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公开(公告)号：CN108138322A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680059605.5
申请日：2016-04-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/54 , H01L21/67 , H01L21/677 , C23C14/35 , C23C14/56
Abstract: 本公开内容提供了用于真空沉积在基板上的设备(100)。设备(100)包括：真空腔室(110)，具有第一区域(112)和第一沉积区域(114)；一个或多个沉积源(120)，位于第一沉积区域(114)，其中所述一个或多个沉积源(120)经构造以用于当至少第一基板(10)沿着第一运输方向(1)运输通过所述一个或多个沉积源(120)时，在所述至少第一基板(10)上真空沉积；和第一基板运输单元(140)，位于第一区域(112)中，其中第一基板运输单元(140)经构造以用于在第一区域(112)中在与第一运输方向(1)不同的第一轨道切换方向(4)上移动所述至少第一基板(10)。
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公开(公告)号：CN104319221A
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201410374298.2
申请日：2006-08-29
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/32183 , H01J37/32082 , H05H1/46
Abstract: 本发明提供适于将来自射频(RF)发生器的射频能量输出匹配到可变阻抗负载的射频匹配网络。本发明亦提供用于所述射频匹配网络的系统和方法。本发明包括提供适于共同使电力负载的阻抗与电信号发生器的阻抗匹配的多个电子元件。所述电子元件相对于一个轴对称且同心排列。另外，本发明还可以包括适于使电信号发生器与电子元件电连接的第一连接器。另外，本发明还可以包括适于使负载与电子元件电连接的第二连接器。本发明提供很多其它方案。
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公开(公告)号：CN101933402B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN200980103411.0
申请日：2009-01-31
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约翰·M·怀特 , 布拉德利·O·斯廷森
IPC: H05H1/36 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32174 , H01J37/32091 , H01J37/32577 , Y10T307/642
Abstract: 以不同的相位偏移将射频电源耦合至等离子体腔室的电极(20-26)上的不同射频连接点(31-34)。优选地，不同的射频连接点的数量和相应的相位偏移的数量是至少四个，而且射频连接点的位置分布在电极的两个正交维度（例如，X和Y轴）。优选地，由各自的射频电源供应器(41-44)给每一各自的射频连接点提供功率，其中每个电源供应器使电源供应器的相位与共同基准射频振荡器(70)同步化。
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公开(公告)号：CN101796481B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200880105071.0
申请日：2008-08-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 罗伯特·Z·巴克拉克 , 蔡容基 , 崔寿永 , 尼古拉斯·G·J·德弗里 , 雅科夫·埃尔格 , 埃里克·A·恩格尔哈特 , 米歇尔·R·弗赖 , 查尔斯·盖伊 , 帕里斯·霍金斯 , 乔伊·胡 , 詹姆斯·克雷格·亨特 , 潘查拉·N·坎卡纳拉 , 李利伟 , 温·胡·罗 , 丹尼·卡姆·托恩·鲁 , 方·梅 , 斯蒂芬·P·墨菲 , 斯鲁杰尔·帕特尔 , 马修·J·B·桑德斯 , 阿萨夫·施莱辛格 , 盛殊然 , 苏杰发 , 杰弗里·S·沙利文 , 戴维·坦纳 , 特雷莎·特罗布里奇 , 布赖斯·沃克 , 约翰·M·怀特 , 泰·K·王
IPC: H01L31/18 , H01L31/042
CPC classification number: H01L21/67236 , B23K26/364 , B26F3/002 , B26F3/004 , B65G49/064 , B65G2249/02 , B65G2249/04 , C03B33/03 , C03B33/033 , H01L21/67132 , H01L21/67712 , H01L21/67715 , H01L21/67721 , H01L21/67727 , H01L21/6776 , H01L31/022425 , H01L31/03921 , H01L31/0504 , H01L31/075 , H02S50/00 , H02S50/10 , Y02E10/548 , Y02P40/57 , Y10T29/49002 , Y10T29/49355 , Y10T29/5196 , Y10T29/53113 , Y10T29/5313 , Y10T29/5317 , Y10T29/53187 , Y10T29/53365 , Y10T29/53417 , Y10T225/10 , Y10T225/325 , Y10T225/329
Abstract: 本发明涉及利用适以在形成太阳能电池的处理中执行一或多个步骤的处理模块来形成光电装置或太阳能电池的系统。自动化太阳能电池工厂一般配置有用来形成太阳能电池的自动化处理模块和自动化设备。此自动化太阳能电池工厂因此大致包含一基板接收模块，用来接收基板；一或多个吸收层沉积群集工具，具有至少一个处理腔室可沉积含硅层在基板表面上；一或多个背接触沉积腔室；一或多个材料移除腔室；太阳能电池封装装置；热压釜模块；自动化接线箱附接模块；和一或多个质量确保模块，适以测试及合格化已完全形成的太阳能电池装置。
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公开(公告)号：CN102177769A
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN200980140428.3
申请日：2009-10-09
Applicant: 应用材料公司
IPC: H05H1/34 , H01L21/205
CPC classification number: C23C16/4585 , C23C16/5096 , H01J37/32091 , H01J37/32174
Abstract: 本发明提供一种方法及设备，其具有在等离子体处理系统内连接基材支撑件至腔室壁的低阻抗射频回流路径。在一个实施例中，处理腔室包含腔室主体，其具有界定处理区域的腔室侧壁、底部及由该腔室侧壁支撑的盖组件，基材支撑件，设置在该腔室主体的处理区域内，遮蔽框架，设置在该基材支撑组件的边缘上，以及射频回流路径，具有连接至该遮蔽框架的第一端及连接至该腔室侧壁的第二端。
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公开(公告)号：CN1939730A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610152430.0
申请日：2006-09-29
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: B41J29/393
Abstract: 本发明公开了用于喷墨液滴定位的方法和装置。第一方法包括确定衬底上墨水滴的期望沉积位置；用喷墨打印系统将墨水滴沉积到衬底上；检测衬底上沉积的墨水滴的沉积位置；将沉积位置与期望位置进行比较；确定沉积位置与期望位置之间的差异，并通过调整喷墨打印系统的参数对沉积位置与期望位置之间的差异进行补偿。本发明还提供了许多其他的方面。
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公开(公告)号：CN1502053A
公开(公告)日：2004-06-02
申请号：CN01822033.9
申请日：2001-12-06
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: G02B6/12004 , G02B6/13 , G02B6/132
Abstract: 一方面，本发明提供了用于在大面积基片上形成光学器件的方法和装置。最好，大面积基片由石英、硅石或石英玻璃制成。大面积基片可以使更大的光学器件形成在单个模片上。另一方面，本发明提供了用于在大面积基片如石英基片、硅石基片和石英玻璃基片上形成集成光学器件的方法和装置。另一方面，本发明提供了利用镶嵌技术在大面积基片或硅基片上形成光学器件的方法和装置。另一方面，提供了通过将上覆盖层结合到下覆盖和芯上形成光学器件的方法。
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公开(公告)号：CN107810555B
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN201680023536.2
申请日：2016-06-15
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L27/12 , H01L29/786 , H01L27/32
Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及用于在液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)及有机发光二极管(organic light‑emitting diode,OLED)显示器中使用低温多晶硅(low temperature polysilicon,LTPS)薄膜晶体管的方法及装置。
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公开(公告)号：CN109643629B
公开(公告)日：2021-07-02
申请号：CN201780051762.6
申请日：2017-08-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约翰·M·怀特
IPC: H01J37/32
Abstract: 本文描述具有可充气狭缝阀开口密封件的真空腔室。在一个示例中，一种真空腔室包括腔室主体、第一可充气密封件和第一狭缝阀门。所述腔室主体具有顶部、底部和侧壁。第一狭缝阀开口形成在所述侧壁中。所述第一可充气密封件密封地耦接至所述侧壁并包围所述第一狭缝阀开口。所述第一可充气密封件具有耦接至所述侧壁的基部和可相对于所述基部侧向地移动的中空管状部分。所述第一狭缝阀门可在接触所述第一可充气密封件以在所述第一狭缝阀门与所述腔室主体之间提供真空密封的关闭状态与使所述第一狭缝阀门脱离所述第一狭缝阀开口的打开状态之间移动。
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公开(公告)号：CN107735507B
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN201680025213.7
申请日：2016-04-28
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容的实施方式提供了用于原位监控基板上的膜性质的方法和设备。在一个实施方式中，提供了一种沉积系统。所述沉积系统包括至少两个沉积腔室以及被特别设计以用于每一个沉积腔室的图案化掩模，其中所述图案化掩模的第一掩模具有位于在第一掩模上形成的图案外部并穿过第一掩模而形成的第一开口，并且所述图案化掩模的第二掩模具有位于在第二掩模上形成的图案外部并穿过第二掩模而形成的第一开口，所述第二掩模的第一开口的在所述第二掩模上的位置与所述第一开口在所述第一掩模上的位置不同。
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