公开(公告)号：US20080212053A1

公开(公告)日：2008-09-04

申请号：US10962744

申请日：2004-10-13

申请人： Joost Jeroen Ottens ,  Levinus Pieter Bakker ,  Wilhelmus Josephus Box ,  Jan Van Elp ,  Frank Jeroen Pieter Schuurmans ,  Jan Evert Van Der Werf

发明人： Joost Jeroen Ottens ,  Levinus Pieter Bakker ,  Wilhelmus Josephus Box ,  Jan Van Elp ,  Frank Jeroen Pieter Schuurmans ,  Jan Evert Van Der Werf

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/00

CPC分类号： H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70433 ,  H01J37/3026 ,  H01J2237/31764

摘要： A device manufacturing method is disclosed. The method includes patterning a beam of radiation, projecting the patterned beam of radiation onto a plurality of outer target portions of a substrate in a sequence in which each subsequent outer target portion is spaced-apart from a preceding outer target portion, and subsequent to projecting the patterned beam of radiation on the plurality of outer target portions, projecting the patterned beam of radiation onto an inner target portion of the substrate.

摘要翻译： 公开了一种装置制造方法。 该方法包括图案化辐射束，将图案化的辐射束投射到基板的多个外部目标部分上，其中每个后续的外部目标部分与先前的外部目标部分间隔开，并且随后突出 所述图案化的辐射束在所述多个外部目标部分上，将所述图案化的辐射束投射到所述衬底的内部目标部分上。

公开(公告)号：US07630060B2

公开(公告)日：2009-12-08

申请号：US10962744

申请日：2004-10-13

申请人： Joost Jeroen Ottens ,  Levinus Pieter Bakker ,  Wilhelmus Josephus Box ,  Jan Van Elp ,  Frank Jeroen Pieter Schuurmans ,  Jan Evert Van Der Werf

发明人： Joost Jeroen Ottens ,  Levinus Pieter Bakker ,  Wilhelmus Josephus Box ,  Jan Van Elp ,  Frank Jeroen Pieter Schuurmans ,  Jan Evert Van Der Werf

IPC分类号： G03B27/32

CPC分类号： H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70433 ,  H01J37/3026 ,  H01J2237/31764

摘要： A device manufacturing method is disclosed. The method includes patterning a beam of radiation, projecting the patterned beam of radiation onto a plurality of outer target portions of a substrate in a sequence in which each subsequent outer target portion is spaced-apart from a preceding outer target portion, and subsequent to projecting the patterned beam of radiation on the plurality of outer target portions, projecting the patterned beam of radiation onto an inner target portion of the substrate.

摘要翻译： 公开了一种器件制造方法。 该方法包括图案化辐射束，将图案化的辐射束投射到基板的多个外部目标部分上，其中每个后续的外部目标部分与先前的外部目标部分间隔开，并且随后突出 所述图案化的辐射束在所述多个外部目标部分上，将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的内部目标部分上。

公开(公告)号：US07245357B2

公开(公告)日：2007-07-17

申请号：US10734642

申请日：2003-12-15

申请人： Erwin Van Zwet ,  Jan Van Elp ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Hendrik Antony Johannes Neerhof ,  Joost Jeroen Ottens ,  Adrianus Mathijs Maria De Groof ,  Leo Wilhelmus Maria Kuipers ,  Peter Theodorus Maria Giesen ,  Marco Le Kluse

发明人： Erwin Van Zwet ,  Jan Van Elp ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Hendrik Antony Johannes Neerhof ,  Joost Jeroen Ottens ,  Adrianus Mathijs Maria De Groof ,  Leo Wilhelmus Maria Kuipers ,  Peter Theodorus Maria Giesen ,  Marco Le Kluse

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/62 ,  H01T23/00

CPC分类号： H01L21/67259 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/7075

摘要： A lithographic apparatus is disclosed. The lithographic apparatus includes an illumination system for providing a beam of radiation on a flat article to be placed in a beam path of the beam of radiation, and an article handler for handling the article during placement or removal of the article. The article handler includes an electrode and a dielectric layer in order to form an electrostatic clamp for electrostatically clamping the article.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备。 光刻设备包括用于在要放置在辐射束的光束路径中的平坦物品上提供辐射束的照明系统，以及用于在放置或移除物品期间处理物品的物品处理器。 物品处理器包括电极和电介质层，以形成用于静电夹紧物品的静电夹。

公开(公告)号：US06678037B2

公开(公告)日：2004-01-13

申请号：US09971769

申请日：2001-10-09

申请人： Jan Van Elp ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Hugo Matthieu Visser ,  Levinus Pieter Bakker

发明人： Jan Van Elp ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Hugo Matthieu Visser ,  Levinus Pieter Bakker

IPC分类号： G03B2754

CPC分类号： G03F7/70575 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702

摘要： In a lithographic projection apparatus, a grating spectral filter is used to filter an EUV projection beam. The grating spectral filter is preferably a blazed, grazing incidence, reflective grating. Cooling channels may be provided in or on the rear of the grating spectral filter. The grating spectral filter may be formed of a material effectively invisible to the desired radiation.

摘要翻译： 在光刻投影设备中，使用光栅光谱滤波器来过滤EUV投影光束。 光栅光谱滤波器优选地是闪耀的，掠入射的反射光栅。 冷却通道可以设置在光栅光谱滤波器的背面中或后面。 光栅光谱滤波器可以由对期望的辐射有效地不可见的材料形成。

公开(公告)号：US06930760B2

公开(公告)日：2005-08-16

申请号：US10716443

申请日：2003-11-20

申请人： Jan Van Elp ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Hugo Matthieu Visser ,  Levinus Pieter Bakker

发明人： Jan Van Elp ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Hugo Matthieu Visser ,  Levinus Pieter Bakker

IPC分类号： G02B5/18 ,  G03F7/20 ,  G03F7/22 ,  H01L21/027 ,  G03B27/54 ,  G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70575 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702

摘要： In a lithographic projection apparatus, a grating spectral filter is used to filter an EUV projection beam. The grating spectral filter is preferably a blazed, grazing incidence, reflective grating. Cooling channels may be provided in or on the rear of the grating spectral filter. The grating spectral filter may be formed of a material effectively invisible to the desired radiation.

摘要翻译： 在光刻投影设备中，使用光栅光谱滤波器来过滤EUV投影光束。 光栅光谱滤波器优选地是闪耀的，掠入射的反射光栅。 冷却通道可以设置在光栅光谱滤波器的背面中或后面。 光栅光谱滤波器可以由对期望的辐射有效地不可见的材料形成。

公开(公告)号：US06864957B2

公开(公告)日：2005-03-08

申请号：US10424978

申请日：2003-04-29

申请人： Jan Van Elp ,  Peter Giesen ,  Jacob Jan Van der Velde

发明人： Jan Van Elp ,  Peter Giesen ,  Jacob Jan Van der Velde

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/683 ,  H02N13/00 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70708 ,  G03F7/707 ,  G03F7/7095 ,  H01L21/6831

摘要： A lithographic projection apparatus with a chuck in which a dielectric element of the electrostatic chuck has a specific resistivity of at least 1016 Ωcm so that once the potential difference between electrodes of the chuck is removed the force on the article to be clamped reduces below a predetermined minimum level quickly. The dielectric element also has a coefficient of thermal expansion of less than 0.02×10−6K−1. A method of manufacturing a chuck includes joining a first glass ceramic element with a second glass element with an electrode therebetween in which a current is passed through the second glass element.

摘要翻译： 具有卡盘的光刻投影装置，其中静电卡盘的电介质元件的电阻率至少为10 16Ωgm，使得一旦卡盘的电极之间的电位差被去除，待夹紧物品上的力就减小 低于预定的最低水平。 电介质元件的热膨胀系数也小于0.02×10 -6 K -1。 制造卡盘的方法包括：将第一玻璃陶瓷元件与第二玻璃元件接合，其中电流通过第二玻璃元件。

公开(公告)号：US08105457B2

公开(公告)日：2012-01-31

申请号：US10740831

申请日：2003-12-22

申请人： Jan Van Elp

发明人： Jan Van Elp

IPC分类号： B29C65/00

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/7095

摘要： A method for joining at least two members of a lithographic apparatus is disclosed. The method includes providing a first member, providing a second member, direct-bonding the first member and the second member to form a direct-bond, and anodically bonding the first member and the second member. At least one of the members includes ultra low expansion glass and/or ultra low expansion glass ceramics.

摘要翻译： 公开了一种用于连接光刻设备的至少两个构件的方法。 该方法包括提供第一构件，提供第二构件，将第一构件和第二构件直接结合以形成直接接合，以及阳极接合第一构件和第二构件。 至少一个构件包括超低膨胀玻璃和/或超低膨胀玻璃陶瓷。

公开(公告)号：US07486384B2

公开(公告)日：2009-02-03

申请号：US10813687

申请日：2004-03-31

申请人： Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans ,  Edwin Johan Buis ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Jan Van Elp ,  Jan Frederik Hoogkamp ,  Aschwin Lodewijk Hendricus Johannes Van Meer ,  Patrick Johannes Cornelus Hendrik Smulders ,  Franciscus Andreas Cornelis Johannes Spanjers ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Raimond Visser ,  Henricus Gerardus Tegenbosch ,  Johannes Charles Adrianus Van Den Berg ,  Henricus Johannes Adrianus Van De Sande ,  Thijs Vervoort

发明人： Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans ,  Edwin Johan Buis ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Jan Van Elp ,  Jan Frederik Hoogkamp ,  Aschwin Lodewijk Hendricus Johannes Van Meer ,  Patrick Johannes Cornelus Hendrik Smulders ,  Franciscus Andreas Cornelis Johannes Spanjers ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Raimond Visser ,  Henricus Gerardus Tegenbosch ,  Johannes Charles Adrianus Van Den Berg ,  Henricus Johannes Adrianus Van De Sande ,  Thijs Vervoort

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/62

CPC分类号： G03F7/70741 ,  B25J13/089 ,  G03F7/7075 ,  G03F7/70925 ,  H01L21/6833 ,  H02N13/00

摘要： The present invention relates to a lithographic projection apparatus with a supporting structure to support and move an object, like a substrate. The supporting structure may be a robot having a robotic arm with a support frame for supporting, e.g. the substrate. The support frame includes a clamping structure having one or more clamps for holding the substrate during movement. The robot arm comprises one or more compliant parts. The clamp may be a Johnson-Raybeck effect type clamp with an oxidized upper surface. For better de-clamping, a RF AC decaying de-clamping voltage may be provided to the clamp. The apparatus may be cleaned with one single substrate only.

摘要翻译： 本发明涉及具有支撑结构以支撑和移动物体（如基底）的光刻投影装置。 支撑结构可以是具有机器人臂的机器人，其具有支撑框架的支撑框架，例如。 底物。 支撑框架包括具有用于在移动期间保持基板的一个或多个夹具的夹持结构。 机器人手臂包括一个或多个柔顺部件。 夹具可以是具有氧化的上表面的Johnson-Raybeck效应型夹具。 为了更好地去夹紧，可以向夹具提供RF AC衰减的去钳位电压。 该装置可以仅用一个单一的衬底清洁。

公开(公告)号：US20080297758A1

公开(公告)日：2008-12-04

申请号：US12213930

申请日：2008-06-26

申请人： Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans ,  Edwin Johan Buis ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Jan Van Elp ,  Jan Frederik Hoogkamp ,  Aschwin Lodewijk Hendricus Van Meer ,  Patrick Johannes Cornelus Smulders ,  Franciscus Andreas Cornelis Spanjers ,  Johannes Petrus Martinus Ber Vermeulen ,  Raimond Visser ,  Henricus Gerardus Tegenbosch ,  Johannes Charles Adrianus Van Den Berg ,  Henricus Johannes Adrianus Van De Sande ,  Thijs Vervoort

发明人： Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans ,  Edwin Johan Buis ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Jan Van Elp ,  Jan Frederik Hoogkamp ,  Aschwin Lodewijk Hendricus Van Meer ,  Patrick Johannes Cornelus Smulders ,  Franciscus Andreas Cornelis Spanjers ,  Johannes Petrus Martinus Ber Vermeulen ,  Raimond Visser ,  Henricus Gerardus Tegenbosch ,  Johannes Charles Adrianus Van Den Berg ,  Henricus Johannes Adrianus Van De Sande ,  Thijs Vervoort

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70741 ,  B25J13/089 ,  G03F7/7075 ,  G03F7/70925 ,  H01L21/6833 ,  H02N13/00

摘要： The invention relates to a transfer apparatus for transferring an object (W). the transfer apparatus comprises a gripper (15) for at least one of gripping the object (W) at a first position and then releasing the object (W) at a second position proximate to a receiver (20) and releasing the object (W) at a first position after gripping the object at a second position proximate to the receiver (20). The transfer apparatus is further provided with a measurement device (22) arranged to measure the relative position of the gripper (15) with respect to the receiver (20) in at least one dimension. Further, a relative position error is defined with respect to a desired relative position based on the relative position measured. The relative position of the gripper (15) and the receiver (20) are adjusted for minimizing the relative position error in the second position.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于传送物体（W）的传送装置。 传送装置包括用于在第一位置处夹持物体（W）的至少一个然后在靠近接收器（20）的第二位置处释放物体（W）的至少一个并且释放物体（W）的夹持器（15） 在靠近接收器（20）的第二位置处夹持物体之后的第一位置。 传送装置还设置有测量装置（22），该测量装置设置成在至少一个维度上测量夹具（15）相对于接收器（20）的相对位置。 此外，基于测量的相对位置，相对于期望的相对位置来定义相对位置误差。 调整夹持器（15）和接收器（20）的相对位置以最小化第二位置中的相对位置误差。

公开(公告)号：US20070054497A1

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：US10555562

申请日：2004-05-06

申请人： Markus Weiss ,  Marco Wedowski ,  Bas Mertens ,  Bas Wolschrijn ,  Bart Van Mierlo ,  Norbert Koster ,  Jan Van Elp ,  Anton Duiserwinkel ,  Annemieke Van De Runstraat

发明人： Markus Weiss ,  Marco Wedowski ,  Bas Mertens ,  Bas Wolschrijn ,  Bart Van Mierlo ,  Norbert Koster ,  Jan Van Elp ,  Anton Duiserwinkel ,  Annemieke Van De Runstraat

IPC分类号： H01L21/00 ,  G03G15/00 ,  H01L21/31

CPC分类号： G03F7/70983 ,  G03F7/70916 ,  G21K1/06

摘要： The invention relates to a method for preventing contamination of the surfaces of reflective optical elements for the soft X-ray and EUV wavelength range during their irradiation at operating wavelength in an evacuated closed system having a residual gas atmosphere, said elements comprising a cover layer consisting of at least one transition metal. According to said method a residual gas atmosphere is adjusted. The aim of the invention is to prevent a degradation of the surfaces by deposition of carbon and by surface oxidation. For this purpose, both a reducing gas or gas mixture and a gas or gas mixture containing oxygen atoms are introduced. In conjunction with the cover layer of the reflective optical element that consists of a transition metal a degradation of the surface is effectively prevented

摘要翻译： 本发明涉及一种防止在具有残留气体气氛的抽空封闭系统中在其工作波长下照射时用于软X射线和EUV波长范围的反射光学元件表面的污染的方法，所述元件包括覆盖层， 的至少一种过渡金属。 根据所述方法，调节残留气体气氛。 本发明的目的是通过沉积碳和表面氧化来防止表面的降解。 为此，引入还原气体或气体混合物以及含有氧原子的气体或气体混合物。 结合由过渡金属组成的反射光学元件的覆盖层，有效地防止了表面的劣化