公开(公告)号：US08901012B2

公开(公告)日：2014-12-02

申请号：US13599358

申请日：2012-08-30

申请人： Masayuki Hatano ,  Hiroshi Tokue

发明人： Masayuki Hatano ,  Hiroshi Tokue

IPC分类号： C23C16/52 ,  H01L21/67 ,  C23C16/44

CPC分类号： C23C16/52 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C23C16/4401 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/6715

摘要： According to one embodiment, a semiconductor manufacturing apparatus includes a substrate stage, a transfer unit, and a control unit. A substrate is settable on the substrate stage. The transfer unit is configured to transfer a pattern having an uneven configuration onto a major surface of the substrate by attachably and removably holding a template. The pattern is provided in the transfer surface. The control unit is configured to acquire information relating to a number of foreign objects on the major surface prior to the transferring of the pattern. The control unit adds the number for a plurality of the substrates including the pattern transferred by the transfer unit. The control unit causes the transfer unit not to implement the transferring of the pattern in the case where the sum has reached the upper limit.

摘要翻译： 根据一个实施例，半导体制造装置包括基板台，转印单元和控制单元。 衬底可在衬底台上设置。 转印单元被配置为通过可附接地和可移除地保持模板将具有不均匀构造的图案转印到基板的主表面上。 转印面上设有图案。 控制单元被配置为在传送图案之前获取与主表面上的多个异物相关的信息。 控制单元添加包括由传送单元传送的图案的多个基板的数量。 在总和达到上限的情况下，控制单元使得传送单元不执行图案的传送。

公开(公告)号：US08468480B2

公开(公告)日：2013-06-18

申请号：US12725202

申请日：2010-03-16

申请人： Ryoichi Inanami ,  Hiroshi Tokue ,  Ikuo Yoneda

发明人： Ryoichi Inanami ,  Hiroshi Tokue ,  Ikuo Yoneda

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5081 ,  G06F2217/12 ,  Y02P90/265

摘要： A method of designing a template pattern used for imprint lithography, includes generating data of a dummy template pattern to be formed in a third area between first and second areas of a template based on data of a design pattern of the template, the data of the dummy template pattern being generated so that a third surface area ratio showing a ratio of a surface area of the third area to an area of the third area is set smaller than a first surface area ratio showing a ratio of a surface area of the first area to an area of the first area and larger than a second surface area ratio showing a ratio of a surface area of the second area to an area of the second area.

摘要翻译： 一种设计用于压印光刻的模板图案的方法，包括基于模板的设计图案的数据，生成要形成在模板的第一和第二区域之间的第三区域中的虚拟模板图案的数据， 生成虚拟模板图案，使得将表示第三区域的表面积与第三区域的面积的比率的第三表面积比设定为小于表示第一区域的表面积的比率的第一表面积比 相对于第一区域的面积大于表示第二区域的表面积与第二区域的面积的比率的第二表面积比。

公开(公告)号：US20070138957A1

公开(公告)日：2007-06-21

申请号：US11677376

申请日：2007-02-21

申请人： Hiroshi Tokue ,  Takashi Sudo ,  Hideharu Takahashi

发明人： Hiroshi Tokue ,  Takashi Sudo ,  Hideharu Takahashi

IPC分类号： H01J1/62

CPC分类号： H01J9/027 ,  H01J9/241 ,  H01J9/38 ,  H01J31/127

摘要： The invention relates to a method of manufacturing an electron emission element, having a step of forming a pair of element electrodes on a rear plate, a step of forming a conductive film to connect the element electrodes, and a forming process of forming an electron emitter on a conductive film by applying power to the element electrodes. The method has an impurities elimination process for eliminating impurities adhered to an electron emitter, by giving element electrodes a voltage of polarity opposite to that in ordinary operation in a vacuum atmosphere, through a baking process, after carbon is adhered to an electron emitter by an activation process. The impurities adhered to the electron emitter can be securely eliminated by performing the impurities elimination process, without using an exclusive processor.

摘要翻译： 本发明涉及一种制造电子发射元件的方法，具有在后板上形成一对元件电极的步骤，形成用于连接元件电极的导电膜的步骤和形成电子发射体的形成工艺 通过向元件电极施加电力而在导电膜上。 该方法通过在真空气氛中通过烘烤过程赋予元件电极极性与正常操作相反的电压的电压，在碳通过电子发射器粘附到电子发射器之后，具有用于消除附着在电子发射器上的杂质的杂质消除处理 激活过程。 通过不使用专用处理器，通过进行杂质消除处理，能够可靠地除去附着于电子发射体的杂质。

公开(公告)号：US08142694B2

公开(公告)日：2012-03-27

申请号：US12722937

申请日：2010-03-12

申请人： Hiroshi Tokue ,  Takumi Ota

发明人： Hiroshi Tokue ,  Takumi Ota

IPC分类号： B29C45/76

CPC分类号： B29C59/022 ,  B29C35/0888 ,  B29C37/0003 ,  B29C37/0096 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2037/90 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： A method for forming an imprint pattern includes: contacting a template having a first pattern with a curable material on a substrate to be treated and curing the curable material; releasing the template from the curable material after curing to form a second pattern made of the curable material such that the first pattern is transferred and formed as the second pattern for the substrate; measuring at least one of a load or time requiring for separation of the template when the template is separated from the curable material after transferring and forming; and comparing the load or time measured with a predetermined threshold value and determining whether the load or time measured is beyond the predetermined threshold value or not.

摘要翻译： 形成压印图案的方法包括：使具有第一图案的模板与待处理基板上的可固化材料接触并固化可固化材料; 在固化后从可固化材料释放模板以形成由可固化材料制成的第二图案，使得第一图案被转印并形成为基板的第二图案; 测量模板在转移和成型后与可固化材料分离时需要分离模板的载荷或时间中的至少一个; 以及将所测量的负载或时间与预定阈值进行比较，并确定所测量的负载或时间是否超过预定阈值。

公开(公告)号：US08444889B2

公开(公告)日：2013-05-21

申请号：US12726503

申请日：2010-03-18

申请人： Hiroshi Tokue ,  Ikuo Yoneda ,  Ryoichi Inanami

发明人： Hiroshi Tokue ,  Ikuo Yoneda ,  Ryoichi Inanami

IPC分类号： B29C59/02 ,  G01B11/10

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C33/00 ,  B29C43/021 ,  B29C2043/025 ,  B29C2043/3233 ,  B29C2043/3488 ,  B29C2043/5808 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： An imprint pattern forming method includes contacting a template with a pattern in a front surface with an imprint material formed in a substrate to fill the imprint material into the pattern, curing the imprint material filled in the pattern to form an imprint material pattern, and after forming the imprint material pattern, separating the template from the imprint material pattern while applying pressure to the back surface of the template.

摘要翻译： 压印图案形成方法包括使模板与前表面中的图案与形成在基板中的压印材料接触以将压印材料填充到图案中，固化填充在图案中的压印材料以形成压印材料图案，并且之后 形成压印材料图案，将模板与压印材料图案分离，同时向模板的背面施加压力。

公开(公告)号：US08221827B2

公开(公告)日：2012-07-17

申请号：US12549232

申请日：2009-08-27

申请人： Hiroshi Tokue ,  Ikuo Yoneda ,  Shinji Mikami ,  Takumi Ota

发明人： Hiroshi Tokue ,  Ikuo Yoneda ,  Shinji Mikami ,  Takumi Ota

IPC分类号： B05D5/00

CPC分类号： B29C33/424 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： A patterning method according to an embodiment of the present invention comprises: acquiring information about a surface state of an underlying film formed on a substrate; determining, based on the surface state, whether irregularity/foreign matter is present in each shot region in which a pattern is to be formed; and solidifying a resist agent while a first template, when it is determined that no irregularity/foreign matter is present in the shot region, or a second template that is different from the first template, when it is determined that irregularity/foreign matter is present in the shot region, is brought close to the underlying film on the shot region at a certain distance with the resist agent therebetween.

摘要翻译： 根据本发明的实施例的图案化方法包括：获取关于形成在基板上的底层膜的表面状态的信息; 基于表面状态确定在要形成图案的每个拍摄区域中是否存在不规则/异物; 并且当确定存在不规则/异物时，当确定在射击区域中不存在不规则/异物或与第一模板不同的第二模板时，第一模板固化抗蚀剂 在射出区域中，与其间的抗蚀剂在一定距离处使其与射出区域上的底层膜接近。

公开(公告)号：US20100244326A1

公开(公告)日：2010-09-30

申请号：US12726503

申请日：2010-03-18

申请人： Hiroshi Tokue ,  Ikuo Yoneda ,  Ryoichi Inanami

发明人： Hiroshi Tokue ,  Ikuo Yoneda ,  Ryoichi Inanami

IPC分类号： G01B11/10 ,  B29C59/02

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C33/00 ,  B29C43/021 ,  B29C2043/025 ,  B29C2043/3233 ,  B29C2043/3488 ,  B29C2043/5808 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： An imprint pattern forming method includes contacting a template with a pattern in a front surface with an imprint material formed in a substrate to fill the imprint material into the pattern, curing the imprint material filled in the pattern to form an imprint material pattern, and after forming the imprint material pattern, separating the template from the imprint material pattern while applying pressure to the back surface of the template.

摘要翻译： 压印图案形成方法包括使模板与前表面中的图案与形成在基板中的压印材料接触以将压印材料填充到图案中，固化填充在图案中的压印材料以形成压印材料图案，并且之后 形成压印材料图案，将模板与压印材料图案分离，同时向模板的背面施加压力。

公开(公告)号：US20100237540A1

公开(公告)日：2010-09-23

申请号：US12725202

申请日：2010-03-16

申请人： Ryoichi INANAMI ,  Hiroshi Tokue ,  Ikuo Yoneda

发明人： Ryoichi INANAMI ,  Hiroshi Tokue ,  Ikuo Yoneda

IPC分类号： B29C59/02 ,  G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5081 ,  G06F2217/12 ,  Y02P90/265

摘要： A method of designing a template pattern used for imprint lithography, includes generating data of a dummy template pattern to be formed in a third area between first and second areas of a template based on data of a design pattern of the template, the data of the dummy template pattern being generated so that a third surface area ratio showing a ratio of a surface area of the third area to an area of the third area is set smaller than a first surface area ratio showing a ratio of a surface area of the first area to an area of the first area and larger than a second surface area ratio showing a ratio of a surface area of the second area to an area of the second area.

摘要翻译： 一种设计用于压印光刻的模板图案的方法，包括基于模板的设计图案的数据，生成要形成在模板的第一和第二区域之间的第三区域中的虚拟模板图案的数据， 生成虚拟模板图案，使得将表示第三区域的表面积与第三区域的面积的比率的第三表面积比设定为小于表示第一区域的表面积的比率的第一表面积比 相对于第一区域的面积大于表示第二区域的表面积与第二区域的面积的比率的第二表面积比。