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公开(公告)号：CN104936903B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201480005368.5
申请日：2014-01-20
Applicant: 田中贵金属工业株式会社
CPC classification number: C07F15/0046 , C01G55/008 , C23C16/16 , C23C16/45553
Abstract: 本发明为十二羰基三钌(DCR)的制造方法，在包括用一氧化碳将氯化钌羰基化的工序的十二羰基三钌的制造方法中，相对于所述氯化钌的氯元素，向反应体系中添加0.8摩尔当量以上的胺，在反应温度为50℃～100℃、反应压力为0.2MPa～0.9MPa下进行羰基化。根据本发明，可以在不使用高压反应条件下来制造杂质金属残留少的十二羰基三钌。
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公开(公告)号：CN104936903A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201480005368.5
申请日：2014-01-20
Applicant: 田中贵金属工业株式会社
CPC classification number: C07F15/0046 , C01G55/008 , C23C16/16 , C23C16/45553
Abstract: 本发明为十二羰基三钌(DCR)的制造方法，在包括用一氧化碳将氯化钌羰基化的工序的十二羰基三钌的制造方法中，相对于所述氯化钌的氯元素，向反应体系中添加0.8摩尔当量以上的胺，在反应温度为50℃～100℃、反应压力为0.2MPa～0.9MPa下进行羰基化。根据本发明，可以在不使用高压反应条件下来制造杂质金属残留少的十二羰基三钌。
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公开(公告)号：CN110431253A
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201880019340.5
申请日：2018-03-05
Applicant: 田中贵金属工业株式会社
IPC: C23C16/16 , C07F15/00 , C23C16/18 , H01L21/285
Abstract: 本发明涉及用于通过化学气相沉积法制造铱薄膜或者铱化合物薄膜的化学气相沉积用原料，该化学气相沉积用原料由在铱上配位有环丙烯基或其衍生物以及羰基配体的铱配合物构成。本发明中应用的铱配合物即使在应用氢等还原性气体的情况下也可以制造铱薄膜。(式中，环丙烯基配体的取代基R1～R3各自独立地为氢、或者碳数1以上4以下的直链状或支链状的烷基。)
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公开(公告)号：CN107532294A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680026945.8
申请日：2016-05-09
Applicant: 田中贵金属工业株式会社
IPC: C23C16/18 , C07C211/21 , C07F15/00 , H01L21/285
Abstract: 本发明涉及下述所示的由在2价铂上配位有烯基胺及烷基阴离子的有机铂化合物构成的化学蒸镀用原料。在下述中，n为1以上5以下。烯基胺的取代基R1至R5分别为氢原子、烷基等，并且它们的碳原子数均为4以下。烷基阴离子R6及R7分别为碳原子数为1以上3以下的烷基。本发明的原料的蒸气压较高，可在低温下制造铂薄膜，同时也兼具适度的热稳定性。
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公开(公告)号：CN104350061B
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201380029958.7
申请日：2013-06-06
Applicant: 田中贵金属工业株式会社
IPC: C07F15/00 , B01J23/44 , C07C7/12 , C07C7/163 , C07C13/263 , C07C13/42 , C07C45/79 , C07C45/85 , C07C49/92
CPC classification number: C07F15/0046 , B01J23/42 , B01J23/44 , B01J23/462 , B01J25/02 , C07C45/79 , C07C45/85 , C07C49/92
Abstract: 本发明提供一种化学蒸镀用有机钌化合物的回收再利用方法，其从经过了薄膜形成工序的、已用过的原料中提取未反应的有机钌化合物，所述方法包括以下工序(a)～(c)。(a)改质工序，其中，在氢气氛中，使所述已用过的原料与加氢催化剂接触，从而对已用过的原料中氧化了的有机钌化合物进行加氢。(b)吸附工序，其中，通过使所述已用过的原料与吸附剂接触，从而除去已用过的原料中的杂质。(c)复原工序，其中，在相对于有机钌化合物的分解温度为‑100℃以上且‑10℃以下的温度下，对所述已用过的原料加热8小时以上，从而调整已用过的原料中的有机钌化合物的异构体比率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103874705B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201280050214.9
申请日：2012-10-12
Applicant: 田中贵金属工业株式会社
IPC: C07F15/00 , C07C13/263 , C23C16/18
CPC classification number: C23C16/18 , C07F15/0086 , C23C16/4485 , C23C16/46
Abstract: 本发明提供一种化学气相沉积用原料，其用于通过化学气相沉积法制造铂薄膜或铂化合物薄膜，该化学气相沉积用原料包含由下式所示的、环辛二烯及烷基阴离子与2价铂配位的有机铂化合物。在此，R1和R2特别优选丙基和甲基、丙基和乙基、或乙基和甲基的组合中的任一种。式中，R1、R2为烷基，R1和R2不同。另外，R1、R2的碳原子数合计为3～5。
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公开(公告)号：CN104768911B
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201380056089.7
申请日：2013-10-17
Applicant: 田中贵金属工业株式会社
Abstract: 本发明为一种从在不对称β?二酮化合物中混有至少1种对称β?二酮化合物的β?二酮化合物中萃取不对称β?二酮化合物的方法，其含有(A)将所述β?二酮化合物和水的混合溶液的pH调为11.5以上，使β?二酮化合物溶于水制成β?二酮化合物溶液的工序，以及(B)接着，将所述β?二酮化合物溶液的pH调为9.5以下，回收从所述β?二酮化合物溶液中分离的化学式1的不对称β?二酮化合物的工序。本发明进一步含有(a)：在(A)工序时，将混合溶液的pH的上限设定为12.5制成β?二酮化合物溶液，使其与疏水性溶剂接触的工序、以及(b)：在(B)工序时，将β?二酮化合物溶液的pH的下限设定为8.0的工序的至少任一者。
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公开(公告)号：CN104768911A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201380056089.7
申请日：2013-10-17
Applicant: 田中贵金属工业株式会社
Abstract: 本发明为一种从在不对称β-二酮化合物中混有至少1种对称β-二酮化合物的β-二酮化合物中萃取不对称β-二酮化合物的方法，其含有(A)将所述β-二酮化合物和水的混合溶液的pH调为11.5以上，使β-二酮化合物溶于水制成β-二酮化合物溶液的工序，以及(B)接着，将所述β-二酮化合物溶液的pH调为9.5以下，回收从所述β-二酮化合物溶液中分离的化学式1的不对称β-二酮化合物的工序。本发明进一步含有(a)：在(A)工序时，将混合溶液的pH的上限设定为12.5制成β-二酮化合物溶液，使其与疏水性溶剂接触的工序、以及(b)：在(B)工序时，将β-二酮化合物溶液的pH的下限设定为8.0的工序的至少任一者。
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公开(公告)号：CN114008238B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202080042968.4
申请日：2020-06-15
Applicant: 田中贵金属工业株式会社
IPC: C23C16/18 , H01L21/768 , C07F13/00
Abstract: 本发明涉及一种化学蒸镀用原料，其是用于通过化学蒸镀法制造锰薄膜或锰化合物薄膜的化学蒸镀用原料，其由在锰上配位有环戊二烯基配体(L1)和异腈配体(L2)的下述化学式所示的有机锰化合物构成。本发明具有作为化学蒸镀用原料的基本特性，并且能够以氢气等还原性气体作为反应气体来进行锰薄膜的成膜。(所述式中，环戊二烯基配体(L1)的取代基R1～R5各自为氢或者直链、支链或环状的碳原子数1以上且4以下的烷基。异腈配体(L2)的取代基R6为直链、支链或环状的碳原子数1以上且4以下的烷基。Mn(L1)(L2)3#imgabs0#
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公开(公告)号：CN113166931B
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN201980079639.4
申请日：2019-12-02
Applicant: 田中贵金属工业株式会社
IPC: C07D471/04
Abstract: 本发明涉及在用于通过化学蒸镀法制备钌薄膜或钌化合物薄膜的化学蒸镀用原料中，由下述化学式1表示的钌配合物构成的化学蒸镀用原料。在化学式1中，与钌配位的配位体L1和配位体L2由下述化学式2表示。本发明的化学蒸镀用原料即使不使用包含氧原子的反应气体也能够制造高质量的薄膜。[化学式1]RuL1L2[化学式2]#imgabs0#(配位体L1、L2的取代基R1～R12各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上4以下的直链状或支链状的烷基中的任意一种。)
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