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公开(公告)号:CN108885409A
公开(公告)日:2018-11-23
申请号:CN201780022627.9
申请日:2017-04-05
申请人: 科磊股份有限公司
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G06T7/0004 , G06T2207/30148 , H01L21/0332 , H01L21/0338 , H01L22/12 , H01L22/20
摘要: 本发明提供一种用于检测多重图案化制造装置中与重叠相关的缺陷的设计感知系统、方法及计算机程序产品。在使用期间,由计算机系统接收多重图案化制造装置的设计。接着,所述计算机系统自动从所述设计确定所述设计的易于引起重叠误差的一或多个区域。此外,由所述计算机系统将所确定的一或多个区域的指示输出到检验系统以用于检验根据所述设计制造的多重图案化装置。
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公开(公告)号:CN108807216A
公开(公告)日:2018-11-13
申请号:CN201710291629.X
申请日:2017-04-28
申请人: 北京北方华创微电子装备有限公司
发明人: 李玉站
CPC分类号: H01L21/67253 , H01L22/12
摘要: 本发明提供一种粘片检测系统,包括:输气管路,与气源和静电卡盘的冷媒气体通道相连,用于将气源提供的气体经过所述输气管路和冷媒气体通道向晶片背吹;在所述输气管路上还设置有检测模块;所述检测模块,与控制模块相连,用以在所述输气管路内输送的气体的流量和压力中一个设置为定值时检测另一个对应的数值并发送至控制模块;所述控制模块,用于判断所述检测模块发送的所述流量值是否小于流量阈值,若是,则确定发生粘片;或者,判断所述检测模块发送的所述压力值是否大于压力阈值,若是,则确定发生粘片。还提供一种粘片检测方法、反应腔室和半导体加工设备。本发明可以防止碎片和撞片问题的发生。
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公开(公告)号:CN108807206A
公开(公告)日:2018-11-13
申请号:CN201810232650.7
申请日:2018-03-20
申请人: 苏州巨能图像检测技术有限公司
IPC分类号: H01L21/66
摘要: 本发明电池片黑心检测方法,包括如下步骤:S1)对准:将电池片移到图像中心;S2)剔除其他干扰;S3)圆环投影;S4)特征曲线提取;S5)分类。先对电池片进行定位,将电池片中心和图像中心重合,便于投影以及罩mask(罩板)图像。为了使投影后的曲线更能体现黑心的特征,需要将其他缺陷屏蔽掉,即不参加投影。然后以电池片中心为圆心,进行“圆环投影”,将二维的信号转成一维的曲线进行分析;接着针对曲线进行特征提取。最后分析特征,判断是否存在黑心缺陷。
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公开(公告)号:CN108766902A
公开(公告)日:2018-11-06
申请号:CN201810305709.0
申请日:2018-04-08
申请人: 朗姆研究公司
发明人: 玛丽·安妮·普莱诺 , 巴斯卡尔·索姆帕里 , 伊恩·斯科特·拉奇福德
IPC分类号: H01L21/67
CPC分类号: H01L22/20 , B05B13/00 , B05B16/00 , H01L21/02041 , H01L22/12 , H01L21/67011 , H01L21/67242
摘要: 本发明涉及用于喷头和电极组件的颗粒和污染在线计量的系统设计。一种用于测试衬底处理室的组件的清洁度的方法包括:将所述组件装载到真空室中;将测试衬底布置在所述真空室内;在所述组件和所述测试衬底装载在所述真空室内的情况下,向所述真空室提供清扫气体;确定通过向所述真空室提供所述清扫气体而导致的在所述测试衬底上累积的颗粒的量以及在所述测试衬底上累积的金属污染物的量中的至少一个;以及基于在所述测试衬底上累积的所确定的所述颗粒的量以及在所述测试衬底上累积的所确定的所述金属污染物的量中的至少一个,估计所述组件的清洁度。
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公开(公告)号:CN108735755A
公开(公告)日:2018-11-02
申请号:CN201710968649.6
申请日:2017-10-18
申请人: 爱思开海力士有限公司
发明人: 卢侑炫
IPC分类号: H01L27/11556
CPC分类号: H01L21/76816 , H01L21/76877 , H01L22/12 , H01L23/5226 , H01L23/5283 , H01L23/544 , H01L27/11531 , H01L27/11548 , H01L27/11551 , H01L27/11573 , H01L27/11575 , H01L27/11578 , H01L2223/54426
摘要: 本文可提供一种制造半导体器件的方法。该方法可包括以下步骤:形成第一堆叠,在第一堆叠中依次限定第一焊盘区域、第二焊盘区域和第一虚拟区域;在第一堆叠上形成第二堆叠;通过对第二堆叠进行构图来形成第一焊盘结构和第一基准图案,第一焊盘结构设置在第一堆叠的第一焊盘区域上并具有阶梯形状,第一基准图案设置在第一堆叠的第一虚拟区域上;在第一堆叠上形成第一焊盘掩模图案,第一焊盘掩模图案覆盖第一焊盘区域和第二焊盘区域,并且通过测量从第一基准图案到第一焊盘掩模图案的距离使第一焊盘掩模图案对齐;以及在使第一焊盘掩模图案缩小的同时,通过对第一堆叠的第二焊盘区域进行构图来形成具有阶梯形状的第二焊盘结构。
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公开(公告)号:CN108598214A
公开(公告)日:2018-09-28
申请号:CN201810343595.9
申请日:2018-04-17
申请人: 江苏绿能电力科技有限公司
CPC分类号: H01L31/186 , B26D1/08 , H01L22/12
摘要: 本发明公开了一种光伏组件自动修边方法以及修边机,包括裁剪部和清洁框,所述裁剪部包括围成框形的四根导向轴,每根导向轴上安装一个可移动刮刀器,刮刀器面向待修组件的端部安装两把相向的裁刀,所述清洁框位于裁剪部下方。本发明将产线自动化,提高了组件生产的效率;机械削边整齐美观,使外观达到A级要求;杜绝人工削边带来的安全隐患;可以自动检测削边是否平整并能够重复削剪操作,提高产品精度;多余的背板及EVA膜削去后掉落在机械设备下方的清洁框内,方便清理。
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公开(公告)号:CN108573889A
公开(公告)日:2018-09-25
申请号:CN201810178283.7
申请日:2018-03-05
申请人: 株式会社迪思科
发明人: 清野敦志
CPC分类号: H01L22/12 , B24B7/228 , B24B27/0023 , B24B27/0076 , B24B41/005 , B24B41/06 , B24B49/12 , G01B11/303
摘要: 提供晶片的起伏检测方法和磨削装置,在使用磨削装置对晶片进行磨削的情况下,不用将晶片从磨削装置取出利用其他测量装置进行起伏的测量,防止用于加工的工序数增加。一种晶片的起伏检测方法,其中,该晶片的起伏检测方法具有如下的步骤:保持步骤,将晶片(W)保持在保持工作台(400)上;接触步骤,使平坦的透明板(50)与保持在保持工作台(400)上的晶片(W)接触;以及照射步骤,从透明板(50)侧照射光,通过在照射步骤中产生的干涉条纹(R)来检测晶片(W)的起伏。
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公开(公告)号:CN108475617A
公开(公告)日:2018-08-31
申请号:CN201680077602.4
申请日:2016-11-02
申请人: 诺威量测设备公司
IPC分类号: H01L21/00
CPC分类号: G01N23/2208 , G01B11/06 , G01B15/02 , G01N23/223 , G01N23/2273 , G01N2223/305 , G01N2223/633 , H01L22/12
摘要: 通过执行下列步骤实现确定集成电路(IC)的层的性质,层形成在底层之上:照射IC,由此从IC发射电子;采集从IC发射的电子并且确定发射电子的动能,由此计算从层发射的电子和从底层发射的电子的发射强度,从而计算从层发射的电子与从底层发射的电子的发射强度的比率;并且使用比率确定层的材料组分或厚度。使用x射线光电子能谱法(XPS)或x射线荧光光谱法(XPF)可以执行照射IC并且采集电子的步骤。
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公开(公告)号:CN105612605B
公开(公告)日:2018-08-21
申请号:CN201480049474.3
申请日:2014-08-20
申请人: 信越半导体株式会社
IPC分类号: H01L21/304
CPC分类号: H01L21/02024 , B24B37/08 , H01L21/02008 , H01L21/02013 , H01L21/02019 , H01L21/304 , H01L21/68764 , H01L21/68771 , H01L22/12 , H01L22/26
摘要: 本发明是一种镜面研磨晶圆的制造方法,其对于从硅晶棒切片而成的多片硅晶圆,以批次方式分别实施下述各工序来制造多片镜面研磨晶圆,这些工序包含:切片歪斜除去工序,其除去因切片所产生的表面的歪斜;蚀刻工序,其除去在切片歪斜除去工序中所产生的歪斜;以及,双面研磨工序,其将蚀刻后的硅晶圆的双面进行镜面研磨;其特征在于,从在切片歪斜除去工序中的同一批次内已处理的硅晶圆当中,选择要在双面研磨工序中以批次方式处理的硅晶圆,且将该选择的硅晶圆的数量设定为与在切片歪斜除去工序中已处理的硅晶圆的数量相同或其约数。由此,提供一种镜面研磨晶圆的制造方法,其能够制造平坦度良好的镜面研磨晶圆。
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公开(公告)号:CN108406105A
公开(公告)日:2018-08-17
申请号:CN201810064024.1
申请日:2018-01-23
申请人: 株式会社迪思科
IPC分类号: B23K26/20 , B23K26/362 , B23K26/53
CPC分类号: B23K26/364 , B23K26/032 , B23K2103/56 , H01L21/561 , H01L21/67092 , H01L21/67253 , H01L21/67288 , H01L21/6838 , H01L21/78 , H01L22/12 , H01L22/20 , H01L23/3178 , B23K26/206 , B23K26/361 , B23K26/53
摘要: 提供激光加工装置,能够沿着被加工物的所有的分割预定线适当地形成贯通槽。该激光加工装置(1)包含:卡盘工作台(10),其利用保持面(11-1)对封装晶片(201)进行保持;激光加工单元(20),其对封装晶片(201)照射激光光线而沿着分割预定线(202)形成贯通槽;X轴移动单元(30),其使卡盘工作台(10)在X轴方向上移动;以及检查单元(60)。卡盘工作台(10)包含形成保持面(11-1)的保持部件和发光体。检查单元(60)包含:线传感器(61),其在Y轴方向上延伸;以及控制单元(62),其由线传感器(61)经由贯通槽接受来自发光体的光而对加工结果进行判定。线传感器对仍保持在卡盘工作台上的封装晶片(201)的整个面进行拍摄。
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