METAL COATING OF OBJECTS USING PLASMA POLYMERISATION
    3.
    发明申请
    METAL COATING OF OBJECTS USING PLASMA POLYMERISATION 审中-公开
    使用等离子体聚合的物体的金属涂层

    公开(公告)号:WO2012066018A2

    公开(公告)日:2012-05-24

    申请号:PCT/EP2011/070213

    申请日:2011-11-16

    Abstract: A method for applying a metal on a substrate comprises: a) applying a coating by treatment in a plasma, comprising a compound selected from alkanes up to 1 0 carbon atoms, and unsaturated monomers, and b l ) producing polymers on the surface of said substrate, said polymers comprising carboxylic groups and adsorbed ions of a second metal, reducing said ions to the second metal, or alternatively b2) producing polymers on the surface, bringing the surface of said substrate in contact with a dispersion of colloidal metal particles of at least one second metal, and c) depositing said first metal on said second metal. Advantages include that materials sensitive to for instance low pH or solvents can be coated. Substrates including glass, Si0 2 with very few of no abstractable hydrogen atoms as well as polymer materials containing halogen atoms can be coated with good adhesion.

    Abstract translation: 将金属涂覆在基材上的方法包括:a)通过在等离子体中处理涂覆涂层,所述等离子体包含选自至多10个碳原子的烷烃的化合物和不饱和单体,和bl)在所述基材的表面上产生聚合物 所述聚合物包含羧基和第二金属的吸附离子,将所述离子还原成第二金属,或者b2)在表面上产生聚合物,使所述基材的表面与至少具有胶体金属颗粒的分散体接触 一个第二金属,和c)将所述第一金属沉积在所述第二金属上。 优点包括可以涂覆对例如低pH或溶剂敏感的材料。 包含玻璃的基板,极少量无法提取的氢原子的SiO 2以及含有卤素原子的聚合物材料可以以良好的附着力涂覆。

    METHOD TO PRODUCE ADHESIVELESS METALLIZED POLYIMIDE FILM
    5.
    发明申请
    METHOD TO PRODUCE ADHESIVELESS METALLIZED POLYIMIDE FILM 审中-公开
    生产无粘性金属化聚酰亚胺膜的方法

    公开(公告)号:WO2007061282A1

    公开(公告)日:2007-05-31

    申请号:PCT/MY2006/000025

    申请日:2006-11-10

    Applicant: HON PONG, Lem

    Inventor: HON PONG, Lem

    Abstract: The present invention is directed to a method for the adhesiveless deposition of metal, and especially copper, to the surface of polyimides and derivatives of polyimide. More specifically, the invention is .directed to the method for surface modification of polyimides and derivatives of polyimides by plasma graft co-polymerization with the vapor deposition of an appropriate functional monomer followed by subsequent deposition of metal of interest through a process of electroless and electrolytic plating. The so deposited metal-polyimide interface exhibit a T-peel adhesive strength in excess of 10 N/cm with polyimide films with a thickness of 75 .mu.m.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于在聚酰亚胺和聚酰亚胺的衍生物的表面上无粘合地沉积金属,特别是铜的方法。 更具体地,本发明涉及通过等离子体接枝共聚与聚酰亚胺和聚酰亚胺的衍生物进行表面改性的方法,其中蒸发沉积合适的官能单体,然后通过无电解和电解过程随后沉积感兴趣的金属 电镀。 如此沉积的金属 - 聚酰亚胺界面的厚度为75μm的聚酰亚胺膜的T剥离粘合强度超过10N / cm。

    導電性パターン材料の製造方法
    9.
    发明申请
    導電性パターン材料の製造方法 审中-公开
    制造导电图案材料的方法

    公开(公告)号:WO2006022312A1

    公开(公告)日:2006-03-02

    申请号:PCT/JP2005/015392

    申请日:2005-08-25

    Abstract:  基材上に、導電性粒子と相互作用しうる官能基及び架橋性官能基を有するグラフトポリマーをパターン状に直接結合させる工程と、該グラフトポリマーが有する導電性粒子と相互作用しうる官能基に、導電性粒子を吸着させて導電性粒子吸着層を形成する工程と、該導電性粒子吸着層にエネルギーを付与することにより、該導電性粒子吸着層中に架橋構造を形成する工程と、を有することを特徴とする導電性パターン材料の製造方法であり、この方法によれば、高解像度で、断線がなく、耐久性に優れる導電性パターンを備えた導電性パターン材料を製造することができる。また、導電性粒子と相互作用しうる官能基に代えて、無電解メッキ触媒等と相互作用しうる官能基を導入し、無電解メッキ触媒等を吸着させて無電解メッキ工程を行うことによっても、導電性パターン材料を得ることができる。                                                                                 

    Abstract translation: 制造导电图案材料的方法具有在基板上以图案直接接合具有可与导电粒子相互作用的官能团和可交联官能团的接枝聚合物的方法; 通过使与接枝聚合物中的导电性粒子相互作用的官能团吸附导电性粒子而形成导电性粒子吸附层的工序; 以及通过向导电性粒子吸附层施加能量而在导电性粒子吸附层中形成交联结构的工序。 在该方法中,可以制造具有高分辨率而不间断且耐久性优异的导电图案的导电图案材料。 导电图案材料也可以通过引入与化学镀催化剂相互作用的官能团而不是与导电颗粒相互作用的官能团,并且通过吸附化学镀催化剂等并进行无电镀 处理。

    NEW PROCESS FOR MODIFICATION OF SURFACES
    10.
    发明申请
    NEW PROCESS FOR MODIFICATION OF SURFACES 审中-公开
    新的表面改性工艺

    公开(公告)号:WO98034446A1

    公开(公告)日:1998-08-06

    申请号:PCT/SE1998/000111

    申请日:1998-01-27

    Abstract: In using a photoinitiator and irradiation with UV-light suitable monomers can be selectively inoculated on the surface of a non conducting substrate in a distinct pattern. Metal ions are thereafter absorbed by these monomers and are reduced. To this pattern further conducting materials, e.g., metals, can thereafter be added in a conventional way. The method according to the invention comprises a fully additive method to produce a circuit board with high resolution and the production of functional components directly on a non conducting substrate.

    Abstract translation: 在使用光引发剂并用UV光照射时,可以以不同的图案将合适的单体选择性地接种在非导电基材的表面上。 然后金属离子被这些单体吸收并被还原。 为此,可以以常规的方式加入进一步的导电材料,例如金属。 根据本发明的方法包括完全添加的方法来生产具有高分辨率的电路板和直接在非导电衬底上产生功能组件。

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