公开(公告)号：US20120153543A1

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：US13296571

申请日：2011-11-15

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Antonius Franciscus Johannes De Groot ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Jeroen De Boeij

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Antonius Franciscus Johannes De Groot ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Jeroen De Boeij

IPC分类号： B29C67/00 ,  B23K26/36

CPC分类号： G03F7/70758 ,  G03F7/70691

摘要： A lithography apparatus comprises a projection system arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate, a carrier, and a drive system for moving the carrier relative to the projection system in a plane defined by reference to orthogonal axes X and Y. The drive system comprises a shuttle moving parallel to the Y-axis, a shuttle connector connecting the shuttle to the carrier, the shuttle connector allowing movement of the carrier in a direction parallel to the X-axis relative to the shuttle, and a shuttle driver for driving movement of the shuttle parallel to the Y-axis. The shuttle is located to one side of the carrier in a direction parallel to the X-axis and it is desirable if only one of the shuttle is connected to the carrier.

摘要翻译： 光刻设备包括投影系统，其被布置成将图案从图案形成装置传送到基板，载体和驱动系统，用于在参考正交轴线X和Y限定的平面中相对于投影系统移动载体。 驱动系统包括平行于Y轴移动的梭子，将梭子连接到托架的穿梭连接器，穿梭连接器允许托架在平行于X轴的方向上相对于梭子运动;以及穿梭驱动器， 梭子平行于Y轴的驱动运动。 梭子在平行于X轴的方向上位于载体的一侧，并且希望只有梭子之一连接到载体上。

公开(公告)号：US08932042B2

公开(公告)日：2015-01-13

申请号：US13296571

申请日：2011-11-15

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Antonius Franciscus Johannes De Groot ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Jeroen De Boeij

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Antonius Franciscus Johannes De Groot ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Jeroen De Boeij

IPC分类号： B29C67/00 ,  B23K26/36 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70758 ,  G03F7/70691

摘要： A lithography apparatus comprises a projection system arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate, a carrier, and a drive system for moving the carrier relative to the projection system in a plane defined by reference to orthogonal axes X and Y. The drive system comprises a shuttle moving parallel to the Y-axis, a shuttle connector connecting the shuttle to the carrier, the shuttle connector allowing movement of the carrier in a direction parallel to the X-axis relative to the shuttle, and a shuttle driver driving movement of the shuttle parallel to the Y-axis. The shuttle is located to one side of the carrier in a direction parallel to the X-axis and it is desirable if only one of the shuttle is connected to the carrier.

摘要翻译： 光刻设备包括投影系统，其被布置成将图案从图案形成装置传送到基板，载体和驱动系统，用于在参考正交轴线X和Y限定的平面中相对于投影系统移动载体。 驱动系统包括平行于Y轴移动的梭子，将梭子连接到托架的穿梭连接器，穿梭连接器允许托架沿平行于X轴的方向相对于梭子运动，梭梭驱动器 梭子平行于Y轴的运动。 梭子在平行于X轴的方向上位于载体的一侧，并且希望只有梭子之一连接到载体上。

公开(公告)号：US09329501B2

公开(公告)日：2016-05-03

申请号：US13494638

申请日：2012-06-12

申请人： Yang-Shan Huang ,  Hans Butler ,  Jan Van Eijk ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus Van De Ven ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Robbert Edgar Van Leeuwen

发明人： Yang-Shan Huang ,  Hans Butler ,  Jan Van Eijk ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus Van De Ven ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Robbert Edgar Van Leeuwen

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70783

摘要： A lithographic apparatus includes a projection system, a substrate table, a plurality of sensors, an actuator and a controller. The projection system is configured to project a patterned beam of radiation onto a substrate. The substrate table is configured to support the substrate and to move relative to the projection system. The plurality of sensors is configured to measure a deformation of the substrate table. The actuator is configured to deform the substrate table. The controller is configured to control the actuator to deform the substrate table based on measurements made by the sensors. The plurality of sensors is located on a first side of the substrate table opposite to a second side of the substrate table facing the projection system. The plurality of sensors is substantially stationary relative to the projection system.

摘要翻译： 光刻设备包括投影系统，衬底台，多个传感器，致动器和控制器。 投影系统被配置为将图案化的辐射束投射到衬底上。 衬底台被配置为支撑衬底并相对于投影系统移动。 多个传感器被配置成测量衬底台的变形。 致动器构造成使基板台变形。 控制器被配置成基于由传感器进行的测量来控制致动器使基板台变形。 多个传感器位于与衬底台面对投影系统的第二侧相对的衬底台的第一侧上。 多个传感器相对于投影系统基本上是静止的。

公开(公告)号：US20120327386A1

公开(公告)日：2012-12-27

申请号：US13494638

申请日：2012-06-12

申请人： Yang-Shan Huang ,  Hans Butler ,  Jan Van Eijk ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus Van De Ven ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Robbert Edgar Van Leeuwen

发明人： Yang-Shan Huang ,  Hans Butler ,  Jan Van Eijk ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus Van De Ven ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Robbert Edgar Van Leeuwen

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70783

摘要： A lithographic apparatus includes a projection system, a substrate table, a plurality of sensors, an actuator and a controller. The projection system is configured to project a patterned beam of radiation onto a substrate. The substrate table is configured to support the substrate and to move relative to the projection system. The plurality of sensors is configured to measure a deformation of the substrate table. The actuator is configured to deform the substrate table. The controller is configured to control the actuator to deform the substrate table based on measurements made by the sensors. The plurality of sensors is located on a first side of the substrate table opposite to a second side of the substrate table facing the projection system. The plurality of sensors is substantially stationary relative to the projection system.

摘要翻译： 光刻设备包括投影系统，衬底台，多个传感器，致动器和控制器。 投影系统被配置为将图案化的辐射束投射到衬底上。 衬底台被配置为支撑衬底并相对于投影系统移动。 多个传感器被配置成测量衬底台的变形。 致动器构造成使基板台变形。 控制器被配置成基于由传感器进行的测量来控制致动器使基板台变形。 多个传感器位于与衬底台面对投影系统的第二侧相对的衬底台的第一侧上。 多个传感器相对于投影系统基本上是静止的。

公开(公告)号：US08597014B2

公开(公告)日：2013-12-03

申请号：US12767383

申请日：2010-04-26

申请人： Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Noud Jan Gilissen ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

发明人： Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Noud Jan Gilissen ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

IPC分类号： B28B11/08

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： An actuator is disclosed that includes a body, the body having a face, and a plurality of conduits located in the body, each conduit deformable in response to a change of pressure within the conduit, the deformation of the conduit configured to cause a deformation of the face.

摘要翻译： 公开了一种致动器，其包括主体，主体具有面部和位于主体中的多个导管，每个导管响应于管道内的压力变化而变形，导管的变形被配置成引起变形 的脸。

公开(公告)号：US20100272846A1

公开(公告)日：2010-10-28

申请号：US12767383

申请日：2010-04-26

申请人： Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Noud Jan Gilissen ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

发明人： Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Noud Jan Gilissen ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

IPC分类号： B28B11/08

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： An actuator is disclosed that includes a body, the body having a face, and a plurality of conduits located in the body, each conduit deformable in response to a change of pressure within the conduit, the deformation of the conduit configured to cause a deformation of the face.

摘要翻译： 公开了一种致动器，其包括主体，主体具有面部和位于主体中的多个导管，每个导管响应于管道内的压力变化而变形，导管的变形被配置成引起变形 的脸。

公开(公告)号：US08368868B2

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：US12627087

申请日：2009-11-30

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70866

摘要： A lithographic apparatus includes a position controller configured to control a position of a patterning device in its planar direction by selectively pressing at least one of the side faces of the patterning device. The position controller includes a gas pressure supply and one or more outflow openings directed towards at least one side face of the patterning device so as to exert pressurized gas on this side face in order to control the position of the patterning device in its planar direction in a contactless manner.

摘要翻译： 光刻设备包括位置控制器，其被配置为通过选择性地按压图案形成装置的侧面中的至少一个来控​​制图案形成装置在其平面方向上的位置。 位置控制器包括气体压力供给器和朝向图案形成装置的至少一个侧面的一个或多个流出开口，以在该侧面上施加加压气体，以便控制图案形成装置在其平面方向上的位置 一个非接触的方式。

公开(公告)号：US20100159399A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12627087

申请日：2009-11-30

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus VERMEULEN ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus VERMEULEN ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70866

摘要： A lithographic apparatus includes a position controller configured to control a position of a patterning device in its planar direction by selectively pressing at least one of the side faces of the patterning device. The position controller includes a gas pressure supply and one or more outflow openings directed towards at least one side face of the patterning device so as to exert pressurized gas on this side face in order to control the position of the patterning device in its planar direction in a contactless manner.

摘要翻译： 光刻设备包括位置控制器，其被配置为通过选择性地按压图案形成装置的侧面中的至少一个来控​​制图案形成装置在其平面方向上的位置。 位置控制器包括气体压力供给器和朝向图案形成装置的至少一个侧面的一个或多个流出开口，以在该侧面上施加加压气体，以便控制图案形成装置在其平面方向上的位置 一个非接触的方式。

公开(公告)号：US08472010B2

公开(公告)日：2013-06-25

申请号：US12886996

申请日：2010-09-21

申请人： Sven Antoin Johan Hol ,  Antonius Franciscus Johannes De Groot ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Marijn Kessels ,  Daniël Godfried Emma Hobbelen

发明人： Sven Antoin Johan Hol ,  Antonius Franciscus Johannes De Groot ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Marijn Kessels ,  Daniël Godfried Emma Hobbelen

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70758 ,  H02K1/146 ,  H02K41/03 ,  H02K2201/18 ,  H02K2213/12

摘要： Actuator for exerting a force and a torque on an object, wherein the actuator includes a first part that is movable with respect to a second part of the actuator in at least a first degree of freedom, wherein the object is mounted to the first part, wherein one of the parts is provided with a first electrical coil that is arranged to cooperate with a magnetizable portion of the other part and wherein a controller of the actuator is arranged to generate a first electrical current through the first electrical coil for generating a force between the parts, wherein the one of the parts is provided with a second electrical coil which is arranged to cooperated with a magnetizable portion of the other part, wherein the controller is further arranged to generate a second current through the second coil and the first current through the first electrical coil for exerting the force and torque between the parts so that the actuator is arranged to exert the force and the torque on the object with respect to the second part.

摘要翻译： 用于在物体上施加力和扭矩的致动器，其中所述致动器包括能够以至少第一自由度相对于所述致动器的第二部分移动的第一部件，其中所述物体安装到所述第一部分， 其中所述部件中的一个设置有第一电线圈，所述第一电线圈布置成与所述另一部件的可磁化部分配合，并且其中所述致动器的控制器被布置成产生通过所述第一电线圈的第一电流， 所述部件，其中所述部件中的一个设置有第二电线圈，所述第二电线圈布置成与所述另一部件的可磁化部分配合，其中所述控制器还被布置成产生通过所述第二线圈的第二电流和通过 用于在部件之间施加力和扭矩的第一电线圈，使得致动器被布置成将力和扭矩施加在物体上， 尊重第二部分。

公开(公告)号：US20110069293A1

公开(公告)日：2011-03-24

申请号：US12886996

申请日：2010-09-21

申请人： Sven Antoin Johan Hol ,  Antonius Franciscus Johannes De Groot ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Marijn Kessels ,  Daniël Godfried Emma Hobbelen

发明人： Sven Antoin Johan Hol ,  Antonius Franciscus Johannes De Groot ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Marijn Kessels ,  Daniël Godfried Emma Hobbelen

IPC分类号： G03B27/54 ,  H02K41/02

CPC分类号： G03F7/70758 ,  H02K1/146 ,  H02K41/03 ,  H02K2201/18 ,  H02K2213/12

摘要： Actuator for exerting a force and a torque on an object, wherein the actuator includes a first part that is movable with respect to a second part of the actuator in at least a first degree of freedom, wherein the object is mounted to the first part, wherein one of the parts is provided with a first electrical coil that is arranged to cooperate with a magnetizable portion of the other part and wherein a controller of the actuator is arranged to generate a first electrical current through the first electrical coil for generating a force between the parts, wherein the one of the parts is provided with a second electrical coil which is arranged to cooperated with a magnetizable portion of the other part, wherein the controller is further arranged to generate a second current through the second coil and the first current through the first electrical coil for exerting the force and torque between the parts so that the actuator is arranged to exert the force and the torque on the object with respect to the second part.

摘要翻译： 用于在物体上施加力和扭矩的致动器，其中所述致动器包括能够以至少第一自由度相对于所述致动器的第二部分移动的第一部件，其中所述物体安装到所述第一部分， 其中所述部件中的一个设置有第一电线圈，所述第一电线圈布置成与所述另一部件的可磁化部分配合，并且其中所述致动器的控制器被布置成产生通过所述第一电线圈的第一电流， 所述部件，其中所述部件中的一个设置有第二电线圈，所述第二电线圈布置成与所述另一部件的可磁化部分配合，其中所述控制器还被布置成产生通过所述第二线圈的第二电流和通过 用于在部件之间施加力和扭矩的第一电线圈，使得致动器被布置成将力和扭矩施加在物体上， 尊重第二部分。