公开(公告)号：US07601050B2

公开(公告)日：2009-10-13

申请号：US11707651

申请日：2007-02-15

申请人： Steven M. Zuniga ,  Peter McReynolds ,  Erik S. Rondum ,  Benjamin A. Bonner ,  Henry H. Au ,  Gregory E. Menk ,  Gopalakrishna B. Prabhu ,  Anand N. Iyer ,  Garlen C. Leung

发明人： Steven M. Zuniga ,  Peter McReynolds ,  Erik S. Rondum ,  Benjamin A. Bonner ,  Henry H. Au ,  Gregory E. Menk ,  Gopalakrishna B. Prabhu ,  Anand N. Iyer ,  Garlen C. Leung

IPC分类号： B24B7/22

CPC分类号： B24B21/06 ,  B24B21/04 ,  B24B21/12 ,  B24B37/12 ,  B24B37/205 ,  B24B37/26 ,  B24D11/001

摘要： A polishing apparatus is described. The polishing apparatus includes a rotatable platen, a drive mechanism to incrementally advance a polishing sheet having a polishing surface in a linear direction across the platen, a subpad on the platen to support the polishing sheet, the subpad having a groove formed therein, and a vacuum source connected to the groove of the subpad and configured to apply a vacuum sufficient to pull portions of the polishing sheet into the groove of the subpad to induce a groove in the polishing surface.

摘要翻译： 描述了抛光装置。 抛光装置包括可旋转压板，驱动机构，用于逐渐推进具有沿着线性方向的研磨表面的抛光片横过压板，压板上的子垫以支撑抛光片，子板具有形成在其中的凹槽，以及 真空源连接到子垫的凹槽，并被配置为施加足以将抛光片的一部分拉入到子垫的凹槽中以在抛光表面中引起凹槽的真空。

公开(公告)号：US08454413B2

公开(公告)日：2013-06-04

申请号：US11614940

申请日：2006-12-21

申请人： Jeonghoon Oh ,  Tsz-Sin Siu ,  Hung Chih Chen ,  Andrew J. Nagengast ,  Steven M. Zuniga ,  Thomas B. Brezoczky

发明人： Jeonghoon Oh ,  Tsz-Sin Siu ,  Hung Chih Chen ,  Andrew J. Nagengast ,  Steven M. Zuniga ,  Thomas B. Brezoczky

IPC分类号： B24B41/06

CPC分类号： B24B37/30 ,  B24B41/06 ,  B29C33/424 ,  B29C35/02 ,  B29K2023/00 ,  B29K2083/00 ,  B29K2995/0074 ,  B29L2031/755

摘要： A flexible membrane for use in a carrier head has a generally circular main portion with a lower surface, an annular outer portion for connection to a base assembly, and an annular flap extending from the main portion on a side opposite the lower surface for connection to the base assembly. At least one surface of the flap has a surface texture to prevent adhesion.

摘要翻译： 用于载体头部的柔性膜具有大致圆形的主要部分，具有下表面，用于连接到基座组件的环形外部部分和从主体部分在与下表面相对的一侧延伸的环形挡片，用于连接到 基座组件。 翼片的至少一个表面具有表面纹理以防止粘附。

公开(公告)号：US08298047B2

公开(公告)日：2012-10-30

申请号：US12987709

申请日：2011-01-10

申请人： Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen

发明人： Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen

IPC分类号： B24B5/35

CPC分类号： B24B37/32 ,  B24B37/28

摘要： A retainer is used with an apparatus for polishing a substrate. The substrate has upper and lower surfaces and a lateral, substantially circular, perimeter. The apparatus has a polishing pad with an upper polishing surface for contacting and polishing the lower face of the substrate. The retainer has an inward facing retaining face for engaging and retaining the substrate against lateral movement during polishing of the substrate. The retaining face engages a substrate perimeter at more than substantially a single discrete circumferential location along the perimeter.

摘要翻译： 保持器用于抛光衬底的装置。 衬底具有上表面和下表面以及侧面，基本上圆形的周边。 该装置具有抛光垫，该抛光垫具有用于接触和抛光基底的下表面的上抛光表面。 保持器具有向内的保持面，用于在衬底的抛光期间接合和保持衬底以防止横向移动。 保持面在沿着周边的基本上一个单独的离散圆周位置处接合基底周边。

公开(公告)号：US20120192935A1

公开(公告)日：2012-08-02

申请号：US13425870

申请日：2012-03-21

申请人： Steven M. Zuniga ,  Christopher J. Petti ,  Gopal Prabhu

发明人： Steven M. Zuniga ,  Christopher J. Petti ,  Gopal Prabhu

IPC分类号： H01L31/0352 ,  H01L31/02

CPC分类号： H01L27/142 ,  H01L31/03921 ,  H01L31/042 ,  H01L31/0682 ,  H01L31/1804 ,  H01L31/1896 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： A method to fabricate a photovoltaic device includes forming first and second contact regions at the first surface of a semiconductor donor body. A cleave plane may be formed by implanting ions into the donor body, and a lamina that includes the contact regions is cleaved from the donor body at the cleave plane. The first surface of the lamina may be contacted with a temporary support and fabricated into a photovoltaic device, wherein the lamina comprises the base of the photovoltaic device.

摘要翻译： 制造光伏器件的方法包括在半导体施主体的第一表面形成第一和第二接触区域。 可以通过将离子注入给体体中形成切割平面，并且包括接触区域的层在分裂面处从施主体断裂。 薄片的第一表面可以与临时支撑件接触并制成光伏器件，其中薄片包括光伏器件的基极。

公开(公告)号：US20110104990A1

公开(公告)日：2011-05-05

申请号：US12987709

申请日：2011-01-10

申请人： Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen

发明人： Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen

IPC分类号： B24B1/00 ,  B24B41/06

CPC分类号： B24B37/32 ,  B24B37/28

摘要： A retainer is used with an apparatus for polishing a substrate. The substrate has upper and lower surfaces and a lateral, substantially circular, perimeter. The apparatus has a polishing pad with an upper polishing surface for contacting and polishing the lower face of the substrate. The retainer has an inward facing retaining face for engaging and retaining the substrate against lateral movement during polishing of the substrate. The retaining face engages a substrate perimeter at more than substantially a single discrete circumferential location along the perimeter.

摘要翻译： 保持器用于抛光衬底的装置。 衬底具有上表面和下表面以及侧面，基本上圆形的周边。 该装置具有抛光垫，该抛光垫具有用于接触和抛光基底的下表面的上抛光表面。 保持器具有向内的保持面，用于在衬底的抛光期间接合和保持衬底以防止横向移动。 保持面在沿着周边的基本上一个单独的离散圆周位置处接合基底周边。

公开(公告)号：US07727055B2

公开(公告)日：2010-06-01

申请号：US11741692

申请日：2007-04-27

申请人： Steven M. Zuniga ,  Andrew J. Nagengast ,  Jeonghoon Oh

发明人： Steven M. Zuniga ,  Andrew J. Nagengast ,  Jeonghoon Oh

IPC分类号： B24B5/35

CPC分类号： B24B37/30 ,  Y10T428/24174 ,  Y10T428/24182

摘要： A carrier head that has a base assembly, a retaining ring assembly, a carrier ring, and a flexible membrane is described. The flexible membrane has a main portion and an outer annular portion, wherein a junction between the main portion and the outer annular portion comprises a peripheral edge hinge and an annular recess above the hinge along the outer wall of the outer annular portion.

摘要翻译： 描述了具有基座组件，保持环组件，载体环和柔性膜的承载头。 柔性膜具有主要部分和外部环形部分，其中主要部分和外部环形部分之间的接合处包括周边边缘铰链和沿着外部环形部分的外壁的铰链上方的环形凹部。

公开(公告)号：US07597608B2

公开(公告)日：2009-10-06

申请号：US11928677

申请日：2007-10-30

申请人： Shou-Sung Chang ,  Steven M. Zuniga

发明人： Shou-Sung Chang ,  Steven M. Zuniga

IPC分类号： B24B1/00

CPC分类号： B24B53/017 ,  B24B53/12

摘要： A method and apparatus for conditioning is provided. In one embodiment, a conditioning disk includes a plurality of conditioning elements each having an abrasive working surface, and a flexible foundation having the conditioning elements coupled thereto. The flexible foundation has physical properties that retain the working surfaces in a substantially coplanar orientation with respect to the pad surface.

摘要翻译： 提供了一种用于调节的方法和装置。 在一个实施例中，调节盘包括多个调节元件，每个调节元件均具有研磨工作表面，以及具有与其连接的调节元件的柔性基座。 柔性基础具有将工作表面相对于衬垫表面保持在基本上共面取向的物理性质。

公开(公告)号：US07459057B2

公开(公告)日：2008-12-02

申请号：US10199738

申请日：2002-07-18

申请人： Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen

发明人： Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen

IPC分类号： C23F1/02 ,  B28B1/00 ,  B32B13/00

CPC分类号： B24B37/32 ,  B24B37/28

摘要： A retainer is used with an apparatus for polishing a substrate. The substrate has upper and lower surfaces and a lateral, substantially circular, perimeter. The apparatus has a polishing pad with an upper polishing surface for contacting and polishing the lower face of the substrate. The retainer has an inward facing retaining face for engaging and retaining the substrate against lateral movement during polishing of the substrate. The retaining face engages a substrate perimeter at more than substantially a single discrete circumferential location along the perimeter.

摘要翻译： 保持器用于抛光衬底的装置。 衬底具有上表面和下表面以及侧面，基本上圆形的周边。 该装置具有抛光垫，该抛光垫具有用于接触和抛光基底的下表面的上抛光表面。 保持器具有向内的保持面，用于在衬底的抛光期间接合和保持衬底以防止横向移动。 保持面在沿着周边的基本上一个单独的离散圆周位置处接合基底周边。

公开(公告)号：US20080196833A1

公开(公告)日：2008-08-21

申请号：US12049650

申请日：2008-03-17

申请人： Hung Chih Chen ,  Steven M. Zuniga ,  Charles C. Garretson ,  Douglas R. McAllister ,  Jian Lin ,  Stacy Meyer ,  Sidney P. Huey ,  Jeonghoon Oh ,  Trung T. Doan ,  Jeffrey Schmidt ,  Martin S. Wohlert ,  Kerry F. Hughes ,  James C. Wang ,  Danny Cam Toan Lu ,  Romain Beau De Lamenie ,  Venkata R. Balagani ,  Aden Martin Allen ,  Michael Jon Fong

发明人： Hung Chih Chen ,  Steven M. Zuniga ,  Charles C. Garretson ,  Douglas R. McAllister ,  Jian Lin ,  Stacy Meyer ,  Sidney P. Huey ,  Jeonghoon Oh ,  Trung T. Doan ,  Jeffrey Schmidt ,  Martin S. Wohlert ,  Kerry F. Hughes ,  James C. Wang ,  Danny Cam Toan Lu ,  Romain Beau De Lamenie ,  Venkata R. Balagani ,  Aden Martin Allen ,  Michael Jon Fong

IPC分类号： H01L21/306 ,  B24B1/00

CPC分类号： B24B37/32 ,  Y10T29/49815

摘要： A retaining ring can be shaped by machining or lapping the bottom surface of the ring to form a shaped profile in the bottom surface. The bottom surface of the retaining ring can include flat, sloped and curved portions. The lapping can be performed using a machine that dedicated for use in lapping the bottom surface of retaining rings. During the lapping the ring can be permitted to rotate freely about an axis of the ring. The bottom surface of the retaining ring can have curved or flat portions.

摘要翻译： 保持环可以通过机械加工或研磨环的底部表面而在底面形成成形轮廓。 保持环的底面可以包括平坦的，倾斜的和弯曲的部分。 可以使用专用于研磨保持环底面的机器进行研磨。 在研磨期间，可以允许环围绕环的轴线自由旋转。 保持环的底面可以具有弯曲或平坦的部分。

公开(公告)号：US20070289124A1

公开(公告)日：2007-12-20

申请号：US11757069

申请日：2007-06-01

申请人： Jeonghoon Oh ,  Andrew Nagengast ,  Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen

发明人： Jeonghoon Oh ,  Andrew Nagengast ,  Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen

IPC分类号： H05K13/04

CPC分类号： H01L21/6838 ,  B24B37/30 ,  H01L21/67005 ,  Y10T29/5313 ,  Y10T279/11

摘要： The present invention relates to an apparatus and method for improving and speeding up substrate loading process. One embodiment provides a method for vacuum chucking a substrate. The method comprises venting a center chamber of a flexible membrane configured for mounting the substrate, moving the substrate such that a backside of the substrate is in full contact with the flexible membrane, and vacuuming the center chamber to vacuum chuck the backside of the substrate to the flexible membrane.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于改善和加速基板加载过程的装置和方法。 一个实施例提供了用于真空吸附衬底的方法。 该方法包括将配置用于安装衬底的柔性膜的中心室排出，移动衬底，使得衬底的背面与柔性膜完全接触，并且抽真空中心室以将衬底的背面真空吸附到 柔性膜。