公开(公告)号：US07767379B2

公开(公告)日：2010-08-03

申请号：US12204460

申请日：2008-09-04

申请人： Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Oshita

发明人： Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Oshita

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F28/06

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  Y10S430/111

摘要： There is provided a positive resist composition including a resin component (A) which displays increased solubility in an alkali developing solution under action of acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the resin component (A) includes a polymer compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by a general formula (a0-1) shown below, and a structural unit (a1) derived from an acrylate ester which has an acid dissociable, dissolution inhibiting group: (in the formula (a0-1), R represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a halogenated lower alkyl group; two of R′ each independently represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms; X represents an alkylene group of 1 to 5 carbon atoms, an oxygen atom, or a sulfur atom.).

摘要翻译： 提供一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸作用下在碱性显影液中显示增加的溶解性的树脂组分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂组分（B），其中树脂组分（A） 包括含有下述通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的高分子化合物（A1）和来自具有酸解离性，溶解抑制基团的丙烯酸酯的结构单元（a1）（ 在式（a0-1）中，R表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R'两个各自独立地表示氢原子，低级烷基或烷氧基， 5个碳原子; X表示1至5个碳原子的亚烷基，氧原子或硫原子）。

公开(公告)号：US08105749B2

公开(公告)日：2012-01-31

申请号：US12814356

申请日：2010-06-11

申请人： Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita

发明人： Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C08F28/06

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  Y10S430/111

摘要： There is provided a positive resist composition including a resin component (A) which displays increased solubility in an alkali developing solution under action of acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the resin component (A) includes a polymer compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by a general formula (a0-1) shown below, and a structural unit (a1) derived from an acrylate ester which has an acid dissociable, dissolution inhibiting group: (in the formula (a0-1), R represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a halogenated lower alkyl group; two of R′ each independently represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms; X represents an alkylene group of 1 to 5 carbon atoms, an oxygen atom, or a sulfur atom.).

摘要翻译： 提供一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸作用下在碱性显影液中显示增加的溶解性的树脂组分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂组分（B），其中树脂组分（A） 包括含有下述通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的高分子化合物（A1）和来自具有酸解离性，溶解抑制基团的丙烯酸酯的结构单元（a1）（ 在式（a0-1）中，R表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R'两个各自独立地表示氢原子，低级烷基或烷氧基， 5个碳原子; X表示1至5个碳原子的亚烷基，氧原子或硫原子）。

公开(公告)号：US20090061356A1

公开(公告)日：2009-03-05

申请号：US12198557

申请日：2008-08-26

申请人： Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Komei Hirahara

发明人： Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Komei Hirahara

IPC分类号： G03C1/053 ,  C08F20/10 ,  G03F7/20 ,  C08F224/00

CPC分类号： H04B1/123 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： A polymer compound having a structural unit (a0) represented by a general formula (a0-1) shown below, and a structural unit (a1) that is derived from an acrylate ester containing an acid dissociable, dissolution inhibiting group but is not classified as said structural unit (a0). [wherein, R represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a halogenated lower alkyl group; A represents a divalent aliphatic cyclic group that may have a substituent; B represents a divalent hydrocarbon group that may have a substituent; r represents an integer of 0 or 1; and R1 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group.]

摘要翻译： 具有下述通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的高分子化合物和由含有酸解离性，溶解抑制基但不分类为 所述结构单元（a0）。 [式中，R表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; A表示可以具有取代基的二价脂肪族环状基团。 B表示可以具有取代基的二价烃基; r表示0或1的整数; R1表示酸解离，溶解抑制基团。

公开(公告)号：US20090068590A1

公开(公告)日：2009-03-12

申请号：US12204460

申请日：2008-09-04

申请人： Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita

发明人： Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C08F28/06

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  Y10S430/111

摘要： There is provided a positive resist composition including a resin component (A) which displays increased solubility in an alkali developing solution under action of acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the resin component (A) includes a polymer compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by a general formula (a0-1) shown below, and a structural unit (a1) derived from an acrylate ester which has an acid dissociable, dissolution inhibiting group: (in the formula (a0-1), R represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a halogenated lower alkyl group; two of R′ each independently represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms; X represents an alkylene group of 1 to 5 carbon atoms, an oxygen atom, or a sulfur atom.).

摘要翻译： 提供一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸作用下在碱性显影液中显示增加的溶解性的树脂组分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂组分（B），其中树脂组分（A） 包括含有下述通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的高分子化合物（A1）和来自具有酸解离性，溶解抑制基团的丙烯酸酯的结构单元（a1）（ 在式（a0-1）中，R表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R'两个各自独立地表示氢原子，低级烷基或烷氧基， 5个碳原子; X表示1至5个碳原子的亚烷基，氧原子或硫原子）。

公开(公告)号：US08088553B2

公开(公告)日：2012-01-03

申请号：US12425706

申请日：2009-04-17

申请人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takayoshi Mori ,  Sanae Furuya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Takahiro Dazai

发明人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takayoshi Mori ,  Sanae Furuya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Takahiro Dazai

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C08F220/28

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition including a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the base component (A) including a polymeric compound (A1) having a structural unit (a0-1) represented by general formula (a0-1) (wherein R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; R8 represents a divalent linking group; and R7 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group) and a structural unit (a0-2) represented by general formula (a0-2) (wherein R3 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; R4 represents a branched alkyl group of 3 or more carbon atoms; and each of R5 and R6 independently represents an alkyl group, wherein R5 and R6 are mutually bonded to form a ring).

摘要翻译： 一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中显示出增加的溶解度的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂组分（B），所述碱成分（A）包含高分子化合物 A1）具有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0-1）（其中R1表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R8表示二价连接基团，R7表示 酸解离，溶解抑制基）和由通式（a0-2）表示的结构单元（a0-2）（其中R3表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R4表示支链烷基 3个以上的碳原子，R5和R6各自独立地表示烷基，其中R5和R6相互键合形成环）。

公开(公告)号：US07745098B2

公开(公告)日：2010-06-29

申请号：US12198557

申请日：2008-08-26

申请人： Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Komei Hirahara

发明人： Takahiro Dazai ,  Takayoshi Mori ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Komei Hirahara

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C08F220/18

CPC分类号： H04B1/123 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： A polymer compound having a structural unit (a0) represented by a general formula (a0-1) shown below, and a structural unit (a1) that is derived from an acrylate ester containing an acid dissociable, dissolution inhibiting group but is not classified as said structural unit (a0). [wherein, R represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a halogenated lower alkyl group; A represents a divalent aliphatic cyclic group that may have a substituent; B represents a divalent hydrocarbon group that may have a substituent; r represents an integer of 0 or 1; and R1 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group]

摘要翻译： 具有下述通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的高分子化合物和由含有酸解离性，溶解抑制基但不分类为 所述结构单元（a0）。 [式中，R表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; A表示可以具有取代基的二价脂肪族环状基团。 B表示可以具有取代基的二价烃基; r表示0或1的整数; R1表示酸解离，溶解抑制基]

公开(公告)号：US20090269694A1

公开(公告)日：2009-10-29

申请号：US12425706

申请日：2009-04-17

申请人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takayoshi Mori ,  Sanae Furuya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Takahiro Dazai

发明人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takayoshi Mori ,  Sanae Furuya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Takahiro Dazai

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C08F222/10 ,  C08F224/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition including a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the base component (A) including a polymeric compound (A1) having a structural unit (a0-1) represented by general formula (a0-1) (wherein R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; R8 represents a divalent linking group; and R7 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group) and a structural unit (a0-2) represented by general formula (a0-2) (wherein R3 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; R4 represents a branched alkyl group of 3 or more carbon atoms; and each of R5 and R6 independently represents an alkyl group, wherein R5 and R6 are mutually bonded to form a ring).

摘要翻译： 一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中显示出增加的溶解度的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂组分（B），所述碱成分（A）包含高分子化合物 A1）具有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0-1）（其中R1表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R8表示二价连接基团，R7表示 酸解离，溶解抑制基）和由通式（a0-2）表示的结构单元（a0-2）（其中R3表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R4表示支链烷基 3个以上的碳原子，R5和R6各自独立地表示烷基，其中R5和R6相互键合形成环）。

公开(公告)号：US08475997B2

公开(公告)日：2013-07-02

申请号：US13336131

申请日：2011-12-23

申请人： Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Sanae Furuya ,  Takahiro Dazai ,  Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Kurosawa ,  Hideto Nito ,  Tsuyoshi Nakamura

发明人： Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Sanae Furuya ,  Takahiro Dazai ,  Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Kurosawa ,  Hideto Nito ,  Tsuyoshi Nakamura

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： C08F214/18 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A resist composition for immersion exposure including: a fluorine-containing polymeric compound (F) containing a structural unit (f1) having a base dissociable group and a structural unit (f2) represented by general formula (f2-1) (wherein R represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; and W is a group represented by any one of general formulas (w-1) to (w-4)); a base component (A) that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid; and an acid generator component (B) that generates acid upon exposure.

摘要翻译： 一种浸渍曝光用抗蚀剂组合物，包括：含有具有碱解离基团的结构单元（f1）和由通式（f2-1）表示的结构单元（f2）的含氟聚合物（F）（其中R表示 氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; W为通式（w-1）〜（w-4）中任一个表示的基团）; 在酸性作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解性的碱成分（A） 和在曝光时产生酸的酸发生剂组分（B）。

公开(公告)号：US07960091B2

公开(公告)日：2011-06-14

申请号：US12356011

申请日：2009-01-19

申请人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takahiro Dazai

发明人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takahiro Dazai

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition comprising a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, and a nitrogen-containing organic compound (D), the nitrogen-containing organic compound (D) including a nitrogen-containing polymeric compound (D1) having a structural unit (d0) containing a nitrogen atom in the side chain thereof.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其含有在酸作用下在碱显影液中溶解度变化的碱成分（A），曝光时产生酸的酸发生剂成分（B）和含氮有机化合物（D）， 含有有机化合物（D），其含有在其侧链中含有氮原子的结构单元（d0）的含氮高分子化合物（D1）。

公开(公告)号：US20090023097A1

公开(公告)日：2009-01-22

申请号：US12174804

申请日：2008-07-17

申请人： Takahiro Dazai ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Komei Hirahara

发明人： Takahiro Dazai ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Komei Hirahara

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： A positive resist composition including a resin component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of acid and has a structural unit (a1) represented by general formula (a1-0-2) shown below, and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure and includes an acid generator (B1) consisting of a compound represented by general formula (b1-12) shown below: wherein R represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; X2 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group; and Y2 represents an alkylene group or a divalent aliphatic cyclic group; and R2—O—Y1—SO3−A+  (b1-12) wherein R2 represents a monovalent aromatic organic group; Y1 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom; and A+ represents a cation.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含在酸性作用下在碱性显影液中显示出增加的溶解性并具有如下所示的由通式（a1-0-2）表示的结构单元（a1）的树脂组分（A） 发生器组分（B），其在暴露时产生酸，并且包括由以下所示的通式（b1-12）表示的化合物组成的酸产生剂（B1）：其中R表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基 组; X2表示酸解离，溶解抑制基团; 并且Y2表示亚烷基或二价脂族环基; 和<？in-line-formula description =“在线公式”end =“lead”？> R2-O-Y1-SO3-A +（b1-12）<？in-line-formula description =“In-line 式“end =”tail“？>其中R2表示一价芳族有机基团; Y1表示可被氟原子取代的1〜4个碳原子的亚烷基; 而A +代表阳离子。