公开(公告)号：US20060245540A1

公开(公告)日：2006-11-02

申请号：US11345880

申请日：2006-02-02

申请人： Jorg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Joachim Wietzorrek ,  Joachim Hainz

发明人： Jorg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Joachim Wietzorrek ,  Joachim Hainz

IPC分类号： G21K5/00

CPC分类号： G02B3/0043 ,  B82Y10/00 ,  G02B3/0062 ,  G02B17/0657 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/708 ,  G21K1/06 ,  G21K1/062

摘要： There is provided an illumination system for scannertype microlithography along a scanning direction with a light source emitting a wavelength ≦193 nm. The illumination system includes a plurality of raster elements. The plurality of raster elements is imaged into an image plane of the illumination system to produce a plurality of images being partially superimposed on a field in the image plane. The field defines a non-rectangular intensity profile in the scanning direction.

公开(公告)号：US20090015812A1

公开(公告)日：2009-01-15

申请号：US12212926

申请日：2008-09-18

申请人： Joerg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Joachim Wietzorrek ,  Joachim Hainz

发明人： Joerg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Joachim Wietzorrek ,  Joachim Hainz

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358

摘要： There is provided an illumination system for scannertype microlithography along a scanning direction with a light source emitting a wavelength ≦193 nm. The illumination system includes a plurality of raster elements. The plurality of raster elements is imaged into an image plane of the illumination system to produce a plurality of images being partially superimposed on a field in the image plane. The field defines a non-rectangular intensity profile in the scanning direction.

摘要翻译： 提供了一种用于沿着扫描方向进行扫描器微光刻的照明系统，其中发射波长<= 193nm的光源。 照明系统包括多个光栅元件。 将多个光栅元件成像为照明系统的图像平面，以产生部分地叠加在图像平面中的场上的多个图像。 该场在扫描方向上定义非矩形强度分布。

公开(公告)号：US07443948B2

公开(公告)日：2008-10-28

申请号：US11345880

申请日：2006-02-02

申请人： Jörg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Joachim Wietzorrek ,  Joachim Hainz

发明人： Jörg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Joachim Wietzorrek ,  Joachim Hainz

IPC分类号： G21K5/04

CPC分类号： G02B3/0043 ,  B82Y10/00 ,  G02B3/0062 ,  G02B17/0657 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/708 ,  G21K1/06 ,  G21K1/062

摘要： There is provided an illumination system. the illumination system includes (a) a source of light having a wavelength of less than or equal to 193 nm, and (b) an optical element in a path of the light, having a first raster element, a second raster element, a third raster element and a fourth raster element situated thereon. The second raster element is adjacent to the first raster element, and located a first distance from the first raster element. The fourth raster element is adjacent to the third raster element, and located a second distance from the third raster element. The second distance is different from the first distance.

摘要翻译： 提供照明系统。 所述照明系统包括（a）具有小于或等于193nm的波长的光源，以及（b）光的路径中的光学元件，具有第一光栅元件，第二光栅元件，第三光栅元件 栅格元素和位于其上的第四光栅元素。 第二光栅元素与第一光栅元素相邻，并且与第一光栅元素位于第一距离。 第四光栅元素与第三光栅元素相邻，并且与第三光栅元素相距第二距离。 第二距离与第一距离不同。

公开(公告)号：US07006595B2

公开(公告)日：2006-02-28

申请号：US10150650

申请日：2002-05-17

申请人： Wolfgang Singer ,  Jörg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Martin Antoni ,  Joachim Wietzorrek ,  Joachim Hainz

发明人： Wolfgang Singer ,  Jörg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Martin Antoni ,  Joachim Wietzorrek ,  Joachim Hainz

IPC分类号： G21K5/04 ,  G21K5/10 ,  G03B27/42 ,  G03B27/54 ,  G03B27/72

CPC分类号： G02B3/0043 ,  B82Y10/00 ,  G02B3/0062 ,  G02B17/0657 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/708 ,  G21K1/06 ,  G21K1/062

摘要： There is provided an illumination system for scannertype microlithography along a scanning direction with a light source emitting a wavelength ≦193 nm. The illumination system includes a plurality of raster elements. The plurality of raster elements is imaged into an image plane of the illumination system to produce a plurality of images being partially superimposed on a field in the image plane. The field defines a non-rectangular intensity profile in the scanning direction.

公开(公告)号：US07091505B2

公开(公告)日：2006-08-15

申请号：US10775037

申请日：2004-02-09

申请人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

发明人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

IPC分类号： G21G5/00 ,  A61N5/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B7/182 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

摘要： There is provided a projection exposure system operable in a scanning mode along a scanning direction. The projection exposure system includes a collector that receives light having a wavelength ≦193 nm and illuminates a region in a plane. The plane is defined by a local coordinate system having a y-direction parallel to the scanning direction and an x-direction perpendicular to the scanning direction. The collector includes (a) a first mirror shell, (b) a second mirror shell within the first mirror shell, and (c) a fastening device for fastening the first and second mirror shells. The mirror shells are substantially rotational symmetric about a common rotational axis. The fastening device has a support spoke that extends in a radial direction of the mirror shells, and the support spoke, when projected into the plane, yields a projection that is non-parallel to the y-direction.

摘要翻译： 提供了沿着扫描方向以扫描模式操作的投影曝光系统。 投影曝光系统包括收集器，其收集波长<= 193nm的光并照亮平面中的区域。 平面由具有与扫描方向平行的y方向和垂直于扫描方向的x方向的局部坐标系限定。 收集器包括（a）第一镜壳，（b）第一镜壳内的第二镜壳，以及（c）用于紧固第一镜壳和第二镜壳的紧固装置。 镜壳基本上围绕公共旋转轴线旋转对称。 紧固装置具有在镜壳的径向方向上延伸的支撑辐条，并且当​​投影到平面中时支撑辐条产生不平行于y方向的突起。

公开(公告)号：US20070030948A1

公开(公告)日：2007-02-08

申请号：US11581053

申请日：2006-10-13

申请人： Wolfgang Singer ,  Joachim Hainz ,  Hans-Joachim Frasch ,  Johannes Wangler ,  Joachim Wietzorrek ,  Jorg Schultz

发明人： Wolfgang Singer ,  Joachim Hainz ,  Hans-Joachim Frasch ,  Johannes Wangler ,  Joachim Wietzorrek ,  Jorg Schultz

IPC分类号： G21K5/00

CPC分类号： G03F7/7015 ,  G03F7/70083 ,  G21K2201/06

摘要： This invention relates to an illumination system for scanning lithography especially for wavelengths ≦193 nm, particularly EUV lithography, for the illumination of a slit, comprising at least one field mirror or at least one field lens and being characterized in that at least one of the field mirror(s) or the field lens(es) has (have) an aspheric shape.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于扫描光刻的照明系统，特别是用于照射狭缝的波长<= 193nm，特别是EUV光刻，其包括至少一个场反射镜或至少一个场透镜，其特征在于，至少一个 场反射镜或场透镜具有非球面形状。

公开(公告)号：US20060291062A1

公开(公告)日：2006-12-28

申请号：US11416447

申请日：2006-05-02

申请人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

发明人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

IPC分类号： G02B27/10

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B7/182 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

摘要： There is provided a projection exposure system operable in a scanning mode along a scanning direction. The projection exposure system includes a collector that receives light having a wavelength 193 nm and illuminates a region in a plane. The plane is defined by a local coordinate system having a y-direction parallel to the scanning direction and an x-direction perpendicular to the scanning direction. The collector includes (a) a first mirror shell, (b) a second mirror shell within the first mirror shell, and (c) a fastening device for fastening the first and second mirror shells. The mirror shells are substantially rotational symmetric about a common rotational axis. The fastening device has a support spoke that extends in a radial direction of the mirror shells, and the support spoke, when projected into the plane, yields a projection that is non-parallel to the y-direction.

摘要翻译： 提供了沿着扫描方向以扫描模式操作的投影曝光系统。 投影曝光系统包括：收集器，其接收波长为193nm的光并照射平面中的区域。 平面由具有与扫描方向平行的y方向和垂直于扫描方向的x方向的局部坐标系限定。 收集器包括（a）第一镜壳，（b）第一镜壳内的第二镜壳，以及（c）用于紧固第一镜壳和第二镜壳的紧固装置。 镜壳基本上围绕公共旋转轴线旋转对称。 紧固装置具有在镜壳的径向方向上延伸的支撑辐条，并且当​​投影到平面中时支撑辐条产生不平行于y方向的突起。

公开(公告)号：US20080042079A1

公开(公告)日：2008-02-21

申请号：US11974718

申请日：2007-10-16

申请人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

发明人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

IPC分类号： G01J3/10

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B7/182 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

摘要： There is provided a system that includes a first optical sub-system contained in a first space, and a second optical sub-system contained in a second space. The first and said second spaces are separated by a structure selected from the group consisting of a diaphragm and a valve.

摘要翻译： 提供了一种包括包含在第一空间中的第一光学子系统和包含在第二空间中的第二光学子系统的系统。 第一和第二空间由选自隔膜和阀门的结构分开。

公开(公告)号：US07321126B2

公开(公告)日：2008-01-22

申请号：US11416447

申请日：2006-05-02

申请人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

发明人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

IPC分类号： A61N5/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B7/182 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

摘要： There is provided a projection exposure system operable in a scanning mode along a scanning direction. The projection exposure system includes a collector that receives light having a wavelength ≦193 nm and illuminates a region in a plane. The plane is defined by a local coordinate system having a y-direction parallel to the scanning direction and an x-direction perpendicular to the scanning direction. The collector includes (a) a first mirror shell, (b) a second mirror shell within the first mirror shell, and (c) a fastening device for fastening the first and second mirror shells. The mirror shells are substantially rotational symmetric about a common rotational axis. The fastening device has a support spoke that extends in a radial direction of the mirror shells, and the support spoke, when projected into the plane, yields a projection that is non-parallel to the y-direction.

摘要翻译： 提供了沿着扫描方向以扫描模式操作的投影曝光系统。 投影曝光系统包括收集器，其收集波长<= 193nm的光并照亮平面中的区域。 平面由具有与扫描方向平行的y方向和垂直于扫描方向的x方向的局部坐标系限定。 收集器包括（a）第一镜壳，（b）第一镜壳内的第二镜壳，以及（c）用于紧固第一镜壳和第二镜壳的紧固装置。 镜壳基本上围绕公共旋转轴线旋转对称。 紧固装置具有在镜壳的径向方向上延伸的支撑辐条，并且当​​投影到平面中时支撑辐条产生不平行于y方向的突起。

公开(公告)号：US07551361B2

公开(公告)日：2009-06-23

申请号：US10571267

申请日：2004-07-14

申请人： Hans-Juergen Rostalski ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Joerg Schultz ,  Franz-Josef Stickel ,  Wolfgang Singer ,  Joachim Wietzorrek

发明人： Hans-Juergen Rostalski ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Joerg Schultz ,  Franz-Josef Stickel ,  Wolfgang Singer ,  Joachim Wietzorrek

IPC分类号： G02B3/00

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70241

摘要： An optical imaging system for a microlithography projection exposure system is used for imaging an object field arranged in an object plane of the imaging system into an image field arranged in an image plane of the imaging system. A projection objective or a relay objective to be used in the illumination system can be involved, in particular. The imaging system has a plurality of lenses that are arranged between the object plane and the image plane and in each case have a first lens surface and a second lens surface. At least one of the lenses is a double aspheric lens where the first lens surface and the second lens surface is an aspheric surface. Lenses of good quality that have the action of an asphere with very strong deformation can be produced in the case of double aspheric lenses with an acceptable outlay as regards the surface processing and testing of the lens surfaces.

摘要翻译： 用于微光刻投影曝光系统的光学成像系统用于将布置在成像系统的物体平面中的物体场成像为布置在成像系统的图像平面中的图像场。 特别是可以涉及在照明系统中使用的投影物镜或中继物镜。 成像系统具有布置在物平面和图像平面之间的多个透镜，并且在每种情况下具有第一透镜表面和第二透镜表面。 至少一个透镜是双非球面透镜，其中第一透镜表面和第二透镜表面是非球面。 对于具有可接受的关于透镜表面的表面处理和测试的费用的双非球面透镜的情况，可以产生具有非常强的变形非球面作用的良好质量的透镜。