Park ,  Min-jung Kim ,  Keun-hoon Yoo

    发明人： Hyun-taek O ,  Tae-bin Ahn ,  Jung-tae Park ,  Min-jung Kim ,  Keun-hoon Yoo

    IPC分类号： C08F297/02

    CPC分类号： C08L51/04 ,  C08F257/02 ,  C08F265/04 ,  C08F279/02 ,  C08F279/04 ,  C08L9/00 ,  C08L25/06 ,  C08L25/12 ,  C08L33/08 ,  C08L51/003 ,  C08L53/00 ,  C08L55/02 ,  C08L2207/53 ,  C08L2666/24 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/04

    摘要： The present invention relates to a graft copolymer, a method for preparing the same and a thermoplastic resin composition comprising the same. The graft copolymer of the present invention comprises a composite rubber polymer (A-1) having an average particle diameter of 250-600 nm prepared by particle enlargement after mixing a diene rubber polymer (a-1) latex having an average particle diameter of 50-150 nm and a core-shell structured, cross-linked alkyl acrylate rubber polymer (b-1) latex having an average particle diameter of 50-250 nm. A thermoplastic resin composition prepared by mixing the graft copolymer of the present invention with a hard matrix (B) has very superior weathering resistance and superior pigmentation property, gloss, impact resistance and low-temperature impact strength.

    摘要翻译： 本发明涉及接枝共聚物，其制备方法和含有它的热塑性树脂组合物。 本发明的接枝共聚物包含平均粒径为250-600nm的复合橡胶聚合物（A-1），其通过在混合平均粒径为50的二烯橡胶聚合物（a-1）胶乳之后通过粒子增大制备 -150nm的核 - 壳结构的交联的丙烯酸烷基酯橡胶聚合物（b-1​​）胶乳，其平均粒径为50-250nm。 通过将本发明的接枝共聚物与硬质基体（B）混合而制备的热塑性树脂组合物具有非常优异的耐候性和优异的着色性，光泽度，耐冲击性和低温冲击强度。

    Thermoplastic resin composition
    6.
    发明申请
    Thermoplastic resin composition 有权
    热塑性树脂组合物

    公开(公告)号：US20070203293A1

    公开(公告)日：2007-08-30

    申请号：US11511581

    申请日：2006-08-29

    申请人： Tae-bin Ahn ,  Hyun-taek O ,  Jung-tae Park ,  Min-jung Kim ,  Keun-hoon Yoo

    发明人： Tae-bin Ahn ,  Hyun-taek O ,  Jung-tae Park ,  Min-jung Kim ,  Keun-hoon Yoo

    IPC分类号： C08L51/04

    CPC分类号： G10L19/10

    摘要： The present invention relates to a thermoplastic resin composition, more precisely, a thermoplastic resin composition with enhanced impact resistance, gloss, weather resistance and scratch resistance, compared with the conventional thermoplastic resin compositions, by containing an acrylate-styrene-acrylonitrile (ASA) graft copolymer, an aromatic vinyl compound and vinyl cyan compound copolymer, an alkyl methacrylate/aromatic vinyl compound/vinyl cyan compound terpolymer and a di-block copolymer (aromatic vinyl compound/vinyl cyan compound-alkyl methacrylate/aromatic vinyl compound/vinyl cyan compound).

    摘要翻译： 本发明涉及一种热塑性树脂组合物，更准确地说，与常规热塑性树脂组合物相比，通过含有丙烯酸酯 - 苯乙烯 - 丙烯腈（ASA）接枝物，具有增强的耐冲击性，光泽，耐候性和耐划伤性的热塑性树脂组合物 共聚物，芳族乙烯基化合物和乙烯基青色化合物共聚物，甲基丙烯酸烷基酯/芳族乙烯基化合物/乙烯基氰化合物三元共聚物和二嵌段共聚物（芳族乙烯基化合物/乙烯基氰基化合物 - 甲基丙烯酸烷基酯/芳族乙烯基化合物/ 。

    Robot system
    7.
    发明申请
    Robot system 审中-公开
    机器人系统

    公开(公告)号：US20060136097A1

    公开(公告)日：2006-06-22

    申请号：US11294497

    申请日：2005-12-06

    申请人： Yong-jae Kim ,  Min-jung Kim ,  Yeon-taek Oh ,  Youn-Baek Lee ,  Jun-pyo Hong

    发明人： Yong-jae Kim ,  Min-jung Kim ,  Yeon-taek Oh ,  Youn-Baek Lee ,  Jun-pyo Hong

    IPC分类号： G06F19/00

    CPC分类号： G05D1/0234 ,  G05D1/0255 ,  G05D2201/0203

    摘要： A robot system includes a position information emitting unit including a light emitter to emit a light including phase information and a supersonic wave emitter to emit a supersonic wave, and a robot including a light receiver to receive the light, a supersonic wave receiver to receive the supersonic wave, and a position determining part to determine a relative position of the robot with respect to the position information emitting unit based on the phase information of the light received through the light receiver and the supersonic wave received through the supersonic wave receiver. Thus the robot system can precisely determine the position of the robot regardless of external environments, and reduce cost of a configuration of the system.

    摘要翻译： 机器人系统包括：位置信息发射单元，包括发射包括相位信息的光的发光器和用于发射超声波的超声波发射器;以及包括用于接收光的光接收器的机器人;超声波接收器，用于接收 超声波和位置确定部分，用于基于通过光接收器接收的光的相位信息和通过超声波接收器接收的超声波来确定机器人相对于位置信息发射单元的相对位置。 因此，无论外部环境如何，机器人系统都可以精确地确定机器人的位置，并降低系统配置的成本。

    Video call terminal, mobile phone and control method thereof
    8.
    发明授权
    Video call terminal, mobile phone and control method thereof 有权
    视频通话终端，手机及其控制方法

    公开(公告)号：US08773492B2

    公开(公告)日：2014-07-08

    申请号：US13096611

    申请日：2011-04-28

    申请人： Min-jung Kim ,  Dong-wook Kim

    发明人： Min-jung Kim ,  Dong-wook Kim

    IPC分类号： H04N7/14

    CPC分类号： H04L65/1069 ,  H04L65/1059 ,  H04L65/1083 ,  H04L65/80

    摘要： A video call terminal, a mobile phone and a control method thereof are provided. The video call terminal includes a first communication unit configured to conduct a video call with a second terminal through an Internet protocol (IP) network; a second communication unit configured to communicate with a mobile phone; and a controller configured to transmit first network information of the video call terminal to the mobile phone, receive second network information of the second terminal from the mobile phone, and control the video call with the second terminal using at least one of the first and second network information.

    摘要翻译： 提供视频通话终端，移动电话及其控制方法。 视频呼叫终端包括：第一通信单元，被配置为通过因特网协议（IP）网络与第二终端进行视频呼叫; 第二通信单元，被配置为与移动电话进行通信; 以及控制器，被配置为向所述移动电话发送所述视频呼叫终端的第一网络信息，从所述移动电话接收所述第二终端的第二网络信息，并且使用所述第一和第二终端中的至少一个来控​​制与所述第二终端的视频呼叫 网络信息。

    Method for generating sketch image and display apparatus applying the same
    9.
    发明授权
    Method for generating sketch image and display apparatus applying the same 有权
    用于产生草图图像的方法和应用其的显示装置

    公开(公告)号：US08768091B2

    公开(公告)日：2014-07-01

    申请号：US13160087

    申请日：2011-06-14

    申请人： Yu Li ,  Min-jung Kim ,  Dong-wook Kim

    发明人： Yu Li ,  Min-jung Kim ,  Dong-wook Kim

    IPC分类号： G06K9/40

    CPC分类号： G06T5/009 ,  G06T15/005

    摘要： A sketch image is generated based on a brightness of a pixel block that includes a pixel and at least one pixel surrounding the pixel. An output gray scale of the specific pixel is adjusted based on whether an input gray scale of the specific pixel is higher than the representative value. Accordingly, the display apparatus may generate a clear sketch image.

    摘要翻译： 基于包括像素的像素块的亮度和围绕该像素的至少一个像素生成草图图像。 基于特定像素的输入灰度是否高于代表值来调整特定像素的输出灰度。 因此，显示装置可以生成清晰的草图图像。