公开(公告)号：US20080043247A1

公开(公告)日：2008-02-21

申请号：US11596187

申请日：2004-05-14

申请人： Ralf Arnold ,  Bernd Dorband ,  Frank Schillke ,  Susanne Beder

发明人： Ralf Arnold ,  Bernd Dorband ,  Frank Schillke ,  Susanne Beder

IPC分类号： G01B11/25

CPC分类号： G01B11/2441

摘要： A method of manufacturing an optical element includes testing the optical element by using an interferometer optics generating a beam of measuring light illuminating only a sub-aperture of the tested optical element. The interferometer optics comprises a hologram. Results of the sub-aperture measurement are stitched together to obtain a measuring result with respect to the full surface of the optical element. Further, a method of calibrating the interferometer optics includes performing an interferometric measurement using a calibrating optics having a hologram covering only a sub-aperture of the full cross section of the beam of measuring light generated by the interferometer optics and stitching together the sub-aperture measurements to obtain a result indicative for the full cross section of the interferometer optics.

摘要翻译： 制造光学元件的方法包括通过使用产生仅照射被测光学元件的子孔径的测量光束的干涉仪光学元件来测试光学元件。 干涉仪光学器件包括全息图。 子孔径测量的结果被缝合在一起以获得关于光学元件的整个表面的测量结果。 此外，校准干涉仪光学器件的方法包括使用校准光学器件执行干涉测量，所述校准光学器件具有仅覆盖由干涉仪光学器件产生的测量光束的全部横截面的子孔径并将子孔缝合在一起的全息图 测量以获得指示干涉仪光学器件的完整横截面的结果。

公开(公告)号：US07728987B2

公开(公告)日：2010-06-01

申请号：US11596187

申请日：2004-05-14

申请人： Ralf Arnold ,  Bernd Dörband ,  Frank Schillke ,  Susanne Beder

发明人： Ralf Arnold ,  Bernd Dörband ,  Frank Schillke ,  Susanne Beder

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G01B11/2441

摘要： A method of manufacturing an optical element includes testing the optical element by using an interferometer optics generating a beam of measuring light illuminating only a sub-aperture of the tested optical element. The interferometer optics comprises a hologram. Results of the sub-aperture measurement are stitched together to obtain a measuring result with respect to the full surface of the optical element. Further, a method of calibrating the interferometer optics includes performing an interferometric measurement using a calibrating optics having a hologram covering only a sub-aperture of the full cross section of the beam of measuring light generated by the interferometer optics and stitching together the sub-aperture measurements to obtain a result indicative for the full cross section of the interferometer optics.

摘要翻译： 制造光学元件的方法包括通过使用产生仅照射被测光学元件的子孔径的测量光束的干涉仪光学元件来测试光学元件。 干涉仪光学器件包括全息图。 子孔径测量的结果被缝合在一起以获得关于光学元件的整个表面的测量结果。 此外，校准干涉仪光学器件的方法包括使用校准光学器件执行干涉测量，所述校准光学器件具有仅覆盖由干涉仪光学器件产生的测量光束的全部横截面的子孔径并将子孔缝合在一起的全息图 测量以获得指示干涉仪光学器件的完整横截面的结果。

公开(公告)号：US07605926B1

公开(公告)日：2009-10-20

申请号：US12197035

申请日：2008-08-22

申请人： Jochen Hetzler ,  Ralf Arnold ,  Frank Schillke ,  Bernd Doerband

发明人： Jochen Hetzler ,  Ralf Arnold ,  Frank Schillke ,  Bernd Doerband

IPC分类号： G01B9/02 ,  G01B11/02

CPC分类号： G01B9/02039 ,  G01B9/02057 ,  G01M11/0221 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0271

摘要： A method of positioning optical elements relative to each other uses an interferometer apparatus comprising a plurality of holograms generating beams of adjustment measuring light which are incident on optical surfaces of the optical elements. Interference patterns generated by superimposing adjustment measuring light of the beams reflected from the surfaces are indicative of positioning errors of the optical elements. The beams of adjustment measuring light may comprise focused beams forming a point focus on the optical surface and beams of light which is orthogonally incident on extended portions on the optical surface.

摘要翻译： 相对于彼此定位光学元件的方法使用包括多个全息图的干涉仪装置，其产生入射在光学元件的光学表面上的测量光的光束。 通过叠加来自表面反射的光束的调整测量光产生的干涉图案表示光学元件的定位误差。 调节光束测量光可以包括在光学表面上形成点聚焦的聚焦光束和正交入射在光学表面上的延伸部分上的光束。

公开(公告)号：US07331005B2

公开(公告)日：2008-02-12

申请号：US11189231

申请日：2005-07-26

申请人： Ralf Arnold ,  Gerd Frankowsky ,  Wolfgang Spirkl

发明人： Ralf Arnold ,  Gerd Frankowsky ,  Wolfgang Spirkl

IPC分类号： G01R31/28 ,  G06K5/04 ,  G06F11/00

CPC分类号： G01R31/3016

摘要： Methods and apparatus for testing a semiconductor device. A testing interface is configured to interface with an external test apparatus and a device under test (DUT). In one embodiment, the testing interface receives test data and a test clock signal from the external test apparatus. The test data is clocked out of the testing interface and to the DUT according to the test clock signal. Further, the test clock signal is delayed by a period of time and then a delayed clock signal is issued to the device. The data previously written to the DUT is read out of the DUT and compared with the test data received from the external test apparatus. The period of time by which the test clock signal is delayed can be varied to achieve a desired timing.

摘要翻译： 用于测试半导体器件的方法和装置。 测试接口被配置为与外部测试设备和被测设备（DUT）接口。 在一个实施例中，测试接口从外部测试装置接收测试数据和测试时钟信号。 测试数据根据测试时钟信号从测试接口输出到DUT。 此外，测试时钟信号被延迟一段时间，然后向设备发出延迟的时钟信号。 先前写入DUT的数据从DUT读出并与从外部测试装置接收的测试数据进行比较。 可以改变测试时钟信号被延迟的时间段以实现期望的时序。

公开(公告)号：US20060069951A1

公开(公告)日：2006-03-30

申请号：US10514537

申请日：2003-05-14

申请人： Ralf Arnold ,  Matthias Heinitz ,  Siegmar Koppe ,  Volker Schober

发明人： Ralf Arnold ,  Matthias Heinitz ,  Siegmar Koppe ,  Volker Schober

IPC分类号： G06F11/00

CPC分类号： G01R31/3183 ,  G01R31/31813 ,  G01R31/318547

摘要： In order to test digital modules with functional elements, these are divided into test units (3) which respectively have inputs and outputs. Alternating test patterns are applied to the inputs of the test unit (3), and the test responses resulting from this are evaluated at the outputs of the test unit (3). The effect is then encountered that changes at each of the inputs of a test unit (3) do not all affect a particular output of this test unit (3). For every output of the test unit (3), it is possible to define a cone (5) whose apex is formed by the particular output of the test unit (3) and whose base comprises the inputs of the test unit (3) where, and only where, changes affect the particular output. According to the invention, the test pattern to be applied to the inputs of the test unit (3) is constructed of sub-patterns, whose length is in particular

摘要翻译： 为了测试具有功能元件的数字模块，它们分为测试单元（3），分别具有输入和输出。 将交替测试图案应用于测试单元（3）的输入，并且在测试单元（3）的输出处评估由此产生的测试响应。 然后会遇到测试单元（3）的每个输入端的变化都不会影响该测试单元（3）的特定输出的效果。 对于测试单元（3）的每个输出，可以定义锥形（5），其顶点由测试单元（3）的特定输出形成，并且其底部包括测试单元（3）的输入，其中 ，只有在这些变化影响特定的输出。 根据本发明，应用于测试单元（3）的输入的测试模式由子模式构成，子模式的长度特别是包含在测试单元（3）中的测试单元（3）的输入数量 圆锥（5）的基部。 由于其长度较短，所有可能的组合都可用于选择子图案，从而可以快速实现测试单元（3）的综合功能测试，并且具有很少的支出。 在数字模块中，该测试功能可以特别地由可以将数字模块的其余部分切换到测试模式的自检单元（1）来实现，并且基于子模式生成测试模式 它们进入用于应用于测试单元（3）的测试图案输出寄存器（2），并且可以通过评估单元（16）评估随后在测试单元（3）的输出处发现的测试响应，或读取 它用于评估。

公开(公告)号：US20050108603A1

公开(公告)日：2005-05-19

申请号：US10988541

申请日：2004-11-16

申请人： Wolfgang Spirkl ,  Ralf Arnold

发明人： Wolfgang Spirkl ,  Ralf Arnold

IPC分类号： G01R31/28 ,  G01R31/317 ,  G01R31/3177 ,  G01R31/3185 ,  G06F11/00 ,  G11C29/02 ,  H01L21/66

CPC分类号： G11C29/022 ,  G01R31/31716 ,  G01R31/318533 ,  G11C29/02

摘要： Unidirectional input switching arrangements or pad circuits are supplemented by transfer switching devices employed to route an internal test signal to the input of an input driver in the unidirectional input switching arrangement and to couple it to an internal switching logic unit. The transfer switching devices are controlled via a multiplexer unit, which for its part can be programmed directly using boundary scan registers. The present invention allows all unidirectional pad circuits or input drivers to be tested in the course of a reduced I/O test method for semiconductor circuits, in which testing internal circuits in the semiconductor circuit involves only a subset of the signal connections associated with the input drivers being coupled to a test apparatus.

摘要翻译： 单向输入切换装置或焊盘电路由用于将内部测试信号路由到单向输入切换装置中的输入驱动器的输入并将其耦合到内部开关逻辑单元的传输开关装置进行补充。 传输切换设备通过多路复用器单元进行控制，该单元可以使用边界扫描寄存器直接进行编程。 本发明允许在用于半导体电路的减少的I / O测试方法的过程中测试所有单向焊盘电路或输入驱动器，其中半导体电路中的测试内部电路仅涉及与输入相关联的信号连接的子集 驱动器耦合到测试装置。

公开(公告)号：US08508749B2

公开(公告)日：2013-08-13

申请号：US13609084

申请日：2012-09-10

申请人： Ralf Arnold ,  Stefan Schulte ,  Bernd Doerband

发明人： Ralf Arnold ,  Stefan Schulte ,  Bernd Doerband

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G01B9/021 ,  G01B9/02039 ,  G01B11/2441 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0271 ,  Y10T29/49771

摘要： A method of measuring a deviation of an optical surface from a target shape and a method of manufacturing an optical element. This method of measuring the deviation includes: performing a first interferometric measurement using a first diffractive measurement structure, which is arranged to cover a first area of the optical surface, to provide a first interferometric measurement result, performing a second interferometric measurement using a second diffractive measurement structure, which is arranged to cover a second area of the optical surface different from the first area, to provide a second interferometric measurement result, and determining a deviation of the optical surface from the target shape.

摘要翻译： 测量光学表面与目标形状的偏差的方法和制造光学元件的方法。 这种测量偏差的方法包括：使用被布置成覆盖光学表面的第一区域的第一衍射测量结构来执行第一干涉测量，以提供第一干涉测量结果，使用第二衍射进行第二干涉测量 测量结构被布置成覆盖与第一区域不同的光学表面的第二区域，以提供第二干涉测量结果，以及确定光学表面与目标形状的偏差。

公开(公告)号：US20100177320A1

公开(公告)日：2010-07-15

申请号：US12684600

申请日：2010-01-08

申请人： Ralf Arnold ,  Stefan Schulte ,  Bernd Doerband

发明人： Ralf Arnold ,  Stefan Schulte ,  Bernd Doerband

IPC分类号： G01B11/02 ,  G02B13/18

CPC分类号： G01B9/021 ,  G01B9/02039 ,  G01B11/2441 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0271 ,  Y10T29/49771

摘要： A method of aligning at least two wave shaping elements, a method of measuring a deviation of an optical surface from a target shape and a measuring apparatus for interferometrically measuring a deviation of an optical surface from a target shape. The method of aligning at least two wave shaping elements, each of which wave shaping elements has a diffractive measurement structure for adapting part of a wave front of incoming light to a respective portion of the target shape, includes: providing a first one of the wave shaping elements with a diffractive alignment structure, arranging the wave shaping elements relative to each other such that each of the diffractive measurement structures is traversed by a separate subset of rays of the incoming light during operation of the measuring apparatus, and aligning the first wave shaping element and a second one of the wave shaping elements relative to each other by evaluating alignment light having consecutively interacted with the diffractive alignment structure and with the second wave shaping element.

摘要翻译： 对准至少两个波形整形元件的方法，测量光学表面与目标形状的偏差的方法和用于干涉测量光学表面与目标形状的偏差的测量装置。 对准至少两个波形整形元件的方法，其中每个波形整形元件具有衍射测量结构，用于将入射光的一部分波前适应到目标形状的相应部分，包括：提供第一波 具有衍射对准结构的成形元件，将波形整形元件相对于彼此布置，使得每个衍射测量结构在测量设备的操作期间被入射光的单独的子集子穿过，并且对准第一波形整形 元件和第二波形成形元件相对于彼此，通过评估与衍射对准结构和第二波形整形元件连续相互作用的对准光。

公开(公告)号：US06996709B2

公开(公告)日：2006-02-07

申请号：US09815659

申请日：2001-03-23

申请人： Ralf Arnold ,  Helge Kleve ,  Christian Siemers

发明人： Ralf Arnold ,  Helge Kleve ,  Christian Siemers

IPC分类号： G06F9/00

CPC分类号： G06F9/3001 ,  G06F9/3885 ,  G06F9/3897 ,  G06F15/7867

摘要： A method for configuring a configurable hardware block includes implementing commands and/or command sequences of a program to be executed. The implementing step includes ascertaining a given type of subunit of a configurable hardware block, the given type of subunit being required for executing a respective command, selecting, if available, a subunit of the given type of subunit, configuring configurable connections provided around the subunit selected in the selecting step, if the subunit of the given type of subunit is found in the selecting step, and ascertaining configuration data with the step of implementing the commands and/or command sequences. The configurable hardware block is configured by using the configuration data.

摘要翻译： 用于配置可配置硬件块的方法包括实现要执行的程序的命令和/或命令序列。 实施步骤包括确定可配置硬件块的给定类型的子单元，执行相应命令所需的给定类型的子单元，如果可用，选择给定类型的子单元的子单元，配置在子单元周围提供的可配置连接 如果在选择步骤中找到给定类型的子单元的子单元，并且通过实现命令和/或命令序列的步骤来确定配置数据，则在选择步骤中选择。 可配置的硬件块通过使用配置数据进行配置。

公开(公告)号：US20050207012A1

公开(公告)日：2005-09-22

申请号：US11059803

申请日：2005-02-17

申请人： Ralf Arnold ,  Bernd Kleemann

发明人： Ralf Arnold ,  Bernd Kleemann

IPC分类号： G02B5/18 ,  G02B27/00 ,  G02B27/44 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70316 ,  G02B5/18 ,  G02B5/1809 ,  G02B5/1866 ,  G02B27/0043

摘要： A diffractive optical element contains a multiplicity of binary blazed diffraction structures, which substantially extend mutually parallel in a longitudinal direction. Perpendicularly to the longitudinal direction, the diffraction structures have a width g which is greater than the effective wavelength of electromagnetic radiation for which the diffractive optical element is designed. The diffraction structures respectively comprise a series of individual substructures, which produce a blaze effect and have a maximum extent p in the longitudinal direction which is less than the effective wavelength of the electromagnetic radiation, at least on average over a diffraction structure. In a plan view, the individual substructures respectively have the shape of a closed geometrical surface, which has an extent parallel to the longitudinal direction that varies perpendicularly to the longitudinal direction. Perpendicularly to the longitudinal direction, the surface has a maximum extent which is greater than the effective wavelength.

摘要翻译： 衍射光学元件包含多个二进制闪耀衍射结构，其基本上在纵向上相互平行地延伸。 垂直于纵向方向，衍射结构的宽度g大于设计衍射光学元件的电磁辐射的有效波长。 衍射结构分别包括一系列单独的子结构，其至少在衍射结构上平均产生火焰效应并且在纵向上具有小于电磁辐射的有效波长的最大程度p。 在平面图中，各个子结构分别具有封闭的几何表面的形状，其具有与纵向方向垂直变化的与纵向方向平行的程度。 垂直于纵向方向，表面的最大程度大于有效波长。