公开(公告)号：US20110199593A1

公开(公告)日：2011-08-18

申请号：US13024364

申请日：2011-02-10

申请人： Michel Riepen ,  Nicolaas Rudolf Kemper

发明人： Michel Riepen ,  Nicolaas Rudolf Kemper

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70341

摘要： A meniscus pinning device has a plurality of openings through which liquid and gas from the environment are extracted. The openings are of an intermediate size, having a maximum cross-sectional dimension (e.g., diameter) in the range of from about 75 μm to about 150 μm.

摘要翻译： 弯液面钉扎装置具有多个开口，通过该开口提取来自环境的液体和气体。 开口具有中等尺寸，其最大横截面尺寸（例如，直径）在约75μm至约150μm的范围内。

公开(公告)号：US20090279063A1

公开(公告)日：2009-11-12

申请号：US12437466

申请日：2009-05-07

申请人： Michel Riepen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Daniel Jozef Maria Direcks ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Arnold Jan Van Putten

发明人： Michel Riepen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Daniel Jozef Maria Direcks ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Arnold Jan Van Putten

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70916

摘要： An immersion lithographic apparatus is described in which a liquid removal device is arranged to remove liquid from the substrate, e.g. during exposures, through a plurality of elongate slots arranged along a line and angled to that line. The liquid removal device may act as a meniscus pinning device in an immersion hood or may be used in a drying device to remove a droplet from the substrate.

摘要翻译： 描述了一种浸没式光刻设备，其中液体去除装置被布置成从基板除去液体，例如， 在曝光期间，通过沿着一条线布置并与该线成角度的多个细长槽。 液体移除装置可以用作浸没罩中的弯月面钉扎装置，或者可以用于干燥装置中以从基底去除液滴。

公开(公告)号：US09383654B2

公开(公告)日：2016-07-05

申请号：US12506565

申请日：2009-07-21

申请人： Daniel Jozef Maria Direcks ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Michel Riepen ,  Clemens Johannes Gerardus Van Den Dungen ,  Adrianes Johannes Baeten ,  Fabrizio Evangelista

发明人： Daniel Jozef Maria Direcks ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Michel Riepen ,  Clemens Johannes Gerardus Van Den Dungen ,  Adrianes Johannes Baeten ,  Fabrizio Evangelista

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70991

摘要： A fluid handling structure for a lithographic apparatus is disclosed. The fluid handling structure has a plurality of openings arranged in plan, in a line. The fluid handling structure is configured such that the openings are directed, in use, towards a facing surface, the facing surface being a substrate and/or a substrate table. The substrate table is configured to support the substrate. Outward of the line of openings is a damper. The damper may have a width that varies along the line of openings. The damper width is defined between the line of openings and an opposing damper edge.

摘要翻译： 公开了一种用于光刻设备的流体处理结构。 流体处理结构具有以平面方式排成一行的多个开口。 流体处理结构被配置为使得开口在使用中朝向相对表面定向，面对表面是基底和/或基底台。 衬底台被配置为支撑衬底。 开口线的外侧是阻尼器。 阻尼器可以具有沿着开口线变化的宽度。 阻尼器宽度限定在开口线和相对的阻尼器边缘之间。

公开(公告)号：US08953142B2

公开(公告)日：2015-02-10

申请号：US12543011

申请日：2009-08-18

申请人： Nicolaas Rudolf Kemper ,  Nicolaas Ten Kate ,  Joost Jeroen Ottens ,  Marcel Beckers ,  Marco Polizzi ,  Michel Riepen ,  Anthonie Kuijper ,  Koen Steffens ,  Adrianes Johannes Baeten ,  Anca Mihaela Antonevici

发明人： Nicolaas Rudolf Kemper ,  Nicolaas Ten Kate ,  Joost Jeroen Ottens ,  Marcel Beckers ,  Marco Polizzi ,  Michel Riepen ,  Anthonie Kuijper ,  Koen Steffens ,  Adrianes Johannes Baeten ,  Anca Mihaela Antonevici

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/58 ,  G03B27/60 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70866 ,  B01D19/0021 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70341

摘要： An immersion lithographic apparatus is described in which a two-phase flow is separated into liquid-rich and gas-rich flows by causing the liquid-rich flow to preferentially flow along a surface.

摘要翻译： 描述了一种浸没式光刻设备，其中通过使富液体流优先沿着表面流动，将两相流分离成富含液体的富气流。

公开(公告)号：US08804094B2

公开(公告)日：2014-08-12

申请号：US13024364

申请日：2011-02-10

申请人： Michel Riepen ,  Nicolaas Rudolf Kemper

发明人： Michel Riepen ,  Nicolaas Rudolf Kemper

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70341

摘要： A meniscus pinning device has a plurality of openings through which liquid and gas from the environment are extracted. The openings are of an intermediate size, having a maximum cross-sectional dimension (e.g., diameter) in the range of from about 75 μm to about 150 μm.

摘要翻译： 弯液面钉扎装置具有多个开口，通过该开口提取来自环境的液体和气体。 开口具有中等尺寸，其最大横截面尺寸（例如，直径）在约75μm至约150μm的范围内。

公开(公告)号：US09176393B2

公开(公告)日：2015-11-03

申请号：US12472099

申请日：2009-05-26

申请人： Christian Gerardus Norbertus Hendricus Marie Cloin ,  Nicolaas Ten Kate ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Marco Koert Stavenga ,  Erik Henricus Egidius Catharina Eummelen ,  Michel Riepen ,  Olga Vladimirovna Elisseeva ,  Tijmen Wilfred Mathijs Gunther ,  Michaël Christiaan Van Der Wekken

发明人： Christian Gerardus Norbertus Hendricus Marie Cloin ,  Nicolaas Ten Kate ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Marco Koert Stavenga ,  Erik Henricus Egidius Catharina Eummelen ,  Michel Riepen ,  Olga Vladimirovna Elisseeva ,  Tijmen Wilfred Mathijs Gunther ,  Michaël Christiaan Van Der Wekken

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed that includes a table, a shutter member, a fluid handling structure, and a fluid extraction system. The fluid handling structure may be configured to supply and confine liquid between a projection system and (i) a substrate, or (ii) the table, or (iii) a surface of the shutter member, or (iv) a combination selected from (i)-(iii). The surface of the shutter member may adjoin and be co-planar with a surface of the table. The surfaces of the shutter member and the table may be spaced apart by a gap. The fluid extraction system may be configured to remove liquid from the gap.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置，其包括工作台，活门构件，流体处理结构和流体抽出系统。 流体处理结构可以被配置为在投影系统和（i）基板之间供应和限制液体，或者（ii）工作台，或（iii）活门构件的表面，或者（iv）选自（ i） - （iii）。 活门构件的表面可以与桌子的表面邻接并且共面。 活门构件和桌子的表面可以间隔开间隙。 流体提取系统可以构造成从间隙去除液体。

公开(公告)号：US08654309B2

公开(公告)日：2014-02-18

申请号：US12634242

申请日：2009-12-09

申请人： Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robertus Nicodemus Jacobus Van Ballegoij ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Michel Riepen ,  Martinus Wilhelmus Van Den Heuvel ,  Paul Petrus Joannes Berkvens ,  Christophe De Metsenaere ,  Jimmy Matheus Wilhelmus Van De Winkel ,  Cornelius Maria Rops

发明人： Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robertus Nicodemus Jacobus Van Ballegoij ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Michel Riepen ,  Martinus Wilhelmus Van Den Heuvel ,  Paul Petrus Joannes Berkvens ,  Christophe De Metsenaere ,  Jimmy Matheus Wilhelmus Van De Winkel ,  Cornelius Maria Rops

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/32 ,  G03F7/20 ,  F01N1/02

CPC分类号： G03F7/70341 ,  F01N1/023 ,  G03F7/709

摘要： An immersion lithographic apparatus typically includes a fluid handling system. The fluid handling system generally has a two-phase fluid extraction system configured to remove a mixture of gas and liquid from a given location. Because the extraction fluid comprises two phases, the pressure in the extraction system can vary. This pressure variation can be passed through the immersion liquid and cause inaccuracy in the exposure. To reduce the pressure fluctuation in the extraction system, a buffer chamber may be used. This buffer chamber may be connected to the fluid extraction system in order to provide a volume of gas which reduces pressure fluctuation. Alternatively or additionally, a flexible wall may be provided somewhere in the fluid extraction system. The flexible wall may change shape in response to a pressure change in the fluid extraction system. By changing shape, the flexible wall can help to reduce, or eliminate, the pressure fluctuation.

摘要翻译： 浸没式光刻设备通常包括流体处理系统。 流体处理系统通常具有配置成从给定位置去除气体和液体的混合物的两相流体萃取系统。 因为提取液包含两相，所以提取系统中的压力可以变化。 该压力变化可以通过浸没液体并导致曝光不准确。 为了减少提取系统中的压力波动，可以使用缓冲室。 该缓冲室可以连接到流体提取系统，以便提供减小压力波动的一定体积的气体。 或者或另外，柔性壁可以设置在流体提取系统的某处。 响应于流体提取系统中的压力变化，柔性壁可以改变形状。 通过改变形状，柔性壁可以帮助减少或消除压力波动。

公开(公告)号：US08405817B2

公开(公告)日：2013-03-26

申请号：US12697583

申请日：2010-02-01

申请人： Marco Koert Stavenga ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Erik Henricus Egidius Catharina Eummelen ,  Richard Moerman ,  Michel Riepen ,  Sergei Shulepov ,  Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands ,  Koen Steffens ,  Jan Willem Cromwijk ,  Ralph Joseph Meijers ,  Fabrizio Evangelista ,  David Bessems ,  Hua Li ,  Marinus Jochemsen ,  Pieter Lein Joseph Gunter ,  Franciscus Wilhelmus Bell ,  Erik Witberg ,  Marcus Agnes Johannes Smits ,  Zhenhua Ma

发明人： Marco Koert Stavenga ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Erik Henricus Egidius Catharina Eummelen ,  Richard Moerman ,  Michel Riepen ,  Sergei Shulepov ,  Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands ,  Koen Steffens ,  Jan Willem Cromwijk ,  Ralph Joseph Meijers ,  Fabrizio Evangelista ,  David Bessems ,  Hua Li ,  Marinus Jochemsen ,  Pieter Lein Joseph Gunter ,  Franciscus Wilhelmus Bell ,  Erik Witberg ,  Marcus Agnes Johannes Smits ,  Zhenhua Ma

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A method of operating a lithographic apparatus is disclosed. The method includes moving a substrate table supporting a substrate relative to a projection system and adjusting the scanning speed between the substrate table and the projection system during imaging of a target within a predefined area at or near an edge of the substrate, or adjusting the stepping speed between adjacent target positions in a predefined area at or near the edge of the substrate, or both. The adjusting the scanning and/or stepping speed may comprise lowering the speed. The projection system is configured to project a patterned beam of radiation on to a target portion of the substrate.

摘要翻译： 公开了一种操作光刻设备的方法。 该方法包括移动支撑衬底的衬底台相对于投影系统，并且在衬底的边缘或附近的预定区域内的靶成像期间调整衬底台和投影系统之间的扫描速度，或者调整步进 在基板的边缘处或附近的预定区域中的相邻目标位置之间的速度，或两者。 调整扫描和/或步进速度可以包括降低速度。 投影系统被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上。

公开(公告)号：US20100321653A1

公开(公告)日：2010-12-23

申请号：US12872842

申请日：2010-08-31

申请人： Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Nicolaas Ten Kate ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Joost Jeroen Ottens ,  Marcel Beckers ,  Johannes Petrus Maria Smeulers ,  Michel Riepen ,  Sergei Shulepov

发明人： Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Nicolaas Ten Kate ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Joost Jeroen Ottens ,  Marcel Beckers ,  Johannes Petrus Maria Smeulers ,  Michel Riepen ,  Sergei Shulepov

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A barrier member is provided for use in immersion lithography. The barrier member includes an extractor assembly on a bottom surface configured to face the substrate. The extractor assembly includes a plate configured to split the space between a liquid removal device and the substrate in two such that a meniscus is formed in an upper channel between the liquid removal device and the plate and below the plate between the plate and the substrate.

摘要翻译： 提供了用于浸没式光刻中的阻挡构件。 阻挡构件包括在被配置为面向衬底的底表面上的提取器组件。 提取器组件包括被配置为将液体移除装置和基板之间的空间分成两部分的板，使得在液体移除装置和板之间的上部通道中以及在板和基板之间的板下方形成弯月面。

公开(公告)号：US20100149501A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：US12634242

申请日：2009-12-09

申请人： Nicolaas Rudolf KEMPER ,  Robertus Nicodemus Jacobus Van Ballegoij ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Michel Riepen ,  Martinus Wilhelmus Van Den Heuvel ,  Paul Petrus Joannes Berkvens ,  Christophe De Metsenaere ,  Jimmy Matheus Wilhelmus Van De Winkel ,  Cornelius Maria Rops

发明人： Nicolaas Rudolf KEMPER ,  Robertus Nicodemus Jacobus Van Ballegoij ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Michel Riepen ,  Martinus Wilhelmus Van Den Heuvel ,  Paul Petrus Joannes Berkvens ,  Christophe De Metsenaere ,  Jimmy Matheus Wilhelmus Van De Winkel ,  Cornelius Maria Rops

IPC分类号： G03B27/52 ,  B01D69/14 ,  B01D61/36

CPC分类号： G03F7/70341 ,  F01N1/023 ,  G03F7/709

摘要： An immersion lithographic apparatus typically includes a fluid handling system. The fluid handling system generally has a two-phase fluid extraction system configured to remove a mixture of gas and liquid from a given location. Because the extraction fluid comprises two phases, the pressure in the extraction system can vary. This pressure variation can be passed through the immersion liquid and cause inaccuracy in the exposure. To reduce the pressure fluctuation in the extraction system, a buffer chamber may be used. This buffer chamber may be connected to the fluid extraction system in order to provide a volume of gas which reduces pressure fluctuation. Alternatively or additionally, a flexible wall may be provided somewhere in the fluid extraction system. The flexible wall may change shape in response to a pressure change in the fluid extraction system. By changing shape, the flexible wall can help to reduce, or eliminate, the pressure fluctuation.

摘要翻译： 浸没式光刻设备通常包括流体处理系统。 流体处理系统通常具有配置成从给定位置去除气体和液体的混合物的两相流体萃取系统。 因为提取液包含两相，所以提取系统中的压力可以变化。 该压力变化可以通过浸没液体并导致曝光不准确。 为了减少提取系统中的压力波动，可以使用缓冲室。 该缓冲室可以连接到流体提取系统，以便提供减小压力波动的一定体积的气体。 或者或另外，柔性壁可以设置在流体提取系统的某处。 响应于流体提取系统中的压力变化，柔性壁可以改变形状。 通过改变形状，柔性壁可以帮助减少或消除压力波动。