公开(公告)号：US20160139504A1

公开(公告)日：2016-05-19

申请号：US14678743

申请日：2015-04-03

Applicant: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.

Inventor： Jun-Hyuk Woo ,  Jeong-Won Kim ,  Kwang-Woo Park ,  Dong-Eon Lee ,  Seung-Bo Shim ,  Jin-Ho Ju

IPC: G03F1/80 ,  G03F1/38

CPC classification number: G03F1/38 ,  G03F1/54 ,  G03F1/58 ,  G03F1/80 ,  G03F7/0007

Abstract: A photo mask includes a transparent substrate and a mask pattern. The mask pattern is disposed on the transparent substrate. The mask pattern includes a blocking portion for blocking light and a transmitting portion for transmitting the light. The transmitting portion is adjacent to the blocking portion. The blocking portion includes a first blocking layer, a photo guide layer and a second blocking layer. The first blocking layer is disposed on the transparent substrate. The first blocking layer transmits a portion of the light. The first blocking layer includes a plurality of blocking patterns including a first blocking material. The photo guide layer is disposed on the first blocking layer. The photoguide layer guides the transmitted portion of the light to a side surface of the photoguide layer. The second blocking layer reflects the transmitted portion of the light.

Abstract translation: 光掩模包括透明基板和掩模图案。 掩模图案设置在透明基板上。 掩模图案包括用于遮挡光的阻挡部分和用于透射光的透射部分。 发送部分与阻挡部分相邻。 阻挡部分包括第一阻挡层，光引导层和第二阻挡层。 第一阻挡层设置在透明基板上。 第一阻挡层透射光的一部分。 第一阻挡层包括多个阻挡图案，包括第一阻挡材料。 光引导层设置在第一阻挡层上。 光导层将光的透射部分引导到光导层的侧表面。 第二阻挡层反射光的透射部分。

公开(公告)号：US09490278B2

公开(公告)日：2016-11-08

申请号：US14740378

申请日：2015-06-16

Applicant: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.

Inventor： Kwang-Woo Park ,  Jeong-Won Kim ,  Jun-Hyuk Woo ,  Gwui-Hyun Park ,  Jin-Ho Ju

IPC: H01L27/32 ,  H01L27/12 ,  G02B5/30 ,  G02B1/08 ,  G02F1/13 ,  G03F1/38

CPC classification number: H01L27/1288 ,  G02B1/08 ,  G02B5/3033 ,  G02B5/3058 ,  G02F1/1303 ,  G03F1/38 ,  H01L29/66969 ,  H01L29/7869

Abstract: According to an exemplary embodiment of the present invention, a photomask includes a transparent substrate and a polarizing pattern. A polarizing pattern is disposed on a transparent substrate. The polarizing pattern polarize light.

Abstract translation: 根据本发明的示例性实施例，光掩模包括透明基板和偏振图案。 偏光图案设置在透明基板上。 偏光图案使光线偏光。

公开(公告)号：US09176383B2

公开(公告)日：2015-11-03

申请号：US14531758

申请日：2014-11-03

Applicant: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.

Inventor： Jeong-Won Kim ,  Ki-Hyun Cho ,  Kwang-Woo Park ,  Chul-Won Park ,  Jin-Ho Ju ,  Dong-Min Kim ,  Eun Jeagal

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/039 ,  G03F7/022 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36 ,  G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L27/12 ,  H01L21/3213

CPC classification number: G03F7/0752 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/022 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36 ,  G03F7/42 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/32133 ,  H01L21/32139 ,  H01L27/1288

Abstract: A photoresist composition may include a novolac resin, a diazide-based photosensitive compound, a surfactant represented by Chemical Formula 1 below, and a solvent. R1 and R2 may denote a hydrogen atom or an alkyl group, x may be 10-50, and y may be 10-50.

Abstract translation: 光致抗蚀剂组合物可以包括酚醛清漆树脂，二叠氮基感光性化合物，下述化学式1表示的表面活性剂和溶剂。 R1和R2可以表示氢原子或烷基，x可以是10-50，y可以是10-50。

公开(公告)号：US09117768B2

公开(公告)日：2015-08-25

申请号：US14148386

申请日：2014-01-06

Applicant: Samsung Display Co., LTD.

Inventor： Ki-Hyun Cho ,  Jeong-Won Kim ,  Kwang-Woo Park ,  Chul-Won Park

IPC: H01L21/311 ,  H01L27/12 ,  H01L27/32

CPC classification number: H01L21/31116 ,  H01L21/31105 ,  H01L21/31111 ,  H01L27/1225 ,  H01L27/1248 ,  H01L27/127 ,  H01L27/1288 ,  H01L27/3244 ,  H01L27/3248 ,  H01L27/3258 ,  H01L27/326 ,  H01L27/3262 ,  H01L27/3276

Abstract: In a method for manufacturing a display substrate, a thin film transistor is formed on a base substrate. The thin film transistor includes a gate electrode, an active pattern, a source electrode and a drain electrode. A first passivation layer is formed to cover the thin film transistor. A second passivation layer is formed on the first passivation layer. A photoresist pattern is formed to partially expose the second passivation layer. The first passivation layer and the second passivation layer are partially removed to form a contact hole exposing the drain electrode. A pixel electrode layer is formed on the second passivation layer, the drain electrode and the photoresist pattern. A portion of the pixel electrode layer and the second photoresist pattern are removed to form a pixel electrode. The portion of the pixel electrode layer is disposed on a top surface and a sidewall of the photoresist pattern.

Abstract translation: 在显示基板的制造方法中，在基底基板上形成薄膜晶体管。 薄膜晶体管包括栅电极，有源图案，源电极和漏电极。 形成第一钝化层以覆盖薄膜晶体管。 在第一钝化层上形成第二钝化层。 形成光致抗蚀剂图案以部分地暴露第二钝化层。 部分去除第一钝化层和第二钝化层以形成暴露漏电极的接触孔。 在第二钝化层，漏电极和光致抗蚀剂图案上形成像素电极层。 去除像素电极层和第二光致抗蚀剂图案的一部分以形成像素电极。 像素电极层的部分设置在光致抗蚀剂图案的顶表面和侧壁上。

公开(公告)号：US09575405B2

公开(公告)日：2017-02-21

申请号：US14678743

申请日：2015-04-03

Applicant: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.

Inventor： Jun-Hyuk Woo ,  Jeong-Won Kim ,  Kwang-Woo Park ,  Dong-Eon Lee ,  Seung-Bo Shim ,  Jin-Ho Ju

IPC: G03F1/38 ,  G03F1/58 ,  G03F1/80 ,  G03F1/54 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F1/38 ,  G03F1/54 ,  G03F1/58 ,  G03F1/80 ,  G03F7/0007

Abstract: A photo mask includes a transparent substrate and a mask pattern. The mask pattern is disposed on the transparent substrate. The mask pattern includes a blocking portion for blocking light and a transmitting portion for transmitting the light. The transmitting portion is adjacent to the blocking portion. The blocking portion includes a first blocking layer, a photo guide layer and a second blocking layer. The first blocking layer is disposed on the transparent substrate. The first blocking layer transmits a portion of the light. The first blocking layer includes a plurality of blocking patterns including a first blocking material. The photo guide layer is disposed on the first blocking layer. The photoguide layer guides the transmitted portion of the light to a side surface of the photoguide layer. The second blocking layer reflects the transmitted portion of the light.

Abstract translation: 光掩模包括透明基板和掩模图案。 掩模图案设置在透明基板上。 掩模图案包括用于遮挡光的阻挡部分和用于透射光的透射部分。 传送部分与阻挡部分相邻。 阻挡部分包括第一阻挡层，光引导层和第二阻挡层。 第一阻挡层设置在透明基板上。 第一阻挡层透射光的一部分。 第一阻挡层包括多个阻挡图案，包括第一阻挡材料。 光引导层设置在第一阻挡层上。 光导层将光的透射部分引导到光导层的侧表面。 第二阻挡层反射光的透射部分。