公开(公告)号：CN116344302A

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN202310375247.0

申请日：2023-04-10

Applicant: 浙江鑫钰新材料有限公司

Inventor： 陈维

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/147 ,  H01J37/05 ,  H01J37/317 ,  H01J37/302 ,  H01J37/09 ,  H01J37/244 ,  H01J37/20 ,  H01J37/18 ,  H01L21/77 ,  C03C23/00

Abstract: 本发明提供一种平板玻璃用离子束形成模块及离子植入系统及方法，其中平板玻璃用离子束形成模块包括有依次相连接的离子源组合单元、离子束质量和电荷比值分析磁场单元、拓展磁铁组合单元和准直磁铁组合单元；离子源组合单元中包括有并排设置的若干个离子源装置，离子源装置的输入端连接有供能供料装置；拓展磁铁组合单元中包括有若干组拓展磁铁，每组拓展磁铁的位置均分别与一个离子源装置产生的离子束的两侧相对应；准直磁铁组合单元位于若干个离子源装置产生的若干条离子束经离子束质量和电荷比值分析磁场单元偏转后的交汇处。本方案获得的平行带状离子束具有极高的有效高度，且离子束的束流宽度较小、离子密度较高且均匀度较好。

公开(公告)号：CN110678954B

公开(公告)日：2023-03-24

申请号：CN201880036357.1

申请日：2018-06-13

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 伯·范德伯格 ,  爱德华·艾伊斯勒

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/244 ,  H01J37/05

Abstract: 一种离子注入系统具有形成离子束的离子源。质量分析器沿射束路径限定并改变经质量分析的射束。可动质量解析孔径组件具有解析孔径，响应于质量分析器改变射束路径而选择性改变该解析孔径的位置。定位的偏转减速元件选择性偏转射束路径并选择性使经质量分析的射束减速。控制器在漂移模式和减速模式下选择性操作离子注入系统。控制器在漂移模式下使经质量分析的射束沿第一路径穿过解析孔径而不会发生偏转或减速，而在减速模式下使射束沿第二路径偏转并减速。选择性改变解析孔径的位置是基于穿过质量分析器和偏转减速元件的射束路径变化。

公开(公告)号：CN111108579B

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN201780094839.8

申请日：2017-09-29

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 森下英郎 ,  扬村寿英

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/05 ,  H01J37/12 ,  H01J37/141 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28

Abstract: 本发明提供不应用减速法的扫描电子显微镜，其抑制因BSE而激发的SE3的检测量，具备针对在样品上产生的SE1的能量筛选检测功能。该扫描电子显微镜具有：电子光学系统，其具有产生照射电子束的电子源(21)和使照射电子束会聚于样品上的物镜(12)；检测器(13)，其配置于电子光学系统的光轴外，检测因照射电子束照射至样品而产生的信号电子；偏转电极，其形成将信号电子引导至检测器的偏转场(26)；圆盘状电极(23)，其配置于比偏转场靠电子源侧，具有使照射电子束穿过的开口部；以及控制电极，其在比偏转场靠样品侧沿光轴配置，样品及物镜被设为基准电位，对圆盘状电极施加比基准电位低的电位，对控制电极施加比基准电位高的电位。

公开(公告)号：CN113272934A

公开(公告)日：2021-08-17

申请号：CN201980086549.8

申请日：2019-11-26

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任岩

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/05

Abstract: 公开了在多束装置中观察样本的系统和方法。多束装置可以包括：电子源，被配置为生成初级电子束；预限流孔阵列，包括多个孔并且被配置为从初级电子束形成多个束波，多个束波中的每个小束具有相关联的束电流；聚束器透镜，被配置为准直多个束波中的每个束波；束限制单元，被配置为修改多个束波中的每个束波的相关联的束电流；以及扇区磁体单元，被配置为定向多个束波中的每个束波以在物镜内或至少在物镜附近形成交叉，该物镜被配置为将多个束波中的每个束波聚焦到样本的表面上并且在其上形成多个探测点。

公开(公告)号：CN112567493A

公开(公告)日：2021-03-26

申请号：CN201980053848.1

申请日：2019-07-31

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任伟明 ,  刘学东 ,  胡学让 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/04 ,  H01J37/153 ,  H01J37/05

Abstract: 公开了用于在多束装置中观察样品的系统和方法。一种带电粒子光学系统可以包括：偏转器，其被配置为形成带电粒子源的虚像；和转印透镜，其被配置为在图像平面上形成带电粒子源的实像。图像平面可以至少形成在光束分离器附近，该光束分离器被配置为分离由源生成的初级带电粒子和由初级带电粒子与样品的交互而生成的次级带电粒子。图像平面可以形成在光束分离器的偏转平面处。多束装置可以包括带电粒子色散补偿器以补偿光束分离器的色散。在转印透镜与带电粒子色散补偿器之间，图像平面可以被形成为与光束分离器相比更靠近转印透镜。

公开(公告)号：CN111755301A

公开(公告)日：2020-10-09

申请号：CN202010166744.6

申请日：2020-03-11

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 高嶋大树 ,  西村一平

IPC: H01J37/05 ,  H01J37/30 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明涉及一种质量分离器，课题在于可在不使作业变得繁重下进行束路径的清扫等维护。本发明为一种对离子束(IB)进行质量分离的质量分离器(100)，该质量分离器具备：移动机构(30)，用以使属于包围束路径(L)的由磁性体所构成的磁轭(13)的构成要素的位于束路径(L)的上方、下方或侧方的上部磁轭(13a)、下部磁轭(13b)或侧方磁轭(13c、d)的至少任一者，于离子束(IB)的行进中的通常位置(P)与不和通常位置(P)的至少一部分重叠的退避位置(Q)之间移动。

公开(公告)号：CN111542908A

公开(公告)日：2020-08-14

申请号：CN201880061280.3

申请日：2018-08-24

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 横须贺俊之 ,  川野源 ,  黑泽浩一 ,  数见秀之 ,  李灿

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/05 ,  H01J37/244

Abstract: 本发明提供一种带电粒子射线装置、截面形状推定程序，目的在于提供能够简便地推定图形的截面形状的带电粒子射线装置。本发明的带电粒子射线装置对能量辨别器的分别不同的每个辨别条件取得检测信号，将上述每个辨别条件的检测信号与基准图形进行比较，由此推定样本的截面形状。

公开(公告)号：CN110945621A

公开(公告)日：2020-03-31

申请号：CN201880048462.7

申请日：2018-07-12

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任伟明 ,  刘学东 ,  胡学让 ,  罗希楠 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/05 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28 ,  H01J37/244

Abstract: 提供了用于补偿单束或多束设备中的分束器的色散的系统和方法。本公开的实施例提供了分散装置，分散装置包括被配置为诱导束色散的静电偏转器和磁性偏转器，束色散被设置以消除由分束器生成的色散。静电偏转器和磁性偏转器的组合可以用于在所诱导的束色散被改变以补偿由分束器生成的色散变化时，将由于分散装置引起的偏转角保持不变。在一些实施例中，由于分散装置而引起的偏转角可以被控制为零，并且没有由于分散装置而引起的初级束轴变化。

公开(公告)号：CN108807118A

公开(公告)日：2018-11-13

申请号：CN201810589383.9

申请日：2018-06-08

Applicant: 聚束科技(北京)有限公司

Inventor： 李帅 ,  何伟 ,  王瑞平

IPC: H01J37/05 ,  H01J37/145 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/145 ,  H01J37/1478 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2801

Abstract: 本发明公开了一种扫描电子显微镜系统，包括：电磁交叉场分析器、由电透镜和磁透镜构成的复合物镜、镜后偏转装置和样品台；其中，电磁交叉场分析器，位于磁透镜的上极靴与产生入射至所述扫描电子显微镜系统的初始电子束的电子源之间，用于使入射的具有第一能量的初始电子束沿光轴运动，具有第二能量的初始电子束偏转至所述初始电子束的光轴两侧；复合物镜，用于对经所述电磁交叉场分析器作用的初始电子束进行汇聚，形成汇聚电子束；镜后偏转装置，位于所述磁透镜的下极靴孔内，用于改变所述汇聚电子束的运动方向，以使所述汇聚电子束倾斜入射至所述样品台上的待测样品。本发明还公开了一种样品探测方法。

公开(公告)号：CN108604522A

公开(公告)日：2018-09-28

申请号：CN201680081651.5

申请日：2016-03-28

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 尾方智彦 ,  长谷川正树 ,  村越久弥 ,  小贯胜则 ,  兼冈则幸

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/05 ,  H01J37/29

Abstract: 本发明的目的在于提出一种能够高精度地调整成像光学系统与照射光学系统的带电粒子束装置。为了达到该目的，提出一种带电粒子束装置，其具备成为照射光学系统的第1带电粒子镜筒、使在该第1带电粒子镜筒内经过的带电粒子向对象物偏转的偏转器、以及成为成像光学系统的第2带电粒子镜筒，该带电粒子束装置具备：向对象物照射光的光源；以及控制装置，该控制装置根据基于从该光源放出的光的照射而产生的带电粒子的检测，求出维持某个偏转状态的多个偏转信号，并从该多个偏转信号中选择满足预定条件的偏转信号，或者根据由该多个偏转信号而作出的关系信息来计算满足预定条件的偏转信号。