COATING METHOD, SURFACE LAYER STRUCTURE, AND USES THEREFOR
    2.
    发明申请
    COATING METHOD, SURFACE LAYER STRUCTURE, AND USES THEREFOR 审中-公开
    涂装工艺,表层组织和用途

    公开(公告)号:WO2013143834A2

    公开(公告)日:2013-10-03

    申请号:PCT/EP2013054936

    申请日:2013-03-12

    IPC分类号: C23C4/00

    摘要: The invention relates to a coating method for generating a functional layer on mechanically stressed components or surfaces, the method comprising the following steps: provision or application of a first material layer (2) made of a first material or substrate matrix (5) having a higher mechanical flexibility than a second material (6) onto a substrate (1) forming the component and/or the surface; structuring the first material layer (2) so that the material layer surface of the first material layer (2) facing away from the substrate (1) is provided with a three-dimensionally molded basic structure (14) having elevations (10) and depressions (12), and coating the material layer surface of the first material layer (2) with a second material layer (3) made of the second material (6) such that the second material layer (3) essentially assumes the basic structure (14) of the material layer surface having the elevations (16) and depressions (18). The invention further relates to surface layer structures that can be produced in this manner.

    摘要翻译: 本发明涉及一种涂布方法用于形成上机械应力的元件,或者表面上的功能层,包括以下步骤:存在或施加第一材料或基底矩阵的第一材料层(2)(5)具有比第二材料更高的机械柔韧性(6) 所述部件或表面形成基体(1),图案化该第一材料层(2),从而使面向基板(1)离开所述第一材料层的材料层表面(2)的三维模制基座结构(14)(具有凸起上 10)和凹陷(12)接收,并涂覆第一材料层的材料层表面(2)具有第二材料层(3)的第二材料(6),使得所述第二材料层(3)是基本上与基本结构(14 )与突起(16)和凹陷在材料层表面(18)所处的状态。 因此本发明涉及可产生的表面层的结构。

    ULTRA-THIN MICROPOROUS/HYBRID MATERIALS
    7.
    发明申请
    ULTRA-THIN MICROPOROUS/HYBRID MATERIALS 审中-公开
    超薄微孔/混合材料

    公开(公告)号:WO2009102363A3

    公开(公告)日:2009-10-08

    申请号:PCT/US2008083688

    申请日:2008-11-14

    IPC分类号: B01D69/10 B01D71/00

    摘要: Ultra-thin hybrid and/or microporous materials and methods for their fabrication are provided. In one embodiment, the exemplary hybrid membranes can be formed including successive surface activation and reaction steps on a porous support that is patterned or non-patterned. The surface activation can be performed using remote plasma exposure to locally activate the exterior surfaces of porous support. Organic/inorganic hybrid precursors such as organometallic silane precursors can be condensed on the locally activated exterior surfaces, whereby ALD reactions can then take place between the condensed hybrid precursors and a reactant. Various embodiments can also include an intermittent replacement of ALD precursors during the membrane formation so as to enhance the hybrid molecular network of the membranes.

    摘要翻译: 提供超薄混合和/或微孔材料及其制造方法。 在一个实施方案中,可以形成示例性混合膜,其包括在图案化或非图案化的多孔载体上的连续表面活化和反应步骤。 表面活化可以使用远程等离子体暴露来局部激活多孔载体的外表面来进行。 有机/无机混合前体如有机金属硅烷前体可以在局部活化的外表面上缩合,由此可以在缩合的混合前体和反应物之间发生ALD反应。 各种实施方案还可以包括在膜形成期间ALD前体的间歇替代,以增强膜的混合分子网络。

    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER METALLOXID-BESCHICHTETEN WERKSTÜCKOBERFLÄCHE MIT VORGEBBAREM HYDROPHOBEN VERHALTEN
    8.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER METALLOXID-BESCHICHTETEN WERKSTÜCKOBERFLÄCHE MIT VORGEBBAREM HYDROPHOBEN VERHALTEN 审中-公开
    一种用于生产金属包覆工件表面预先确定的疏水性能研究

    公开(公告)号:WO2009021340A1

    公开(公告)日:2009-02-19

    申请号:PCT/CH2008/000244

    申请日:2008-05-30

    发明人: MOSER, Eva, Maria

    摘要: Es wird vorgeschlagen ein Werkstück (10) mit einer Metalloxid-beschichteten Oberfläche (9) mit wählbarem Grad des hydrophoben Verhaltens herzustellen, indem die Oberfläche eines Substratmaterials (1) mindestens in Teilbereichen mit einer Mikrostruktur (2, 3) versehen wird durch mechanisches Prägen und anschliessend beschichtet wird. Im Anschluss an die Mikrostrukturierung wird eine kohlenwasserstoffhaltige oder siliziumoxidhaltige Schutzschicht (6) und / oder mindestens eine Deckschicht (7) abgeschieden an deren Oberfläche (9) die gewünschten hydrophoben Eigenschaften auftreten. Die keimtötende und katalytische Wirkung der metalloxidhaltigen Deckschicht (7) wird durch Inkorporation von metallhaltigen Nanopartikeln verstärkt oder erzeugt.

    摘要翻译: 它提出了具有金属氧化物涂层的表面(9)通过在衬底材料的表面,以产生的疏水行为可选择度(1)至少在部分区域与微结构(2,3)由机械压花和提供一个工件(10) 随后涂覆。 继微结构含烃或二氧化硅 - 保护层(6)和/或至少一个外层(7)沉积在其表面(9)上,发生所希望的疏水性。 金属氧化物层(7)的杀菌和催化作用是由含金属的纳米颗粒或生成的掺入增强。

    AMORPHOUS METAL-METALLOID ALLOY BARRIER LAYER FOR IC DEVICES
    9.
    发明申请
    AMORPHOUS METAL-METALLOID ALLOY BARRIER LAYER FOR IC DEVICES 审中-公开
    用于IC器件的非晶金属 - 金属合金障碍层

    公开(公告)号:WO2009012206A1

    公开(公告)日:2009-01-22

    申请号:PCT/US2008/069943

    申请日:2008-07-14

    摘要: A method for fabricating an amorphous metal-metalloid alloy layer for use in an IC device comprises providing a substrate in a reactor that includes a dielectric layer having a trench, pulsing a metal precursor into the reactor to deposit within the trench, wherein the metal precursor is selected from the group consisting of CpTa(CO) 4 , PDMAT, TBTDET, TaCl 5 , Cp 2 Co, Co-amidinates, Cp 2 Ru, Ru-diketonates, and Ru(CO) 4 , purging the reactor after the metal precursor pulse, pulsing a metalloid precursor into the reactor to react with the metal precursor and form an amorphous metal-metalloid alloy layer, wherein the metalloid precursor is selected from the group consisting of BH 3 , BCl 3 , catechol borane, AlMe 3 , methylpyrrolidinealane, AlCl 3 , SiH 4 , SiH 2 Cl 2 , SiCl 4 , tetraalkylsilanes, GeH 4 , GeH 2 Cl 2 , GeCl 4 , SnCl 4 , trialkylantimony, SbMe 3 , SbEt 3 , arsine, and trimethylarsine, purging the reactor after the metalloid precursor pulse, and annealing the amorphous metal-metalloid layer at a temperature between 50°C and 700°C for 5 to 1200 seconds.

    摘要翻译: 一种用于制造用于IC器件的非晶金属 - 准金属合金层的方法包括在反应器中提供衬底,该反应器包括具有沟槽的电介质层,将金属前体脉冲入反应器以沉积在沟槽内,其中金属前体 选自CpTa(CO)4,PDMAT,TBTDET,TaCl5,Cp2Co,Co-脒基物,Cp2Ru,Ru-二酮酸酯和Ru(CO)4),在金属前体脉冲之后进行反应,脉冲准金属 前体进入反应器以与金属前体反应并形成无定形金属 - 准金属合金层,其中准金属前体选自BH3,BCl3,儿茶酚硼烷,AlMe3,甲基吡咯烷烃,AlCl3,SiH4,SiH2Cl2,SiCl4, 四烷基硅烷,GeH 4,GeH 2 Cl 2,GeCl 4,SnCl 4,三烷基锑,SbMe 3,SbEt 3,胂和三甲基胂,在准金属前体脉冲之后吹扫反应器,并在温度下降退火无定形金属 - 在50℃和700℃下烘5〜1200秒。