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公开(公告)号：CN104737073A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201380054587.8
申请日：2013-10-16
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/038 , C07C39/17 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/027 , C07C39/17 , C07C2601/14 , C07C2603/92 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/0382 , H01L21/027
Abstract: 本发明的抗蚀剂组合物为包含抗蚀基材和溶剂的抗蚀剂组合物，该抗蚀基材含有特定的立体异构体，且前述特定的立体异构体占该抗蚀基材的比率为50～100质量％。
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公开(公告)号：CN104281006A
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201410350098.3
申请日：2007-11-01
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C08G8/20 , C07C69/736 , C07C67/31
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C37/20 , C07C39/12 , C07C39/17 , C07C39/42 , C07C45/49 , C07C59/70 , C07C65/105 , C07C69/736 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07C2603/92 , C07D307/33 , C08G8/04 , C08G8/08 , C08G8/20 , G03F7/022 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/109 , C07C47/546
Abstract: 本发明提供了含有高灵敏度、高分辨力、高耐蚀刻性、低逸气量、以及得到的抗蚀图形的形状良好的抗蚀剂化合物的放射线敏感性组合物；以及使用该放射线敏感性组合物的抗蚀图形的形成方法；以及光学特性和耐蚀刻性良好的、而且实质上无升华物的用于形成新的光刻胶下层膜的组合物及由其形成的下层膜。该放射线敏感性组合物含有具有特定结构的环状化合物和溶剂，所述环状化合物为通过醛类化合物A1和酚类化合物A2的缩合反应而合成的分子量为700-5000的环状化合物A，其中所述醛类化合物A1为碳原子数为2-59且具有1-4个甲酰基的化合物，所述酚类化合物A2为碳原子数为6-15且具有1-3个酚羟基的化合物。还提供了用于该组合物的环状化合物。
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公开(公告)号：CN102971281A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201180025752.8
申请日：2011-05-20
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 本发明提供以工业上有利的方式纯化具有特定结构的环状化合物的方法。所述环状化合物纯化方法的特征在于其包括使包含具有特定结构的环状化合物和有机溶剂的溶液与水或酸性水溶液接触的处理。
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公开(公告)号：CN102666461A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080053806.7
申请日：2010-11-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C43/253 , C07C41/30 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027 , C07B61/00
CPC classification number: G03F7/0382 , C07C41/30 , C07C43/23 , C07C43/253 , C07C2601/14
Abstract: 公开的是：对于安全溶剂的溶解性高、高灵敏度、能够形成具有良好形状的抗蚀图案和很少引起抗蚀图案塌陷的环状化合物；所述环状化合物的生产方法；包含所述环状化合物的放射线敏感性组合物；和使用所述组合物的抗蚀图案形成方法。具体公开的是：具有特定结构的环状化合物；环状化合物的生产方法；包含所述化合物的放射线敏感性组合物；和使用所述组合物的抗蚀图案形成方法。
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公开(公告)号：CN102648173A
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201080055311.8
申请日：2010-09-27
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , C07C37/20 , C08G8/04 , C07C39/17
Abstract: 公开的是：在安全溶剂中具有高溶解度、高灵敏度并能够提供具有良好形状抗蚀图案的环状化合物；生产该环状化合物的方法；包含该环状化合物的放射线敏感性组合物；和使用该放射线敏感性组合物形成抗蚀图案的方法。具体公开的是：具有特定结构的环状化合物；包含该化合物的放射线敏感性组合物；和使用该组合物形成抗蚀图案的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101528653A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780040498.2
申请日：2007-11-01
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C39/17 , C07C59/72 , C07C65/105 , C07C69/736 , C08G8/20 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/11 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供了含有高灵敏度、高分辨力、高耐蚀刻性、低逸气量、以及得到的抗蚀图形的形状良好的抗蚀剂化合物的放射线敏感性组合物；以及使用该放射线敏感性组合物的抗蚀图形的形成方法；以及光学特性和耐蚀刻性良好的、而且实质上无升华物的用于形成新的光刻胶下层膜的组合物及由其形成的下层膜。尤其是提供了放射线敏感性组合物，该放射线敏感性组合物含有具有特定结构的环状化合物和溶剂，其中所述具有特定结构的环状化合物为通过醛类化合物A1和酚类化合物A2的缩合反应而合成的分子量为700－5000的环状化合物A，其中所述醛类化合物A1为碳原子数为2－59且具有1－4个甲酰基的化合物，所述酚类化合物A2为碳原子数为6－15且具有1－3个酚羟基的化合物。还提供了用于该组合物的环状化合物。
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公开(公告)号：CN119451998A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202380050145.X
申请日：2023-06-28
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08F12/00 , C08F246/00 , C08F220/18 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 一种组合物，其包含下述式(1)所示的化合物(A)与下述式(2)所示的化合物(B)。(式(1)中，各定义示于说明书中。)(式(2)中，X、L1、Y、Ra、Rb、Rc、A、Z、p、m、n及r与式(1)的记载为相同内容，k表示0以上且2以下的整数。)#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116964528A
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202280018243.0
申请日：2022-03-02
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11
Abstract: 为了提供具有高的成膜性和溶剂溶解性且能够应用湿式工艺，固化性、膜的耐热性、膜的耐蚀刻性、向台阶基板的埋入性以及膜的平坦性优异，对形成光致抗蚀剂下层膜有用的光刻用膜形成材料等，本公开的光刻用膜形成材料包含：具有键合于芳香环的氨基的化合物，该化合物例如由说明书中记载的式(1A)、式(1B)、式(2)、式(3)、式(4)等表示。
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40.发明公开公开(公告)号：CN116529671A
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202180060882.9
申请日：2021-07-15
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/023
Abstract: 一种多环多酚树脂，其为具有源自选自由式(1A)及式(1B)所示的芳香族羟基化合物构成的组中的至少1种单体的重复单元的多环多酚树脂，或者为包含源自下述式(C‑1A)所示的芳香族羟基化合物的重复单元的多环多酚树脂，前述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合来连接。(式(1A)中，R1为碳数1～60的2n价的基团或单键，R2各自独立地为任选具有取代基的碳数1～40的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、任选具有取代基的碳数2～40的烯基、任选具有取代基的碳数2～40的炔基、任选具有取代基的碳数1～40的烷氧基、卤素原子、硫醇基、氨基、硝基、氰基、硝基、杂环基、羧基或羟基，m各自独立地为0～3的整数。n为1～4的整数。另外，式(1B)中，R2及m与前述式(1A)中说明的含义相同。)(式(C‑1A)中，R1为碳数1～60的2n价的基团或单键，R2各自独立地为任选具有取代基的碳数1～40的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、任选具有取代基的碳数2～40的烯基、任选具有取代基的碳数2～40的炔基、任选具有取代基的碳数1～40的烷氧基、卤素原子、硫醇基、氨基、硝基、氰基、硝基、杂环基、羧基或羟基，m各自独立地为0～9的整数。n为1～4的整数，p各自独立地为0～3的整数。)
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