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公开(公告)号：CN108700807B
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201780012825.7
申请日：2017-01-20
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
摘要： 提供一种正型感光性硅氧烷组合物，其可在不释放出苯等有害的挥发性成分的状态下形成高分辨率、高耐热性、高透明性的图案，还能减少由在图案形成之时的显影残渣、溶化残留物或难溶物的再附着导致的图案缺陷，储藏稳定性也优异。本发明提供一种正型感光性硅氧烷组合物，其包含：具有苯基的聚硅氧烷、重氮基萘醌衍生物、具有特定的含氮杂环结构的光碱产生剂的水合物或者溶剂化物、以及有机溶剂。
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公开(公告)号：CN104254807B
公开(公告)日：2020-02-18
申请号：CN201380018124.6
申请日：2013-04-05
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
摘要： 本发明提供可进行无机显影的负型感光性硅氧烷化合物、以及使用了其的固化膜的形成方法。一种负型感光性硅氧烷组合物，其包含聚硅氧烷、具有脲基键的含硅的化合物、聚合引发剂、以及溶剂。可通过将该组合物涂布于基材上，进行曝光，无需进行曝光后加热而进行显影，从而获得固化膜。
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公开(公告)号：CN103995437B
公开(公告)日：2019-11-29
申请号：CN201410056634.9
申请日：2014-02-19
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
摘要： 本发明提供一种负型感光性硅氧烷组合物，其具有高分辨率、高耐热性、高透明性，不需提高交联剂或硅氧烷化合物的分子量而抑制容易在热固化中发生的热塌陷，其具有高灵敏度和高残膜率的特性。一种负型感光性聚硅氧烷组合物，其特征在于，其包含：(I)聚硅氧烷、(II)通过照射放射线而释放出酸的芳香族酰亚胺化合物、以及(III)溶剂。
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公开(公告)号：CN104919370B
公开(公告)日：2019-07-19
申请号：CN201380065161.2
申请日：2013-12-12
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC分类号： G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2002 , C09D1/00 , C09D125/06 , C09D129/04 , C09D133/02 , C09D165/00 , G03F7/091 , G03F7/11
摘要： 本发明提供一种上层膜形成用组合物以及使用该组合物的图案形成方法，所述上层膜形成用组合物在基于超紫外线曝光的图案形成方法中，可形成粗糙度、图案形状优异的图案。一种上层膜形成用组合物，其特征在于包含具有亲水性基团的富勒烯衍生物以及溶剂；以及，一种通过将该组合物涂布于抗蚀层表面并且进行曝光显影而形成图案的方法。该组合物也可进一步包含聚合物。
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公开(公告)号：CN105190445B
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201480025048.6
申请日：2014-05-01
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC分类号： G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/405 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/20 , G03F7/2004 , G03F7/30 , G03F7/32 , G03F7/40 , H01L21/0206 , H01L21/0276
摘要： 通过使用包含由下述式(I)表示的非离子类表面活性剂和水的刻蚀用清洗液，对通过将感光性树脂进行曝光、显影而获得的微细抗蚀图案进行清洗，从而形成没有图案倒塌、图案缺陷、线宽偏差、图案熔化的抗蚀图案。式中，R1、R2可以相同也可以不同，表示氢原子或者甲基，R3、R4可以相同也可以不同，表示氢原子、甲基或者乙基，R5表示包含双键或三键的碳原子数2～5的烃基或者亚苯基，R6、R7可以相同也可以不同，表示氢原子或者甲基。
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公开(公告)号：CN106414328B
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201580029203.6
申请日：2015-05-28
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC分类号： C01B33/18 , C01B33/145 , C09C1/30 , C09C3/12
CPC分类号： C01B33/18 , C01B33/145 , C01B33/146 , C01P2004/64 , C09C1/30 , C09C1/3081 , C09C3/12
摘要： 本发明提供一种高度地分散于有机分散介质、并且具有高的透明性以及保存稳定性的表面改性二氧化硅纳米颗粒分散液。一种方法，其为制造表面改性二氧化硅纳米颗粒的方法，包含如下的工序：准备包含二氧化硅纳米颗粒与水性分散介质的第1二氧化硅纳米颗粒分散液的工序，利用包含从环状酯以及环状酰胺中选出的至少1种的有机分散介质将前述第1二氧化硅纳米颗粒分散液中的前述水性分散介质进行置换而获得第2二氧化硅纳米颗粒分散液的工序，向前述第2二氧化硅纳米颗粒分散液中加入由式(1)(式中，R1各自独立地为C1～C20的烃基，R2是C1～C3的烃基)表示的硅烷偶联剂，从而将二氧化硅纳米颗粒的表面进行改性的工序。
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公开(公告)号：CN109074003A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780021583.8
申请日：2017-04-03
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
摘要： 提供了一种间隙填充组合物，其可抑制图案倒塌，以及使用该组合物的图案形成方法。提供了一种间隙填充组合物，其包含间隙填充化合物、有机溶剂以及根据需要的水，该间隙填充化合物具有特定结构，并且在分子内具有多个羟基、羧基或者氨基。提供了一种使用低分子量化合物的图案形成方法。
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公开(公告)号：CN109072006A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780026971.5
申请日：2017-04-28
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC分类号： C09D183/16
摘要： [目的]提供一种含聚硅氮烷的覆膜形成用组合物。为了形成具有加工性且致密的二氧化硅质膜，对该组合物进行基于二阶段转化的加工，所述二阶段转化包括：通过将聚硅氮烷组合物在朝向二氧化硅质物质的转化不充分的状态下形成表面干燥了的膜；然后接受二次加工。[手段]本发明提供一种含聚硅氮烷的覆膜形成用组合物，其包含特定的胺类化合物、聚硅氮烷化合物以及溶剂，本发明还提供一种二氧化硅质物质的形成方法，其中，将该组合物涂布于基材上，转化为二氧化硅质物质。该特定的胺类化合物具有二个胺基，在胺基中具有至少1个由苯基取代了的烃基。
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公开(公告)号：CN108700814A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780011950.6
申请日：2017-01-20
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
CPC分类号： G03F7/075 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/40
摘要： 提供一种负型感光性组合物，所述负型感光性组合物可低温固化，并且可获得透明性、耐化学品性、耐环境性高的固化膜，还提供使用该组合物的图案形成方法。本发明提供一种负型感光性组合物，其包含：碱可溶性树脂、具有2个以上的(甲基)丙烯酰氧基的化合物、聚硅氧烷、聚合引发剂、以及溶剂，所述碱可溶性树脂是含有包含羧基的聚合单元与包含烷氧基甲硅烷基的聚合单元的聚合物。
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公开(公告)号：CN105793963B
公开(公告)日：2018-10-19
申请号：CN201480066142.6
申请日：2014-12-08
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC分类号： H01L21/316 , C01B21/082
CPC分类号： H01L21/02222 , C01B21/087 , C08G77/62 , C09D1/00 , H01L21/02164 , H01L21/02282
摘要： 本发明提供一种可形成缺陷少的二氧化硅质膜的全氢聚硅氮烷以及包含该全氢聚硅氮烷的固化用组合物。本发明提供一种全氢聚硅氮烷以及包含其的固化用组合物，其特征在于，其为重均分子量为5,000以上17,000以下的全氢聚硅氮烷，其中，对通过将前述全氢聚硅氮烷溶解于二甲苯而得到的17重量％溶液的1H‑NMR进行了测定时，以二甲苯的芳香族环氢的量为基准的SiH1,2的量的比为0.235以下，NH的量的比为0.055以下。本发明也提供一种二氧化硅质膜的形成方法，其包含如下的工序：将该固化用组合物涂布于基材上，进行加热。
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