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    Method of and device for repetitively imaging a mask pattern on a substrate using five measuring axes
    2.
    发明授权
    Method of and device for repetitively imaging a mask pattern on a substrate using five measuring axes 失效
    使用五个测量轴对基板上的掩模图案进行重复成像的方法和装置

    公开(公告)号：US5801832A

    公开(公告)日：1998-09-01

    申请号：US437490

    申请日：1995-05-09

    申请人： Marinus A. Van Den Brink

    发明人： Marinus A. Van Den Brink

    IPC分类号： G03F7/22 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  H01L21/68 ,  G01B9/02

    CPC分类号： G03F9/7026 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F9/70 ,  G03F9/7049

    摘要： A method is described for repetitively imaging a mask pattern, on separate fields of a substrate (W), for example, for IC manufacture, which substrate fields are positioned without any field-by-field alignment so that the speed of throughput of substrates can be increased. An accurate interferometer system (50, 100, 150) having five measuring axes (MAX.sub.1, MAX.sub.2, MAX.sub.3, MAX.sub.4, MAX.sub.5) is also described, which system is intended in the first instance for use in an apparatus for performing the method, but which can also be used in a more general way in those cases where an object must be measured in five degrees of freedom.

    摘要翻译： 描述了一种用于在例如用于IC制造的衬底（W）的单独场上重复地对掩模图案进行成像的方法，哪些衬底字段被定位而没有任何逐场校准，使得衬底的生产速度可以 增加。 还描述了具有五个测量轴（MAX1，MAX2，MAX3，MAX4，MAX5）的精确干涉仪系统（50,100,150），该系统首先用于在用于执行该方法的装置中，但是哪个 在一个物体必须以五个自由度进行测量的情况下，也可以以更一般的方式使用。

    Photolithographic apparatus
    3.
    发明授权
    Photolithographic apparatus 失效
    光刻设备

    公开(公告)号：US6067146A

    公开(公告)日：2000-05-23

    申请号：US833873

    申请日：1997-04-10

    申请人： Johannes C. H. Mulkens ,  Marinus A. Van Den Brink ,  Johannes C. M. Jasper

    发明人： Johannes C. H. Mulkens ,  Marinus A. Van Den Brink ,  Johannes C. M. Jasper

    IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03B27/72 ,  G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/70058 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70425

    摘要： Photolithographic apparatus (1) including an illumination unit (3). The illumination unit (3) comprises, in this order, a radiation source unit (11), a first optical system (5) and an optical waveguide (17). The apparatus (1) further includes a second optical system (7) and a mask table (9). The apparatus (1) is adapted in such a way that both the stepper mode and the scanner mode are selectable modi, and comprises means by which the illumination unit (11), when being operative, has a slit-shaped static illumination field with a width s which is variable between s.sub.min and s.sub.max while substantially maintaining energy within the static illumination field.

    摘要翻译： 包括照明单元（3）的光刻设备（1）。 照明单元（3）依次包括辐射源单元（11），第一光学系统（5）和光波导（17）。 装置（1）还包括第二光学系统（7）和掩模台（9）。 该装置（1）适于使步进模式和扫描器模式都可选择，并且包括这样的装置，照明单元（11）在操作时具有狭缝状的静态照明场，其中具有 宽度s在smin和smax之间是可变的，同时在静态照明领域内基本上保持能量。

    Apparatus for projecting a mask pattern on a substrate
    4.
    发明授权
    Apparatus for projecting a mask pattern on a substrate 失效
    用于将掩模图案投影在基板上的装置

    公开(公告)号：US5481362A

    公开(公告)日：1996-01-02

    申请号：US57437

    申请日：1993-05-06

    申请人： Marinus A. Van Den Brink ,  Henk F. D. Linders ,  Stefan Wittekoek

    发明人： Marinus A. Van Den Brink ,  Henk F. D. Linders ,  Stefan Wittekoek

    IPC分类号： G03F1/08 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G01B11/00

    CPC分类号： G03F9/7049

    摘要： An apparatus for projecting a mask pattern (MA) on a substrate (W) by means of a projection lens system (PL) is described, which apparatus comprises a device for aligning a mask alignment mark (M.sub.1, M.sub.2) with respect to a substrate alignment mark (P.sub.1, P.sub.2). Means (WE.sub.1, WE.sub.2) preventing phase differences due to reflections at the mask plate (MA) from occurring within the alignment beam portions received by a detection system (13, 13') are arranged in the path of selected alignment beam portions (b.sub.1, b.sub.1 ').

    摘要翻译： 描述了一种用于通过投影透镜系统（PL）将掩模图案（MA）投影在基板（W）上的装置，该装置包括用于将掩模对准标记（M1，M2）相对于基板 对准标记（P1，P2）。 在检测系统（13,13'）所接收的对准光束部分内发生防止在掩模板（MA）上产生反射的相位差的装置（WE1，WE2）布置在选定的对准光束部分（b1， b1'）。

    Photolithographic apparatus
    6.
    发明授权
    Photolithographic apparatus 失效
    光刻设备

    公开(公告)号：US06239862B1

    公开(公告)日：2001-05-29

    申请号：US09506343

    申请日：2000-02-18

    申请人： Johannes C. H. Mulkens ,  Marinus A. Van Den Brink ,  Johannes C. M. Jasper

    发明人： Johannes C. H. Mulkens ,  Marinus A. Van Den Brink ,  Johannes C. M. Jasper

    IPC分类号： G03B2742

    CPC分类号： G03F7/70058 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70425

    摘要： Photolithographic apparatus (1) including an illumination unit (3). The illumination unit (3) comprises, in this order, a radiation source unit (11), a first optical system (5) and an optical waveguide (17). The apparatus (1) further includes a second optical system (7) and a mask table (9). The apparatus (1) is adapted in such a way that both the stepper mode and the scanner mode are selectable modi, and comprises means by which the illumination unit (11), when being operative, has a slit-shaped static illumination field with a width s which is variable between smin and smax while substantially maintaining energy within the static illumination field.

    摘要翻译： 包括照明单元（3）的光刻设备（1）。 照明单元（3）依次包括辐射源单元（11），第一光学系统（5）和光波导（17）。 装置（1）还包括第二光学系统（7）和掩模台（9）。 该装置（1）适于使步进模式和扫描器模式都可选择，并且包括这样的装置，照明单元（11）在操作时具有狭缝状的静态照明场，其中具有 宽度s在smin和smax之间是可变的，同时在静态照明领域内基本上保持能量。