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    Thermotropic chiral nematic liquid crystalline copolymers
    1.
    发明授权
    Thermotropic chiral nematic liquid crystalline copolymers 失效
    热致度手性向列型液晶共聚物

    公开(公告)号：US5332522A

    公开(公告)日：1994-07-26

    申请号：US55120

    申请日：1993-04-29

    申请人： Shaw H. Chen ,  John C. Mastrangelo ,  Hongqin Shi ,  Sushil Krishnamurthy

    发明人： Shaw H. Chen ,  John C. Mastrangelo ,  Hongqin Shi ,  Sushil Krishnamurthy

    IPC分类号： C08F220/30 ,  C08F220/36 ,  C08F220/38 ,  C09K19/38 ,  C09K19/52 ,  C09K19/12 ,  C09K19/30 ,  G02F1/13

    CPC分类号： C09K19/3857 ,  C08F220/30 ,  C08F220/36 ,  C08F220/38 ,  C09K19/3852

    摘要： A thermotropic chiral nematic liquid crystalline copolymer composition comprises ##STR1## wherein --NEM-- and --NEM'-- are each independently nematogenic units of formula ##STR2## wherein R is H or CH.sub.3, --Q-- is an alkylene radical having 1 to about 8 carbon atoms,--X-- is --O--, --S--, or --CH.sub.2 --, --Y-- is ##STR3## --Z is --CN, --NO.sub.2 or --N.dbd.C.dbd.S, q and r are each independently 0 or 1;wherein --CHI-- is a chiral unit of formula ##STR4## wherein R is H or CH.sub.3, --Q'-- is an alkylene radical having 1 to about 8 carbon atoms,--X'-- is --O--, --S--, or --CH.sub.2 --,--Z' is an alkoxy, aralkoxy, alkylamino, or aralkylamino radical having 4 to about 12 carbon atoms and containing at least one asymmetric carbon atom,q' and r' are each independently 0 or 1;and wherein x is the mole fraction of chiral units and (y+y') is the total mole fraction of nematogenic units in said copolymer composition, and the ratio of x to (y+y') is from about 1:50 to 1:1.This compolymer composition is employed to form an optical device.

    摘要翻译： 热致的手性向列型液晶共聚物组合物包含其中-NEM-和-NEM'-各自独立地具有式（II）的制剂单元，其中R是H或CH 3，-Q-是亚烷基 具有1至约8个碳原子的基团，-X-为-O-，-S-或-CH 2 - ， - Y - 为-CN，-NO 2或-N = C = S，q 和r各自独立地为0或1; 其中-CHI-是式（III）的手性单元，其中R是H或CH 3，-Q'是具有1至约8个碳原子的亚烷基，-X'是-O-，-S - 或-CH 2 - ， - Z'是具有4至约12个碳原子并含有至少一个不对称碳原子的烷氧基，芳烷氧基，烷基氨基或芳烷基氨基，q'和r'各自独立地为0或1; 并且其中x是手性单元的摩尔分数，并且（y + y'）是所述共聚物组合物中的引产单元的总摩尔分数，并且x与（y + y'）的比率为约1:50至1 ：1。 该共聚物组合物用于形成光学装置。

    Glassy low molar mass chiral nematic liquid crystalline compositions and optical articles formed therefrom
    2.
    发明授权
    Glassy low molar mass chiral nematic liquid crystalline compositions and optical articles formed therefrom 失效
    玻璃状低摩尔质量手性向列液晶组合物和由其形成的光学制品

    公开(公告)号：US5514296A

    公开(公告)日：1996-05-07

    申请号：US274909

    申请日：1994-07-14

    申请人： Shaw H. Chen ,  Hongqin Shi

    发明人： Shaw H. Chen ,  Hongqin Shi

    IPC分类号： G02F1/13 ,  C09K19/30 ,  C09K19/32 ,  C09K19/34 ,  C09K19/42 ,  C09K19/52

    CPC分类号： C09K19/3483 ,  C09K19/30 ,  C09K19/3068 ,  C09K19/32

    摘要： A glassy thermotropic chiral nematic liquid crystalline composition comprises a glassy chiral nematic compound of low molar mass that includes a cycloaliphatic radical, a nematogenic moiety, and a chiral moiety, or a mixture of a nematic liquid crystalline compound of low molar mass that includes a cycloaliphatic radical and a nematogenic moiety and a chiral compound of low molar mass that includes a chiral moiety. Each cycloaliphatic radical contains 4 to about 18 carbon atoms. An optical device is formed from the described glassy thermotropic chiral nematic liquid crystalline composition.

    摘要翻译： 玻璃状热致手性向列型液晶组合物包含低摩尔质量的玻璃状手性向列化合物，其包含脂环族基团，致毛部分和手性部分，或低摩尔质量的向列型液晶化合物的混合物，其包括脂环族 自由基和含有手性部分的低摩尔质量的致动部分和手性化合物。 每个脂环族基团含有4至约18个碳原子。 光学装置由所述的玻璃状热致性手征向列型液晶组合物形成。

    Glassy chiral nematic liquid crystalline compositions of low molar mass and optical devices formed from same
    3.
    发明授权
    Glassy chiral nematic liquid crystalline compositions of low molar mass and optical devices formed from same 失效
    低摩尔质量的玻璃状手性向列液晶组合物和由其形成的光学器件

    公开(公告)号：US5378393A

    公开(公告)日：1995-01-03

    申请号：US153570

    申请日：1993-11-16

    申请人： Shaw H. Chen ,  Hongqin Shi

    发明人： Shaw H. Chen ,  Hongqin Shi

    IPC分类号： C09K19/30 ,  C09K19/32 ,  C09K19/34 ,  C09K19/52 ,  G02F1/13

    CPC分类号： C09K19/32 ,  C09K19/30 ,  C09K19/3068 ,  C09K19/3483

    摘要： A glassy thermotropic chiral nematic liquid crystalline composition comprises a glassy chiral nematic compound of low molar mass that includes a cycloaliphatic radical, a nematogenic moiety, and a chiral moiety, or a mixture of a nematic liquid crystalline compound of low molar mass that includes a cycloaliphatic radical and a nematogenic moiety and a chiral compound of low molar mass that includes a cycloaliphatic radical and a chiral moiety. Each cycloaliphatic radical contains 4 to about 18 carbon atoms. An optical device is formed from the described glassy thermotropic chiral nematic liquid crystalline composition.

    摘要翻译： 玻璃状热致手性向列型液晶组合物包含低摩尔质量的玻璃状手性向列化合物，其包含脂环族基团，致毛部分和手性部分，或低摩尔质量的向列型液晶化合物的混合物，其包括脂环族 自由基和含有脂质基团和手性部分的低摩尔质量的致动部分和手性化合物。 每个脂环族基团含有4至约18个碳原子。 光学装置由所述的玻璃状热致性手征向列型液晶组合物形成。

    APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING AN ENDPOINT IN A VAPOR PHASE ETCH
    8.
    发明申请
    APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING AN ENDPOINT IN A VAPOR PHASE ETCH 审中-公开
    用于检测蒸气相蚀刻中的端点的装置和方法

    公开(公告)号：US20070119814A1

    公开(公告)日：2007-05-31

    申请号：US11627026

    申请日：2007-01-25

    申请人： Satyadev Patel ,  Gregory Schaadt ,  Douglas MacDonald ,  Niles MacDonald ,  Hongqin Shi

    发明人： Satyadev Patel ,  Gregory Schaadt ,  Douglas MacDonald ,  Niles MacDonald ,  Hongqin Shi

    IPC分类号： C03C25/68 ,  G01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/461 ,  B44C1/22

    CPC分类号： H01J37/32963 ,  B81C1/00476 ,  B81C1/00587 ,  B81C99/0065 ,  B81C2201/0132 ,  B81C2201/0138 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32935

    摘要： Processes for the removal of a layer or region from a workpiece material by contact with a process gas in the manufacture of a microstructure are enhanced by the ability to accurately determine the endpoint of the removal step. A vapor phase etchant is used to remove a material that has been deposited on a substrate, with or without other deposited structure thereon. By creating an impedance at the exit of an etching chamber (or downstream thereof), as the vapor phase etchant passes from the etching chamber, a gaseous product of the etching reaction is monitored; and the endpoint of the removal process can be determined. The vapor phase etching process can be flow through, a combination of flow through and pulse, or recirculated back to the etching chamber

    摘要翻译： 通过与制造微结构中的工艺气体接触从工件材料去除层或区域的工艺通过精确地确定去除步骤的终点的能力增强。 气相蚀刻剂用于去除已经沉积在基底上的材料，其上具有或不具有其它沉积结构。 通过在蚀刻室（或其下游）的出口处产生阻抗，当气相蚀刻剂从蚀刻室通过时，监测蚀刻反应的气态产物; 并且可以确定去除过程的终点。 气相蚀刻工艺可以流过，流过和脉冲的组合，或再循环回蚀刻室

    Apparatus and method for detecting an endpoint in a vapor phase etch
    9.
    发明授权
    Apparatus and method for detecting an endpoint in a vapor phase etch 有权
    用于检测气相蚀刻中的端点的装置和方法

    公开(公告)号：US07189332B2

    公开(公告)日：2007-03-13

    申请号：US10269149

    申请日：2002-10-11

    申请人： Satyadev R. Patel ,  Gregory P. Schaadt ,  Douglas B. MacDonald ,  Niles K. MacDonald ,  Hongqin Shi

    发明人： Satyadev R. Patel ,  Gregory P. Schaadt ,  Douglas B. MacDonald ,  Niles K. MacDonald ,  Hongqin Shi

    IPC分类号： C23F3/12

    CPC分类号： H01J37/32963 ,  B81C1/00476 ,  B81C1/00587 ,  B81C99/0065 ,  B81C2201/0132 ,  B81C2201/0138 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32935

    摘要： Processes for the removal of a layer or region from a workpiece material by contact with a process gas in the manufacture of a microstructure are enhanced by the ability to accurately determine the endpoint of the removal step. A vapor phase etchant is used to remove a material that has been deposited on a substrate, with or without other deposited structure thereon. By creating an impedance at the exit of an etching chamber (or downstream thereof), as the vapor phase etchant passes from the etching chamber, a gaseous product of the etching reaction is monitored, and the endpoint of the removal process can be determined. The vapor phase etching process can be flow through, a combination of flow through and pulse, or recirculated back to the etching chamber.

    摘要翻译： 通过与制造微结构中的工艺气体接触从工件材料去除层或区域的工艺通过精确地确定去除步骤的终点的能力增强。 气相蚀刻剂用于去除已经沉积在基底上的材料，其上具有或不具有其它沉积结构。 通过在蚀刻室（或其下游）的出口处产生阻抗，当气相蚀刻剂从蚀刻室通过时，监测蚀刻反应的气态产物，并且可以确定去除过程的终点。 气相蚀刻工艺可以流过，流过和脉冲的组合，或再循环回蚀刻室。

    Etching method in fabrications of microstructures
    10.
    发明授权
    Etching method in fabrications of microstructures 有权
    微观结构的蚀刻方法

    公开(公告)号：US06939472B2

    公开(公告)日：2005-09-06

    申请号：US10665998

    申请日：2003-09-17

    申请人： Gregory P. Schaadt ,  Hongqin Shi

    发明人： Gregory P. Schaadt ,  Hongqin Shi

    IPC分类号： B01D20060101 ,  C23F1/00 ,  G01R31/00 ,  H01L21/00 ,  H01L21/302 ,  H01L21/461

    CPC分类号： B81C1/00595 ,  B81C2201/0132

    摘要： The present invention teaches a method and apparatus for removing sacrificial materials in fabrications of microstructures using one or more selected spontaneous vapor phase etchants. The selected etchant is fed into an etch chamber containing the microstructure during each feeding cycle of a sequence of feeding cycles until the sacrificial material of the microstructure is exhausted through the chemical reaction between the etchant and the sacrificial material. Specifically, during a first feeding cycle, a first amount of selected spontaneous vapor phase etchant is fed into the etch chamber. At a second feeding cycle, a second amount of the etchant is fed into the etch chamber. The first amount and the second amount of the selected etchant may or may not be the same. The time duration of the feeding cycles are individually adjustable.

    摘要翻译： 本发明教导了使用一种或多种选择的自发气相蚀刻剂去除微结构制造中的牺牲材料的方法和装置。 所选择的蚀刻剂在进料循环序列的每个进料循环期间被送入包含微结构的蚀刻室，直到微结构的牺牲材料通过蚀刻剂和牺牲材料之间的化学反应排出。 具体地，在第一进料循环期间，将第一量的选择的自发气相蚀刻剂送入蚀刻室。 在第二进料循环中，将第二量的蚀刻剂送入蚀刻室。 所选择的蚀刻剂的第一量和第二量可以相同也可以不相同。 进料周期的持续时间可单独调节。