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    DATA PATH FOR LITHOGRAPHY APPARATUS
    2.
    发明申请
    DATA PATH FOR LITHOGRAPHY APPARATUS 有权
    数据路径为LITHOGRAPHY设备

    公开(公告)号：US20120287410A1

    公开(公告)日：2012-11-15

    申请号：US13290139

    申请日：2011-11-07

    Applicant: Marco Jan-Jaco Wieland ,  Teunis Van De Peut ,  Floris Pepijn Van Der Wilt ,  Ernst Habekotte

    Inventor： Marco Jan-Jaco Wieland ,  Teunis Van De Peut ,  Floris Pepijn Van Der Wilt ,  Ernst Habekotte

    IPC: G03B27/00 ,  G06F3/12 ,  H04Q11/00

    CPC classification number: H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J2237/31762 ,  H01J2237/31774

    Abstract: The invention relates to a maskless lithography system for patterning a target using a plurality of charged particle beamlets. The system comprises an electron optical column including a blanker array for modulating the beamlets. The blanker array includes receivers for receiving data signals and blanker elements for modulating the beamlets in accordance with the data signals. The system further comprises a data path comprising a preprocessing system for processing pattern data and a plurality of transmission channels for transmitting processed pattern data to the blanker elements. The data path further comprises a pattern streaming system for receiving pattern data and generating data signals. First and second channel selectors connect a subset of selected transmission channels for pattern data transmission. The first channel selector is connected between the preprocessing system and the transmission channels. The second channel selector is connected between the channels and the blanker elements.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于使用多个带电粒子子束来图案化靶的无掩模光刻系统。 该系统包括电子光学柱，其包括用于调制子束的阻挡阵列。 消隐器阵列包括用于接收数据信号的接收器和用于根据数据信号调制子束的消隐元件。 该系统还包括数据路径，该数据路径包括用于处理模式数据的预处理系统和用于将处理后的图案数据发送到消隐元件的多个传输通道。 数据路径还包括用于接收模式数据和产生数据信号的模式流传输系统。 第一和第二信道选择器连接用于模式数据传输的所选传输信道的子集。 第一通道选择器连接在预处理系统和传输通道之间。 第二通道选择器连接在通道和消声器元件之间。

    DATA PATH FOR LITHOGRAPHY APPARATUS
    3.
    发明申请
    DATA PATH FOR LITHOGRAPHY APPARATUS 有权
    数据路径为LITHOGRAPHY设备

    公开(公告)号：US20120286168A1

    公开(公告)日：2012-11-15

    申请号：US13290141

    申请日：2011-11-07

    Applicant: Henk Derks ,  Marco Jan-Jaco Wieland ,  Teunis Van De Peut

    Inventor： Henk Derks ,  Marco Jan-Jaco Wieland ,  Teunis Van De Peut

    IPC: G06F11/20 ,  G21K5/04

    CPC classification number: H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J2237/31754 ,  H01J2237/31762 ,  H01J2237/31793

    Abstract: A maskless charged particle lithography system comprises an electron-optical column and a data path. The column includes a blanker array including blanker elements. The data path comprises a preprocessing system, transmission channels, and a pattern streaming system. The lithography system is configured for exposing a target field in two passes by allocating a first beamlet subset for exposing a first field subset during a first pass and a second beamlet subset for exposing a second field subset during a second pass. A first beam selector selects a first pattern data subset containing exposure data for the first beamlet subset and a second pattern data subset containing exposure data for the second beamlet subset. Second beam selectors connect transmission channels assigned for transmitting the first pattern data subset to a first blanker elements subset, and transmission channels assigned for transmitting the second pattern data subset to a second blanker elements subset.

    Abstract translation: 无掩模带电粒子光刻系统包括电子 - 光学柱和数据路径。 该列包括一个包含消隐元素的消隐数组。 数据路径包括预处理系统，传输信道和模式流传输系统。 光刻系统被配置为通过在第一次通过期间分配用于暴露第一场子集的第一子束子集和用于在第二遍期间暴露第二场子集的第二子束子集来分两次通过中的目标场曝光。 第一光束选择器选择包含第一子束子集的曝光数据的第一图案数据子集和包含第二子束子集的曝光数据的第二图案数据子集。 第二光束选择器将分配用于发射第一图案数据子集的传输通道连接到第一消隐元素子集，以及分配用于将第二图案数据子集发送到第二消隐元素子集的传输信道。

    Data path for lithography apparatus
    5.
    发明授权
    Data path for lithography apparatus 有权
    光刻设备的数据路径

    公开(公告)号：US08884255B2

    公开(公告)日：2014-11-11

    申请号：US13290141

    申请日：2011-11-07

    Applicant: Henk Derks ,  Marco Jan-Jaco Wieland ,  Teunis Van De Peut

    Inventor： Henk Derks ,  Marco Jan-Jaco Wieland ,  Teunis Van De Peut

    IPC: H01J37/00 ,  H01J37/317 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

    CPC classification number: H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J2237/31754 ,  H01J2237/31762 ,  H01J2237/31793

    Abstract: A maskless charged particle lithography system comprises an electron-optical column and a data path. The column includes a blanker array including blanker elements. The data path comprises a preprocessing system, transmission channels, and a pattern streaming system. The lithography system is configured for exposing a target field in two passes by allocating a first beamlet subset for exposing a first field subset during a first pass and a second beamlet subset for exposing a second field subset during a second pass. A first beam selector selects a first pattern data subset containing exposure data for the first beamlet subset and a second pattern data subset containing exposure data for the second beamlet subset. Second beam selectors connect transmission channels assigned for transmitting the first pattern data subset to a first blanker elements subset, and transmission channels assigned for transmitting the second pattern data subset to a second blanker elements subset.

    Abstract translation: 无掩模带电粒子光刻系统包括电子 - 光学柱和数据路径。 该列包括一个包含消隐元素的消隐数组。 数据路径包括预处理系统，传输信道和模式流传输系统。 光刻系统被配置为通过在第一次通过期间分配用于暴露第一场子集的第一子束子集和用于在第二遍期间暴露第二场子集的第二子束子集来分两次通过中的目标场曝光。 第一光束选择器选择包含第一子束子集的曝光数据的第一图案数据子集和包含第二子束子集的曝光数据的第二图案数据子集。 第二光束选择器将分配用于发射第一图案数据子集的传输通道连接到第一消隐元素子集，以及分配用于将第二图案数据子集发送到第二消隐元素子集的传输信道。

    CHARGED PARTICLE BEAM MODULATOR
    6.
    发明申请
    CHARGED PARTICLE BEAM MODULATOR 有权
    充电颗粒光束调制器

    公开(公告)号：US20120292491A1

    公开(公告)日：2012-11-22

    申请号：US13295252

    申请日：2011-11-14

    Applicant: Marco Jan-Jaco Wieland ,  Remco Jager ,  Alexander Hendrik Vincent Van Veen ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink ,  Teunis Van De Peut ,  Henk Derks

    Inventor： Marco Jan-Jaco Wieland ,  Remco Jager ,  Alexander Hendrik Vincent Van Veen ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink ,  Teunis Van De Peut ,  Henk Derks

    IPC: G21K5/04

    CPC classification number: H01J37/045 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/241 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0437 ,  H01J2237/2482

    Abstract: The invention relates to a charged particle lithography system comprising a beam generator for generating a plurality of charged particle beamlets, a beam stop array and a modulation device. The beam stop array has a surface for blocking beamlets from reaching a target surface and an aperture array in the surface for allowing beamlets to reach the target surface. The modulation device is arranged for modulating the beamlets by deflecting or not deflecting the beamlets so that the beamlets are blocked or not blocked by the beam stop array. A surface area of the modulation device comprises an elongated beam area comprising an array of apertures and associated modulators, and a power interface area for accommodating a power arrangement for powering elements within the modulation device. The power interface area is located alongside a long side of the elongated beam area and extending in a direction substantially parallel thereto.

    Abstract translation: 本发明涉及一种带电粒子光刻系统，其包括用于产生多个带电粒子子束的束发生器，束阻止阵列和调制装置。 光束停止阵列具有用于阻挡子束到达目标表面的表面和表面中的孔径阵列，以允许子束到达目标表面。 调制装置被布置用于通过偏转或不偏转子束来调制子束，使得子束被阻挡或不被阻挡阵列阻挡。 调制装置的表面区域包括细长的波束区域，其包括孔阵列和相关联的调制器，以及用于容纳为调制装置内的元件供电的功率装置的电源接口区域。 电源接口区域位于细长波束区域的长边旁边并沿与其大致平行的方向延伸。

    Data path for lithography apparatus
    7.
    发明授权
    Data path for lithography apparatus 有权
    光刻设备的数据路径

    公开(公告)号：US09305747B2

    公开(公告)日：2016-04-05

    申请号：US13290139

    申请日：2011-11-07

    Applicant: Marco Jan-Jaco Wieland ,  Teunis Van De Peut ,  Floris Pepijn Van Der Wilt ,  Ernst Habekotte

    Inventor： Marco Jan-Jaco Wieland ,  Teunis Van De Peut ,  Floris Pepijn Van Der Wilt ,  Ernst Habekotte

    IPC: H01J37/317 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

    CPC classification number: H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J2237/31762 ,  H01J2237/31774

    Abstract: The invention relates to a maskless lithography system for patterning a target using a plurality of charged particle beamlets. The system comprises an electron optical column including a blanker array for modulating the beamlets. The blanker array includes receivers for receiving data signals and blanker elements for modulating the beamlets in accordance with the data signals. The system further comprises a data path comprising a preprocessing system for processing pattern data and a plurality of transmission channels for transmitting processed pattern data to the blanker elements. The data path further comprises a pattern streaming system for receiving pattern data and generating data signals. First and second channel selectors connect a subset of selected transmission channels for pattern data transmission. The first channel selector is connected between the preprocessing system and the transmission channels. The second channel selector is connected between the channels and the blanker elements.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于使用多个带电粒子子束来图案化靶的无掩模光刻系统。 该系统包括电子光学柱，其包括用于调制子束的阻挡阵列。 消隐器阵列包括用于接收数据信号的接收器和用于根据数据信号调制子束的消隐元件。 该系统还包括数据路径，该数据路径包括用于处理模式数据的预处理系统和用于将处理后的图案数据发送到消隐元件的多个传输通道。 数据路径还包括用于接收模式数据和产生数据信号的模式流传输系统。 第一和第二信道选择器连接用于模式数据传输的所选传输信道的子集。 第一通道选择器连接在预处理系统和传输通道之间。 第二通道选择器连接在通道和消声器元件之间。

    Pattern data conversion for lithography system
    10.
    发明授权
    Pattern data conversion for lithography system 有权
    光刻系统的图案数据转换

    公开(公告)号：US08710465B2

    公开(公告)日：2014-04-29

    申请号：US13293426

    申请日：2011-11-10

    Applicant: Teunis Van De Peut ,  Marco Jan-Jaco Weiland

    Inventor： Teunis Van De Peut ,  Marco Jan-Jaco Weiland

    IPC: H01J37/06 ,  H01J37/07 ,  G21K5/10

    CPC classification number: H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70508

    Abstract: A method and system for exposing a target according to pattern data in a maskless lithography machine generating a plurality of exposure beamlets for exposing the target. The method comprises providing input pattern data in a vector format, rendering and quantizing the input pattern data to generate intermediate pattern data, and re-sampling and re-quantizing the intermediate pattern data to generate output pattern data. The output pattern data is supplied to the lithography machine, and the beamlets generated by the lithography machine are modulated on the basis of the output pattern data.

    Abstract translation: 一种用于在无掩模光刻机中根据图案数据曝光目标的方法和系统，其生成用于曝光目标的多个曝光子束。 该方法包括以矢量格式提供输入图形数据，渲染和量化输入图案数据以产生中间图案数据，并重新采样和重新量化中间图案数据以产生输出图案数据。 将输出图案数据提供给光刻机，并且基于输出图案数据调制由光刻机产生的子束。

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