公开(公告)号：US20100151392A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：US12332501

申请日：2008-12-11

申请人： M. Dalil Rahman ,  Yi Yi ,  Douglas McKenzie ,  Clement Anyadiegwu ,  Ping-Hung Lu

发明人： M. Dalil Rahman ,  Yi Yi ,  Douglas McKenzie ,  Clement Anyadiegwu ,  Ping-Hung Lu

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08L83/06

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08G61/02 ,  C08G2261/342 ,  C08L83/04 ,  C09D165/00

摘要： The present invention relates to an organic spin coatable antireflective coating composition comprising a polymer, a linking component, a crosslinker, and an acid generator. The invention further relates to a process for imaging the present composition.

摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，连接组分，交联剂和酸产生剂的有机旋涂可涂抗反射涂料组合物。 本发明还涉及用于对本发明组合物进行成像的方法。

公开(公告)号：US20110151376A1

公开(公告)日：2011-06-23

申请号：US12646191

申请日：2009-12-23

申请人： M. Dalil Rahman ,  Douglas McKenzie ,  Huirong Yao ,  JoonYeon Cho ,  Yi Yi ,  Guanyang Lin

发明人： M. Dalil Rahman ,  Douglas McKenzie ,  Huirong Yao ,  JoonYeon Cho ,  Yi Yi ,  Guanyang Lin

IPC分类号： G03F7/00 ,  C08G65/48

CPC分类号： C09D165/00 ,  C08G2261/141 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/42 ,  C08G2261/50 ,  C08G2261/76 ,  C08L65/00 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/3081

摘要： The invention relates to an antireflective coating composition comprising a crosslinker and a crosslinkable polymer capable of being crosslinked by the crosslinker, where the crosslinkable polymer comprises a unit represented by structure (1): A-Bn  (1) where A is a fused aromatic ring and B has a structure (2), where R1 is C1-C4alkyl and R2 is C1-C4alkylThe invention further relates to a process for forming an image using the composition.

摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含能够由交联剂交联的交联剂和可交联聚合物，其中可交联聚合物包含由结构（1）表示的单元：其中A是稠合芳族化合物 环和B具有结构（2），其中R 1是C 1 -C 4烷基，R 2是C 1 -C 4烷基。本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法。

公开(公告)号：US09181449B2

公开(公告)日：2015-11-10

申请号：US14107325

申请日：2013-12-16

申请人： Yi Yi ,  Jian Yin ,  Guanyang Lin

发明人： Yi Yi ,  Jian Yin ,  Guanyang Lin

IPC分类号： C09D143/04 ,  C09D133/12 ,  G03F7/16 ,  C09D137/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： C09D143/04 ,  C09D133/12 ,  C09D137/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/168

摘要： Disclosed herein is an underlayer composition, wherein the underlayer is typically used for promoting the formation of self assembled structures, and wherein the underlayer formulation comprises: (a) a polymer comprising at least one monomer repeat unit having the structure (I) wherein X is a crosslinking group chosen from and wherein n is 0-5, p is 0-5, q is 1-2, m is 1-2 and R is H, C1-C4alkyl or tri(C1-C4alkyl)silyl; (b) at least one thermal acid generator; and (c) a solvent. The invention further relates to methods of making and using the composition.

摘要翻译： 本文公开了一种底层组合物，其中底层通常用于促进自组装结构的形成，并且其中底层制剂包含：（a）包含至少一种具有结构（I）的单体重复单元的聚合物，其中X为 选自其中n为0-5的交联基团，p为0-5，q为1-2，m为1-2，R为H，C 1 -C 4烷基或三（C 1 -C 4烷基）甲硅烷基; （b）至少一个热酸发生器; 和（c）溶剂。 本发明还涉及制备和使用该组合物的方法。

公开(公告)号：US20110008732A1

公开(公告)日：2011-01-13

申请号：US12878211

申请日：2010-09-09

申请人： Christopher K. Ober ,  Yi Yi ,  Ramakrishnan Ayothi

发明人： Christopher K. Ober ,  Yi Yi ,  Ramakrishnan Ayothi

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07C305/18 ,  G03F7/20

CPC分类号： C07D307/33 ,  C07C309/06 ,  C07C309/10 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114

摘要： The invention provides various ionic and non-ionic photoacid generator compounds. Photoresist compositions that include the novel ionic and non-ionic photoacid generator compounds are also provided. The invention further provides methods of making and using the photoacid generator compounds and photoresist compositions disclosed herein. The compounds and compositions are useful as photoactive components in chemically amplified resist compositions for various microfabrication applications.

摘要翻译： 本发明提供各种离子和非离子光致酸发生剂化合物。 还提供了包含新型离子和非离子光酸产生剂化合物的光致抗蚀剂组合物。 本发明还提供了制备和使用本文公开的光致酸产生剂化合物和光致抗蚀剂组合物的方法。 化合物和组合物可用作用于各种微细加工应用的化学放大抗蚀剂组合物中的光活性组分。

公开(公告)号：US20090258315A1

公开(公告)日：2009-10-15

申请号：US12421544

申请日：2009-04-09

申请人： Christopher K. Ober ,  Yi Yi

发明人： Christopher K. Ober ,  Yi Yi

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C07D309/10 ,  C07H15/04

CPC分类号： C07H15/04 ,  C07D309/10 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/122

摘要： The invention provides various photoacid generator compounds and ionic components thereof. Photoresist compositions that include the ions and non-ionic photoacid generator compounds are also provided. The invention further provides methods of making and using the photoacid generator compounds and photoresist compositions disclosed herein. The compounds and compositions are useful as photoactive components in chemically amplified resist compositions for use in, for example, various microfabrication applications.

摘要翻译： 本发明提供各种光酸产生剂化合物及其离子组分。 还提供了包含离子和非离子光酸产生剂化合物的光致抗蚀剂组合物。 本发明还提供了制备和使用本文公开的光致酸产生剂化合物和光致抗蚀剂组合物的方法。 化合物和组合物可用作用于例如各种微细加工应用的化学放大抗蚀剂组合物中的光敏组分。

公开(公告)号：US20090136868A1

公开(公告)日：2009-05-28

申请号：US12255266

申请日：2008-10-21

申请人： Christopher K. Ober ,  Yi Yi ,  Ramakrishnan Ayothi

发明人： Christopher K. Ober ,  Yi Yi ,  Ramakrishnan Ayothi

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07D307/12 ,  G03F7/20 ,  C07C309/32

CPC分类号： C07D307/33 ,  C07C309/06 ,  C07C309/10 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114

摘要： The invention provides various ionic and non-ionic photoacid generator compounds. Photoresist compositions that include the novel ionic and non-ionic photoacid generator compounds are also provided. The invention further provides methods of making and using the photoacid generator compounds and photoresist compositions disclosed herein. The compounds and compositions are useful as photoactive components in chemically amplified resist compositions for various microfabrication applications.

摘要翻译： 本发明提供各种离子和非离子光致酸发生剂化合物。 还提供了包含新型离子和非离子光酸产生剂化合物的光致抗蚀剂组合物。 本发明还提供了制备和使用本文公开的光致酸产生剂化合物和光致抗蚀剂组合物的方法。 化合物和组合物可用作用于各种微细加工应用的化学放大抗蚀剂组合物中的光活性组分。

公开(公告)号：US08341187B2

公开(公告)日：2012-12-25

申请号：US13097925

申请日：2011-04-29

申请人： Zhiwei Yan ,  Mei Zhang ,  Wanlong Li ,  Yi Yi

发明人： Zhiwei Yan ,  Mei Zhang ,  Wanlong Li ,  Yi Yi

IPC分类号： G06F17/30

CPC分类号： H04L45/745

摘要： A method and device for storage are provided in embodiments of the present invention. The method includes: acquiring a storage position of a table entry in a hierarchical binary tree that includes a first-part binary tree and second-part binary trees, wherein nodes of the first-part binary tree point to the second-part binary trees through pointers; and inserting the table entry to the hierarchical binary tree according to the storage position. In the embodiments of the present invention, the hierarchical binary tree structure with pointers is adopted to store table entry content, reducing the times of moving table entries and greatly improving the algorithm refresh rate.

摘要翻译： 在本发明的实施例中提供了用于存储的方法和装置。 该方法包括：获取包含第一部分二叉树和第二部分二进制树的分层二叉树中的表条目的存储位置，其中第一部分二叉树的节点指向第二部分二叉树 指针 并根据存储位置将表条目插入分层二叉树。 在本发明的实施例中，采用具有指针的分层二叉树结构来存储表条目内容，减少了移动表条目的次数，并大大提高了算法刷新率。

公开(公告)号：US08163461B2

公开(公告)日：2012-04-24

申请号：US12421544

申请日：2009-04-09

申请人： Christopher K. Ober ,  Yi Yi

发明人： Christopher K. Ober ,  Yi Yi

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C07H15/04 ,  C07D309/10

CPC分类号： C07H15/04 ,  C07D309/10 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/122

摘要： The invention provides various photoacid generator compounds and ionic components thereof. Photoresist compositions that include the ions and non-ionic photoacid generator compounds are also provided. The invention further provides methods of making and using the photoacid generator compounds and photoresist compositions disclosed herein. The compounds and compositions are useful as photoactive components in chemically amplified resist compositions for use in, for example, various microfabrication applications.

摘要翻译： 本发明提供各种光酸产生剂化合物及其离子组分。 还提供了包含离子和非离子光酸产生剂化合物的光致抗蚀剂组合物。 本发明还提供了制备和使用本文公开的光致酸产生剂化合物和光致抗蚀剂组合物的方法。 化合物和组合物可用作用于例如各种微细加工应用的化学放大抗蚀剂组合物中的光敏组分。

公开(公告)号：US08268531B2

公开(公告)日：2012-09-18

申请号：US12878211

申请日：2010-09-09

申请人： Christopher K. Ober ,  Yi Yi ,  Ramakrishnan Ayothi

发明人： Christopher K. Ober ,  Yi Yi ,  Ramakrishnan Ayothi

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/40

CPC分类号： C07D307/33 ,  C07C309/06 ,  C07C309/10 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114

摘要： The invention provides various ionic and non-ionic photoacid generator compounds. Photoresist compositions that include the novel ionic and non-ionic photoacid generator compounds are also provided. The invention further provides methods of making and using the photoacid generator compounds and photoresist compositions disclosed herein. The compounds and compositions are useful as photoactive components in chemically amplified resist compositions for various microfabrication applications.

摘要翻译： 本发明提供各种离子和非离子光致酸发生剂化合物。 还提供了包含新型离子和非离子光酸产生剂化合物的光致抗蚀剂组合物。 本发明还提供了制备和使用本文公开的光致酸产生剂化合物和光致抗蚀剂组合物的方法。 化合物和组合物可用作用于各种微细加工应用的化学放大抗蚀剂组合物中的光活性组分。

公开(公告)号：US08208408B2

公开(公告)日：2012-06-26

申请号：US12732693

申请日：2010-03-26

申请人： Wenhua Du ,  Rongfeng Hong ,  Yi Yi

发明人： Wenhua Du ,  Rongfeng Hong ,  Yi Yi

IPC分类号： H04L12/28

CPC分类号： G06N5/02 ,  G06F17/30961

摘要： A tree-based node insertion method and a memory device are disclosed in embodiments of the present invention. The tree-based node insertion method includes: according to the key value of a node to be inserted, searching in a primary tree for the nearest node whose key value is smaller than and the most approximate to the key value of the node to be inserted; judging whether the current secondary tree is full, and if so, selecting a node from the current secondary tree as a split node, transferring all the nodes on the right of the split node in the current secondary tree to the new secondary tree, and if not, inserting the node to be inserted into the current secondary tree.

摘要翻译： 在本发明的实施例中公开了一种基于树的节点插入方法和存储器件。 基于树的节点插入方法包括：根据要插入的节点的密钥值，在主树中搜索密钥值小于最接近节点并最接近要插入节点的密钥值的最近节点 ; 判断当前辅助树是否已满，如果是，则从当前辅助树中选择节点作为分割节点，将当前辅助树中的分割节点右侧的所有节点传输到新的辅助树，如果 不插入要插入当前辅助树的节点。