公开(公告)号：US5720869A

公开(公告)日：1998-02-24

申请号：US548986

申请日：1995-10-27

申请人： Koji Yamanaka ,  Takashi Imaoka ,  Takashi Futatsuki ,  Yukinari Yamashita

发明人： Koji Yamanaka ,  Takashi Imaoka ,  Takashi Futatsuki ,  Yukinari Yamashita

IPC分类号： C02F1/20 ,  C02F1/28 ,  C02F1/32 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/46 ,  C02F1/461 ,  C02F1/78 ,  C02F9/00

CPC分类号： C02F1/32 ,  C02F1/4618 ,  C02F9/00 ,  C02F1/20 ,  C02F1/283 ,  C02F1/44 ,  C02F1/78 ,  C02F2001/427 ,  C02F2001/46133 ,  C02F2103/04 ,  C02F2201/4611 ,  C02F2201/46115 ,  C02F2201/4618

摘要： A high-purity water producing equipment comprises a primary purification treatment system, a primary deionized water tank, a secondary purification treatment system for producing high-purity water from a primary deionized water, a circulatory system pipe for returning the produced high-purity water to a primary deionized water tank and a branch water feed system branched off from the circulatory system for feeding the high-purity water to a use point. An electrolytic unit for producing the anolyte EIW (electrolytic ionized water) to be catholyte EIW from the electrolysis of the high-purity water is provided as a bypass midway along the circulatory system. The anolyte EIW is added to the circulatory pipe downstream of the branching point toward the use point, when cleaning of units is necessary.

摘要翻译： 高纯度水生产设备包括初级净化处理系统，初级去离子水箱，用于从初级去离子水生产高纯度水的二次净化处理系统，用于将生产的高纯度水返回到的循环系统管道 从循环系统分支的主要去离子水箱和分支给水系统，用于将高纯度水供给到使用点。 在循环系统的中途设置用于从高纯度水的电解中制造阴极电解液EIW（电解电离水）的电解单元作为旁路。 阳极电解液EIW被添加到分支点下游的循环管道朝向使用点，当需要清洁单元时。

公开(公告)号：US06290777B1

公开(公告)日：2001-09-18

申请号：US09242601

申请日：1999-02-19

申请人： Takashi Imaoka ,  Yukinari Yamashita

发明人： Takashi Imaoka ,  Yukinari Yamashita

IPC分类号： B08B312

CPC分类号： B08B3/08 ,  B08B3/12 ,  C02F1/20 ,  C02F1/66 ,  C02F1/70 ,  C02F2103/04 ,  C02F2209/23 ,  H01L21/02052

摘要： An electronic parts members, or the like, such as the silicon wafer, etc., is washed with wash water. The wash water is prepared by dissolving a hydrogen gas or ozone gas in ultra pure water and has a negative or positive oxidation-reduction potential. This wash water has remarkably improved detergency for electronic parts. In addition, when the pH of the wash water is adjusted, the electronic parts members can be washed more effectively.

摘要翻译： 诸如硅晶片等的电子部件等被用洗涤水洗涤。 洗涤水通过将氢气或臭氧气体溶解在超纯水中并具有负或正的氧化还原电位来制备。 这种洗涤水对于电子部件具有显着改善的去污力。 此外，当调节洗涤水的pH时，可以更有效地洗涤电子部件。

公开(公告)号：US5616221A

公开(公告)日：1997-04-01

申请号：US549570

申请日：1995-10-27

申请人： Hidemitsu Aoki ,  Koji Yamanaka ,  Takashi Imaoka ,  Takashi Futatsuki ,  Yukinari Yamashita

发明人： Hidemitsu Aoki ,  Koji Yamanaka ,  Takashi Imaoka ,  Takashi Futatsuki ,  Yukinari Yamashita

IPC分类号： C25B1/04 ,  C02F1/44 ,  C02F1/461 ,  C02F9/00 ,  C25B9/00 ,  C25B9/08

CPC分类号： C02F1/4618 ,  C02F1/444 ,  C02F2001/46133 ,  C02F2201/4611 ,  C02F2201/46195 ,  C02F2209/04 ,  C02F2209/06 ,  C02F9/00 ,  Y02E60/366

摘要： An electrolytic ionized water (EIW) producing apparatus comprises an anode, a cathode, an electrolyzer which includes an anode chamber, a cathode chamber and an intermediate chamber, inlet lines for supplying an influent water to the three chambers, and outlet lines for discharging effluent water from the chambers. Further, an acidic electrolyte supplying unit is connected to the outlet line from the anode chamber, and an alkaline electrolyte supplying unit is connected to the outlet line from the cathode chamber. The electrolyte supplying units can selectively control at least the dosage level of elelctrolyte(s) to be supplied, the composition and concentration of the electrolyte(s) or pH of EIW after the addition of the electrolyte(s).

摘要翻译： 电解电离水（EIW）制造装置包括阳极，阴极，包括阳极室，阴极室和中间室的电解槽，用于向三室供应流入水的入口管线，以及用于排出流出物的出口管线 水从房间。 此外，酸性电解质供给单元从阳极室与出口管连接，碱性电解质供给单元从阴极室与出口管连接。 电解质供应单元可选择性地控制电解质的添加量，电解质的组成和浓度或EIW的添加量之后的电解质的剂量水平。

公开(公告)号：US5593554A

公开(公告)日：1997-01-14

申请号：US549647

申请日：1995-10-27

申请人： Koji Yamanaka ,  Takashi Imaoka ,  Takashi Futatsuki ,  Yukinari Yamashita

发明人： Koji Yamanaka ,  Takashi Imaoka ,  Takashi Futatsuki ,  Yukinari Yamashita

IPC分类号： C25B1/04 ,  B01D61/44 ,  B01D61/48 ,  B01D61/58 ,  B01J47/08 ,  C02F1/44 ,  C02F1/461 ,  C02F1/469 ,  C02F9/00 ,  C25B9/00 ,  C25B9/08

CPC分类号： C02F1/4618 ,  B01D61/44 ,  B01D61/48 ,  B01D61/58 ,  B01J47/08 ,  C02F1/4695 ,  B01D61/025 ,  B01D61/145 ,  B01D61/147 ,  C02F1/44 ,  C02F2001/46133 ,  C02F2201/4611 ,  C02F2201/46115 ,  C02F2201/4618 ,  C02F2201/4619 ,  C02F2201/46195 ,  C02F2209/04 ,  C02F9/00 ,  Y02E60/366

摘要： In an electrolytic ionized water (EIW) producing apparatus, a three-chamber electrolyzer includes an anode chamber, a cathode chamber and an intermediate chamber. An influent such as deionized water is supplied to these chamber via inlet lines. Further an electrolyte supplying units are connected to the inlet lines of the anode chamber and the inlet line of the cathode chamber.

摘要翻译： 在电解电离水（EIW）制造装置中，三室电解槽具有阳极室，阴极室和中间室。 诸如去离子水的流入物通过入口管线被供应到这些室。 此外，电解质供应单元连接到阳极室的入口管线和阴极室的入口管线。

公开(公告)号：US5635053A

公开(公告)日：1997-06-03

申请号：US549646

申请日：1995-10-27

申请人： Hidemitsu Aoki ,  Masaharu Nakamori ,  Koji Yamanaka ,  Takashi Imaoka ,  Takashi Futatsuki ,  Yukinari Yamashita

发明人： Hidemitsu Aoki ,  Masaharu Nakamori ,  Koji Yamanaka ,  Takashi Imaoka ,  Takashi Futatsuki ,  Yukinari Yamashita

IPC分类号： B08B3/08 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/461 ,  C02F9/00 ,  C11D3/02 ,  C25B1/04 ,  H01L21/00 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306

CPC分类号： H01L21/02052 ,  B08B3/08 ,  C02F1/4618 ,  H01L21/67057 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F2103/04 ,  C02F2201/4611 ,  C02F2201/46115 ,  C02F2201/46195 ,  C02F9/00 ,  Y02E60/366

摘要： Electric parts including semiconductor substrates, glass substrates and the like are washed with various cleaning solutions. After the cleaning, said parts are cleaned with either anolyte or catholyte electrolytic ionized water (EIW) produced from deionized water.

摘要翻译： 包括半导体基板，玻璃基板等的电气部件用各种清洗液洗涤。 清洁后，用去离子水生产的阳极电解液或阴极电解质电解水（EIW）清洗所述部件。

公开(公告)号：US06884344B2

公开(公告)日：2005-04-26

申请号：US10329899

申请日：2002-12-26

申请人： Yukinari Yamashita ,  Takashi Futatsuki

发明人： Yukinari Yamashita ,  Takashi Futatsuki

IPC分类号： B08B3/08 ,  B01D19/00 ,  B01D61/08 ,  B01D61/18 ,  C01B3/00 ,  C02F1/20 ,  C02F1/28 ,  C02F1/32 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/52 ,  C02F1/66 ,  C02F1/68 ,  C02F1/70 ,  C02F1/72 ,  C02F9/00 ,  H01L21/304

CPC分类号： C02F9/00 ,  C02F1/20 ,  C02F1/283 ,  C02F1/32 ,  C02F1/441 ,  C02F1/444 ,  C02F1/52 ,  C02F1/66 ,  C02F1/68 ,  C02F1/722 ,  C02F1/725 ,  C02F2001/427 ,  C02F2103/04 ,  C02F2209/04 ,  C02F2209/06 ,  C02F2209/30 ,  C02F2303/18 ,  Y02E60/324 ,  Y10S210/90

摘要： A degassing device (10), a hydrogen dissolving device (12), and a palladium catalyst column (17) are provided in that order downstream of a high-purity water production device (1), and an impurity removal device (19) is connected to the exit side of treated water of the palladium catalyst column (17). The impurity removal device (19) removes impurity ions which are eluted into the water to be treated or impurity particulates which mix in with the water to be treated during the treatment in the palladium catalyst column (17). The impurity removal device (19) comprises an ion exchange device (20) and a membrane treatment device (21) such as a ultrafiltration membrane device, a reverse osmosis membrane device or the like. By providing an impurity removal device (19) in this manner, it is possible to remove impurities generated during hydrogen peroxide removal treatment by the palladium catalyst and to prevent degradation in quality of hydrogen-dissolved water.

摘要翻译： 在高纯度水生产装置（1）的下游设有脱气装置（10），氢溶解装置（12）和钯催化剂塔（17），杂质除去装置（19）为 连接到钯催化剂塔（17）的处理水的出口侧。 杂质去除装置（19）在钯催化剂塔（17）中除去在待处理的水中洗脱的杂质离子或与处理中的待处理水相混合的杂质颗粒。 杂质去除装置（19）包括离子交换装置（20）和膜处理装置（21），例如超滤膜装置，反渗透膜装置等。 通过以这种方式提供杂质去除装置（19），可以通过钯催化剂除去在过氧化氢去除处理期间产生的杂质，并且防止氢溶解水的质量降低。