公开(公告)号：WO2016051660A1

公开(公告)日：2016-04-07

申请号：PCT/JP2015/004394

申请日：2015-08-31

Applicant: 信越半導体株式会社

Inventor： 原田　敬

IPC: H01L33/00 ,  G01N21/958

CPC classification number: H01L22/12 ,  G01N21/88 ,  G01N21/9505 ,  G01N2021/8438 ,  G06T7/0004 ,  G06T2207/30152 ,  H01L21/681 ,  H01L21/6836 ,  H01L22/20 ,  H01L24/78 ,  H01L24/85 ,  H01L27/14636 ,  H01L33/00 ,  H01L2221/68327

Abstract: 　本発明は、発光層を有する化合物半導体からなる第１の透明基板と、化合物半導体からなる第２の透明基板とを貼り合わせた化合物半導体ウェーハから個片化された化合物半導体チップの貼り合わせ不良部の検出方法であって、同軸落斜照明の光を前記化合物半導体チップに照射し、前記化合物半導体チップの貼り合わせ不良部からの反射光の色を識別し、前記貼り合わせ不良部を検出することを特徴とする貼り合わせ不良部の検出方法である。これにより、化合物半導体からなる２枚の透明基板を直接接合により貼り合わせた化合物半導体ウェーハを個片化した化合物半導体チップの貼り合わせ界面の貼り合わせ不良部を、精度よく検出できる貼り合わせ不良部の検出方法が提供される。

Abstract translation: 本发明是一种检测由化合物半导体晶片形成的化合物半导体芯片中的不良接合部分的方法，该化合物半导体晶片是通过将由具有发光层的化合物半导体构成的第一透明基板和由化合物半导体构成的第二透明基板接合而形成的。 该方法的特征在于用化合物半导体芯片对由化合物半导体芯片的不良接合部反射的光的颜色进行了同轴的外照射光照射化合物半导体芯片，并且检测出不良的接合部。 通过这样做，能够高精度地检测从通过直接接合由两个透明基板构成的两个透明基板形成的化合物半导体晶片上形成的化合物半导体芯片的接合界面处的不良接合部分的差接合部分检测方法 提供化合物半导体。

公开(公告)号：WO2015153970A1

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：PCT/US2015/024245

申请日：2015-04-03

Applicant: NORDSON CORPORATION

Inventor： TINGAY, John ,  WALKER, William, T. ,  KING, Phil ,  WHITE, Simon ,  STEWART, Kate

IPC: G01N23/083 ,  G01N23/04 ,  G01N23/02

CPC classification number: G01N23/04 ,  G01N2223/309 ,  G01N2223/6113 ,  G01N2223/6116 ,  G01N2223/6462 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/681 ,  H01L21/6838 ,  H01L22/12

Abstract: An x-ray inspection system comprising: a cabinet (110), the cabinet (110) containing an x-ray source (100), a sample support (200) for supporting a sample to be inspected, and an x-ray detector (300); an air mover (130) configured to force air into the cabinet (110) through an air inlet (132) in the cabinet (110) above the sample support (200), wherein the air mover (130) and cabinet (110) are configured to force air through the cabinet (110) from the air inlet (132) past the sample support (200) to an air outlet (150) in the cabinet (110) below the sample support (200), and a sample support positioning assembly (310) for positioning the sample support (200) relative to the x-ray source (100) and x-ray detector (300); wherein the sample support (200) comprises an upper surface extending in a horizontal plane and wherein the sample positioning assembly (210) comprises a vertical positioning mechanism (214, 216) for moving the sample support in a vertical direction, orthogonal to the horizontal plane, and a first horizontal positioning mechanism (212, 214) for moving both the sample support (200) and the vertical positioning mechanism (214, 216) in a first horizontal direction.

Abstract translation: 一种x射线检查系统，包括：机壳（110），所述机壳（110）包含x射线源（100），用于支撑待检查样品的样品支撑件（200）和x射线检测器 300）; 空气推动器（130），其构造成通过所述样品支撑件（200）上方的所述机壳（110）中的空气入口（132）将空气强制进入所述机壳（110），其中所述鼓风机（130）和机壳（110） 被配置为迫使来自所述空气入口（132）的所述机壳（110）经过所述样品支撑件（200）到所述样品支撑件（200）下方的所述机壳（110）中的空气出口（150），并且样品支撑定位 用于相对于x射线源（100）和x射线检测器（300）定位样品支架（200）的组件（310）; 其中所述样品支撑件（200）包括在水平平面中延伸的上表面，并且其中所述样品定位组件（210）包括垂直定位机构（214,216），用于沿垂直于水平面的垂直方向移动样品支撑件 以及用于在第一水平方向上移动样品支撑件（200）和垂直定位机构（214,216）的第一水平定位机构（212,214）。

公开(公告)号：WO2015153962A1

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：PCT/US2015/024235

申请日：2015-04-03

Applicant: NORDSON CORPORATION

Inventor： WALKER, William, T. ,  WHITE, Simon

IPC: G01N23/083 ,  G01N23/04 ,  G01N23/02

CPC classification number: G01N23/04 ,  G01N2223/309 ,  G01N2223/6113 ,  G01N2223/6116 ,  G01N2223/6462 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/681 ,  H01L21/6838 ,  H01L22/12

Abstract: An x-ray inspection system comprising: an x-ray source (100), a sample support (200) for supporting a sample to be inspected, an x-ray detector (300), a sample positioning assembly (210) including a first positioning mechanism (210) for moving the sample support (200) along a first axis towards and away from the x-ray source (100), a proximity sensor (400) fixed to the x-ray source (100) configured to provide a measurement of distance between the x-ray source (100) and a surface of a sample on the sample support (200); and a controller (500) connected to the proximity sensor (400). Measurements from the proximity sensor (400) can be used in image processing calculations and to prevent collision between a sample and the x-ray source (100).

Abstract translation: 一种X射线检查系统，包括：x射线源（100），用于支撑待检查样本的样本支撑件（200），x射线检测器（300），包括第一 定位机构（210），其用于沿着第一轴线朝向和远离所述x射线源（100）移动所述样品支撑件（200）;固定到所述x射线源（100）的接近传感器（400） 测量x射线源（100）与样品支架（200）上的样品表面之间的距离; 以及连接到所述接近传感器（400）的控制器（500）。 来自接近传感器（400）的测量可用于图像处理计算并防止样品与X射线源（100）之间的碰撞。

公开(公告)号：WO2015151276A1

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：PCT/JP2014/059979

申请日：2014-04-04

Applicant: 上野精機株式会社

Inventor： 南　日出夫 ,  木村　浩之

IPC: B65B15/04 ,  B65B57/02

CPC classification number: H01L21/681 ,  H01L21/67721

Abstract: 　キャリアテープやトレイやウェハシート等の収容体に対して収容箇所の形成位置に製造誤差が存在していても適正に電子部品を収容することができる収容ユニット及び電子部品搬送装置を提供することを目的とする。テーピングユニット（２）は、収容ポジション（Ｐ１）とは異なる位置のズレ確認ポジション（Ｐ２）を有し、キャリアテープ（Ｔ）を走行させることで、各ポケット（Ｔ１）をズレ確認ポジション（Ｐ２）経由で収容ポジション（Ｐ１）に位置させる。ズレ確認ポジション（Ｐ２）では、ポケット（Ｔ１）を第２の撮像部（２７）で撮像し、第２の撮像部（２７）が撮像した画像を解析してポケット（Ｔ１）の基準位置及び基準向きに対するズレを検出する。そして、補正部（２５）によって、ズレが検出されたポケット（Ｔ１）が収容ポジション（Ｐ１）で電子部品（Ｄ）を収容する前に、当該ポケット（Ｔ１）のズレを解消するようにキャリアテープＴを平面移動及び回転させる。

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够适当地容纳电子部件的壳体单元，即使在诸如载体带，托盘或晶片片的壳体上形成容纳区域的位置存在制造误差，并且 提供电子部件输送装置。 胶带单元（2）具有与接收位置（P1）不同的移动验证位置（P2），并且通过移动载带（T），每个口袋（T1）可以在通过后位于接收位置（P1） 通过换档验证位置（P2）。 在移动验证位置（P2）中，利用第二成像单元（27）对袋（T1）进行成像，并且分析由第二成像单元（27）捕获的图像，以检测相对于参考位置和参考取向的移位 的口袋（T1）。 然后，在将电子部件（D）容纳在检测到移位的袋（T1）中并且处于收纳位置（P1）之前，校正单元（25）在平面中旋转并移动载带 T），以便消除所述口袋（T1）的偏移。

公开(公告)号：WO2015135782A1

公开(公告)日：2015-09-17

申请号：PCT/EP2015/054276

申请日：2015-03-02

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： LOF, Joeri ,  KAUFFMAN, Joost ,  PETERS, Martin, Dieter, Nico ,  RUTGERS, Petrus, Theodorus ,  STOPEL, Martijn, Hendrikus, Wilhelmus ,  VAN DEN EIJKEL, Gerard ,  VAN DER SCHOOT, Harmen, Klaas ,  VISSER, Raimond

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F7/70775 ,  G01B11/272 ,  G03F7/7075 ,  G03F9/7011 ,  H01L21/681 ,  H01L21/682 ,  H01L21/68707 ,  H01L22/12

Abstract: The invention relates to a sensor system (PSS) configured to determine a position of a substrate (W) having an edge (WE). The sensor system comprises a radiation source (LS) arranged to emit a radiation bundle (LB), a reflective element (RE), a detector device (DD) and a substrate table (PWT) having a supporting surface for supporting the substrate. The supporting surface is at least partly along a plane. The radiation source and the detector device are arranged on a first side of the plane. The reflective element is arranged on a second side of the plane other than the first side. The reflective element is arranged to create a reflected bundle by reflecting the radiation bundle. The reflective element is arranged to illuminate the edge with the reflected bundle. The detector device is arranged to receive the reflected bundle.

Abstract translation: 本发明涉及一种被配置为确定具有边缘（WE）的衬底（W）的位置的传感器系统（PSS）。 传感器系统包括布置成发射辐射束（LB）的辐射源（LS），反射元件（RE），检测器装置（DD）和具有用于支撑衬底的支撑表面的衬底台（PWT）。 支撑表面至少部分地沿着平面。 辐射源和检测器装置布置在平面的第一侧上。 反射元件布置在除了第一侧之外的平面的第二侧上。 反射元件布置成通过反射辐射束来产生反射束。 反射元件布置成用反射束照射边缘。 检测器装置被布置成接收反射束。

公开(公告)号：WO2015082020A1

公开(公告)日：2015-06-11

申请号：PCT/EP2013/075831

申请日：2013-12-06

Applicant: EV GROUP E. THALLNER GMBH

Inventor： WAGENLEITNER, Thomas

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F9/7088 ,  G01R31/2887 ,  G03F7/70733 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7023 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/681 ,  H01L21/6838 ,  H01L22/26

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ausrichten und Kontaktieren eines ersten Substrats (14) mit einem zweiten Substrat (14') sowie eine korrespondierende Vorrichtung mit mindestens vier Erfassungseinheiten (3, 3', 3", 3"'), wovon: a) mindestens zwei erste Erfassungseinheiten (3, 3") zumindest in X-Richtung und in Y-Richtung verfahrbar sind und b) mindestens zwei zweite Erfassungseinheiten (3', 3"') ausschließlich in Z-Richtung verfahrbar sind.

Abstract translation: 本发明涉及一种方法，用于对准和第一衬底（14）与第二衬底（14“）和与至少四个检测单元（3，3的相应的设备”，3”，3““），接触，其中：a）至少 两个第一检测单元（3，3“）至少能够在X方向和Y方向上移动，和b）至少两个第二检测单元（3‘3" ’）可以在Z方向只移动。

公开(公告)号：WO2015006311A1

公开(公告)日：2015-01-15

申请号：PCT/US2014/045725

申请日：2014-07-08

Applicant: BROOKS AUTOMATION, INC.

Inventor： SHARROCK, Leigh, F.

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/681 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/67778 ,  Y10S414/136

Abstract: A substrate processing apparatus including a frame defining a chamber with a substrate transport opening and a substrate transfer plane defined therein, a valve mounted to the frame and being configured to seal an atmosphere of the chamber when closed, the valve having a door movably disposed to open and close the substrate transport opening, and at least one substrate sensor element disposed on a side of the door and oriented to sense substrates located on the substrate transfer plane.

Abstract translation: 一种基板处理装置，包括：框架，其限定具有基板传送开口的腔室和限定在其中的基板传送平面;安装到所述框架并被构造成在关闭时密封所述腔室的气氛的阀，所述阀具有可移动地设置到 打开和关闭衬底传送开口，以及至少一个衬底传感器元件，其设置在门的一侧并被定向成感测位于衬底传送平面上的衬底。

公开(公告)号：WO2015001907A1

公开(公告)日：2015-01-08

申请号：PCT/JP2014/064983

申请日：2014-06-05

Applicant: 村田機械株式会社

Inventor： 雁部　政彦

IPC: B65G1/04 ,  B65G1/133 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/681 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/67359 ,  H01L21/67736 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67778

Abstract: 　搬送システム（１）は、レチクルを保管する保管容器（３）と、保管容器（３）が載置される回転棚（５）と、回転棚（５）の載置面（５ａ）を水平方向に沿って移動させる棚移動部（７）と、昇降及び伸長する搬送アーム（３２ａ），（３２ｂ）を有し、保管容器（３）との間でレチクルを搬送する搬送装置（９）と、搬送装置（９）に設けられ、保管容器（３）を検出する光学センサ（１１）と、棚移動部（７）及び搬送装置（９）を制御する制御部（１３）と、回転棚（５）上に載置された保管容器（３）の搬送装置（９）に対する上下位置及び水平位置の基準値を記憶する記憶部（１５）とを備え、制御部（１３）は、光学センサ（１１）により検出された保管容器（３）の上下位置及び水平位置の実測値を記憶部（１５）に記憶されている基準値と比較し、棚移動部（７）及び搬送装置（９）の少なくとも一方を制御して搬送位置を補正する。

Abstract translation: 一种输送系统（1），其具有：存储容器（3），其存储掩模版; 旋转架（5），其上放置有储存容器（3）; 使所述旋转齿条（5）的配置面（5a）沿水平方向移动的齿条运动单元（7） 输送装置（9），其包括提升和延伸的输送臂（32a）（32b），并且在本装置和存储容器（3）之间传送标线片; 光学传感器（11），其设置在所述输送装置（9）上并检测所述储存容器（3）; 控制机架运动单元（7）和输送装置（9）的控制单元（13）。 以及存储器（15），其相对于输送装置（9）存储放置在所述旋转齿条（5）上的所述存储容器（3）的垂直位置和水平位置的参考值。 控制单元（13）将由光学传感器（11）检测的存储容器（3）的垂直位置和水平位置的实际测量值与存储在存储器（15）中的参考值进行比较，并且控制在 至少一个齿条移动单元（7）和输送装置（9），以校正输送位置。

公开(公告)号：WO2014185100A1

公开(公告)日：2014-11-20

申请号：PCT/JP2014/052086

申请日：2014-01-30

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 土岡　達也 ,  陳　廷槐

IPC: G09F9/00 ,  G02B5/30 ,  G02F1/13 ,  H01L21/677 ,  H05K13/04

CPC classification number: H01L21/6838 ,  B32B37/02 ,  B32B37/12 ,  B32B38/10 ,  B32B38/162 ,  B32B38/1858 ,  B32B39/00 ,  B32B2307/40 ,  B32B2307/42 ,  B32B2315/08 ,  B32B2457/202 ,  G02F1/133528 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/681

Abstract: 　光学表示デバイスの生産システムは、光学表示部品の表示領域に対応する幅の帯状の光学部材シートを原反ロールからセパレータシートと共に巻き出し、光学部材シートをセパレータシートを残して表示領域に対応する長さでカットして光学部材とし、光学部材を供給する供給ラインを含む供給部と、一つの供給ラインによって順次供給された複数の光学部材をそれぞれの保持面に交互に貼り付けて保持するとともに、それぞれの保持面に保持した光学部材をそれぞれ別々の光学表示部品に貼合する複数の貼合部と、複数の貼合部を供給部と光学表示部品との間で移動させる移動装置と、を含む。

Abstract translation: 一种光学显示装置的制造系统，其特征在于，包括：供给部，该供给部包括将从所述光盘显示部件的显示区域对应的宽度的带状光学部件片和从所述原料辊 将光学构件片材切割成与显示区域相对应的长度，同时离开隔板片材以形成光学构件，并供给光学构件; 多个接合单元，其将通过一条供应线依次供给的多个光学构件相互连接并保持到各个保持面，并且将由每个保持表面保持的每个光学构件分别粘合到各个光学显示器 组件; 以及移动装置，其在供给单元和光学显示部件之间移动多个结合单元。

公开(公告)号：WO2014184149A1

公开(公告)日：2014-11-20

申请号：PCT/EP2014/059670

申请日：2014-05-12

Applicant: DTG INTERNATIONAL GMBH

Inventor： WILLSHERE, Jeffrey Richard ,  YANG, Diming ,  ROGERS, Michael John

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/68 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/67706 ,  H01L21/681 ,  H01L21/6838

Abstract: A workpiece handling system for and method of handling workpieces, the system comprising : a workpiece support unit which is operative to support a workpiece in a processing operation, wherein the workpiece support unit comprises a platen for supporting a workpiece thereon, the platen comprising a body and a belt which extends over a surface of the body to transfer workpieces thereon to and from the platen, and a drive arrangement which drives the belt to transfer workpieces; and an imaging unit for imaging a supported workpiece, wherein the imaging unit comprises a plurality of discrete light sources which are arranged to illuminate respective edge features of the supported workpiece through the belt, and a plurality of detectors arranged in correspondence to the respective light sources to detect transmitted illumination from respective ones of the light sources, whereby images of each of the respective edge features can be acquired.

Abstract translation: 一种用于处理工件的工件处理系统和方法，所述系统包括：工件支撑单元，其可操作以在处理操作中支撑工件，其中所述工件支撑单元包括用于在其上支撑工件的压板，所述压板包括主体 以及在主体的表面上延伸以将工件在其上传递到压板和从压板传送工件的带;以及驱动装置，其驱动皮带以传送工件; 以及用于对被支撑工件进行成像的成像单元，其中所述成像单元包括多个离散光源，所述多个离散光源被布置成通过所述带照射所支撑的工件的相应边缘特征;以及多个检测器，其对应于各个光源 以检测来自相应光源的透射照明，从而可以获取各个边缘特征中的每一个的图像。