公开(公告)号：CN111913357A

公开(公告)日：2020-11-10

申请号：CN202010348224.7

申请日：2020-04-28

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 川北直史 ,  桥本祐作 ,  吉原孝介

IPC分类号： G03F7/16

摘要： 本发明提供一种涂敷处理方法，其包括：在基片的表面与喷嘴的间隔被保持为规定的涂敷用间隔的状态下，从喷嘴向基片的表面的中心供给成膜液的步骤；在从喷嘴向基片的表面供给成膜液的期间中，使基片以第1转速绕通过基片的表面中心的轴线旋转，以使得成膜液因离心力而从喷嘴的外周向基片的周缘侧扩展的步骤；和在从喷嘴向基片的表面的成膜液的供给停止之后，使基片以第2转速绕轴线旋转，以使得成膜液因离心力而进一步扩展的步骤，涂敷用间隔被设定成在停止从喷嘴释放成膜液时能够将成膜液保持在喷嘴与基片的表面之间。由此，能够有效提高膜厚均匀性。

公开(公告)号：CN111868882A

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201980018697.6

申请日：2019-03-20

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 井手裕幸 ,  志手英男 ,  吉原孝介

IPC分类号： H01L21/027 ,  B05C11/00 ,  B05C11/10 ,  B05D1/26 ,  B05D3/00

摘要： 本发明提供一种能够抑制异物混入要供给到基片的处理液中的液处理装置。装置构成为，包括：将从处理液供给源(23)供给的用于处理基片的处理液释放到该基片的喷嘴(22)；将上述处理液供给源(23)和上述喷嘴(22)连接的主流路；设置于上述主流路的过滤器(26)；从上述主流路分支的分支管路(41A)；设置于上述分支管路(41A)的端部的泵(42)；和控制部(10)，其输出控制信号以进行第一步骤和接着的第二步骤，其中，上述第一步骤用上述泵(42)进行吸液以使得从上述处理液供给源(23)供给来的上述处理液流入上述分支管路(41A)，上述第二步骤从上述泵(42)向上述分支管路(41A)释放比该分支管路(41A)的容量少的量的该处理液以从上述喷嘴(22)释放上述处理液。

公开(公告)号：CN110764374A

公开(公告)日：2020-02-07

申请号：CN201911132118.9

申请日：2014-08-05

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 吉原孝介 ,  京田秀治 ,  牟田行志 ,  山本太郎 ,  泷口靖史 ,  福田昌弘

IPC分类号： G03F7/30 ,  H01L21/027

摘要： 本发明提供一种显影方法，用于进行显影，其包括：将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤；使基板旋转的步骤；使上述显影液喷嘴移动，以使得进行旋转的上述基板上的显影液的供给位置沿着该基板的径向进行移动，从而使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤；和与使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤并行进行，使与上述显影液喷嘴一起移动的接触部与上述积液接触的步骤，其中，上述接触部与上述基板相对的面比上述基板的表面小。根据该方法能够抑制落到基板外的液体量。另外，由于能够降低基板的转速，所以，能够抑制液体飞溅。并且，通过搅拌显影液，能够提高处理能力。

公开(公告)号：CN105702604B

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：CN201510919166.8

申请日：2015-12-11

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 桥本崇史 ,  畠山真一 ,  柴田直树 ,  吉原孝介 ,  久保田稔 ,  井手裕幸

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 本发明提供涂敷处理方法、计算机存储介质和涂敷处理装置。在基板上涂敷涂敷液时，能够将涂敷液的供给量抑制为少量，并且在基板面内均匀地涂敷涂敷液。在晶片上涂敷涂敷液的方法，向晶片上供给涂敷液的溶剂，在该晶片的外周部环状地形成溶剂的液膜，使晶片以第一转速旋转，同时向晶片的中心部供给涂敷液(时间t1～t2)，使晶片以比第一转速快的第二转速旋转，使涂敷液在基板上扩散(时间t4～t5)。直至涂敷液与溶剂的液膜接触前持续进行溶剂的供给(时间t0～t3)。

公开(公告)号：CN109148270A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201810628226.4

申请日：2018-06-19

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 吉原健太郎 ,  吉田勇一 ,  柴田直树 ,  吉原孝介

IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L21/67 ,  G03F7/16

CPC分类号： B05D3/107 ,  B05C5/002 ,  B05D1/005 ,  B05D3/065 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/31058 ,  H01L51/00 ,  H01L51/0018 ,  H01L21/0271 ,  G03F7/16 ,  H01L21/6715

摘要： 本发明提供一种在通过规定图案使表面形成有凹凸的基板上形成涂敷膜的成膜方法和成膜系统，该成膜方法是在通过规定图案使表面形成有凹凸的晶片(W)上涂敷抗蚀液，形成抗蚀膜的方法，其包括：在晶片的表面上涂敷涂敷液，形成表面上的抗蚀膜的凹凸的深度(H2)为规定值以下的比抗蚀膜(R)的目标膜厚厚的抗蚀膜(R)即厚膜(R′)的步骤；和除去厚膜(R′)的表面，形成目标膜厚的抗蚀膜(R)的步骤。由此，能够形成膜厚的面内均匀性高的涂敷膜。

公开(公告)号：CN104103555B

公开(公告)日：2018-02-13

申请号：CN201410136462.6

申请日：2014-04-04

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 田中启一 ,  吉原孝介 ,  井关智弘

IPC分类号： H01L21/67

CPC分类号： H01L21/67051 ,  B08B3/024 ,  B08B5/00 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034

摘要： 本发明提供能够在对显影后的基板进行清洗时抑制形成抗蚀剂图案的壁部的倒塌和上述图案的线宽度的变化的技术。进行以下工序：为了形成抗蚀剂图案而向曝光后的基板的表面供给显影液的显影工序；接着，向上述基板的该表面供给清洗液、从基板除去由于上述显影而产生的残渣的清洗工序；接着，向上述基板的表面供给置换液、利用上述置换液置换上述基板上的清洗液的置换工序，其中，该置换液的表面张力为50mN/m以下，含有浸透抑制剂，以抑制对构成上述抗蚀剂图案的抗蚀剂的壁部的浸透；和接着，使上述基板旋转并且向基板的中心部供给气体而形成干燥区域，利用离心力使上述干燥区域扩展至基板的周缘部，由此使基板的表面干燥的干燥工序。

公开(公告)号：CN104217979B

公开(公告)日：2018-01-09

申请号：CN201410232087.5

申请日：2014-05-28

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 大河内厚 ,  吉原孝介 ,  一之宫博 ,  西畑广 ,  内藤亮一郎

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC分类号： H01L21/67051

摘要： 本发明提供基板清洗装置、基板清洗方法。一边使基板旋转一边向基板的中心部依次喷射清洗液和气体，在使喷射清洗液和气体的喷嘴朝向基板的周缘侧移动之后，切换至设定在自第1清洗液喷嘴的移动轨迹偏离的位置上的第2清洗液喷嘴来喷射清洗液，一边喷射清洗液并喷射气体一边使两个喷嘴朝向基板的周缘侧移动，以使自第2清洗液喷嘴的喷射位置起到基板的中心部为止的距离与自气体喷嘴的喷射位置起到基板的中心部为止的距离之间的差逐渐变小的方式使各喷嘴移动。

公开(公告)号：CN105413247B

公开(公告)日：2017-09-08

申请号：CN201511001407.7

申请日：2013-02-22

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 吉原孝介 ,  一野克宪 ,  古庄智伸 ,  佐佐卓志 ,  土屋胜裕 ,  寺下裕一 ,  竹口博史

IPC分类号： B01D19/00 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30 ,  H01L21/67

CPC分类号： B01D19/0063 ,  B01D19/0031 ,  B01D19/0068 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30 ,  H01L21/6715

摘要： 本发明提供与对被处理基板供给处理液的处理液供给喷嘴连接的液体处理装置，其包括：将处理液存储容器和该处理液供给喷嘴连接的供给管路；设置于供给管路的过滤器装置；过滤器装置的二次侧的泵；将泵的排出侧和过滤器装置的吸入侧连接的循环管路；在泵的二次侧的供给管路设置的供给控制阀；在循环管路设置的循环控制阀；和控制泵、供给控制阀和循环控制阀的控制装置，利用控制装置，使得通过关闭供给控制阀使从该处理液供给喷嘴向被处理基板的处理液的供给停止时，打开循环控制阀，驱动泵，使处理液在具有过滤器装置的供给管路与循环管路之间循环。

公开(公告)号：CN105404102A

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：CN201510556969.1

申请日：2015-09-02

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 寺下裕一 ,  竹口博史 ,  下青木刚 ,  吉原孝介 ,  井关智弘

IPC分类号： G03F7/30

CPC分类号： G03F7/3021 ,  H01L21/6715

摘要： 本发明提供能够在利用显影液对曝光后的基板进行显影时对基板的面内的显影的进展程度而言有助于面内均匀性的提高的显影方法等。对被水平保持于可旋转的基板保持部的曝光后的基板，使用具有与上述基板相对地设置的接触部的第一显影液喷嘴，在基板的表面的一部分形成积液，使第一显影液喷嘴在旋转的基板的上方移动而将积液扩展到基板的整个表面，进行显影处理。而且，在进行该显影处理之前或之后，为了使基板的面内的显影的进展程度的分布均匀，在使基板旋转的状态利用第二显影液喷嘴对基板的表面供给显影液，之后，来自第一、第二显影液喷嘴的显影液的供给在从基板表面除去先前供给的显影液之后进行。

公开(公告)号：CN105074883A

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：CN201480009698.1

申请日：2014-01-23

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 志村悟 ,  岩尾文子 ,  吉原孝介

IPC分类号： H01L21/312 ,  H01L21/31 ,  H01L21/321 ,  H01L21/768

CPC分类号： H01L21/02348 ,  B05C9/12 ,  B05C9/14 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1015 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/31055 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L22/12 ,  H01L22/20 ,  H01L22/26

摘要： 本发明是在表面形成有图案的基板上形成有机膜的发明，在基板上涂布有机材料，此后，对该有机材料进行热处理，在基板上形成有机膜，此后，对该有机膜进行紫外线照射处理，将该有机膜的表面除去至规定的深度，由此在基板上适当且高效地形成有机膜。