-
公开(公告)号：CN113939773A
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN202080042598.4
申请日：2020-05-14
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 亚瑟·温弗里德·爱德华达斯·明内尔特 , S·伯恩特松 , J·H·J·莫尔斯
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种用于光刻设备的光学系统的保护装置，该光学系统采用具有预定波长的电磁辐射，该保护装置包括膜，该膜对于所述预定波长的辐射是透明的，并且所述膜在所述光刻设备的使用期间被定位成邻近所述光学系统的部件。
-
公开(公告)号：CN102749809B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201210116902.2
申请日：2012-04-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： S·N·L·多恩德尔斯 , V·Y·班尼恩 , J·H·J·莫尔斯 , M·C·M·维哈根 , O·W·V·费里基恩斯 , G·范冬克 , H·J·范格尔纳
CPC分类号： G03F7/70858 , F28D15/0266
摘要： 本发明公开了一种用于热调节光刻设备的部份的热调节系统及热调节方法。所述系统包括：蒸发器，定位成与部份热接触，以通过蒸发器内流体的蒸发来从部份提取热量；冷凝器，定位成与部份相距一距离，用于通过冷凝器内流体的冷凝来从冷凝器内的流体去除热量；流体管路，布置在蒸发器和冷凝器之间，以形成流体能在其中流动的回路；泵，布置在回路中，以使流体在回路中循环；储存器，用于保持流体，储存器与回路流体连通且包括热交换器；温度传感器，用于提供表示流体温度的测量信号；及控制器，用于基于测量信号、通过调整热交换器传递至储存器内的流体或者从储存器内的流体传递的热量，而将回路内流体的温度保持为基本恒定。
-
公开(公告)号：CN102047183B
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN200980120621.0
申请日：2009-05-20
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , G03F1/24 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： 一种多层反射镜被构造且被布置以反射具有在2-8nm范围内的波长的辐射。所述多层反射镜具有从由Cr和Sc层，Cr和C层，C和B4C层，U和B4C层，Th和B4C层，C和B9C层，La和B9C层，U和B9C层，Th和B9C层，La和B层，C和B层，U和B层，以及Th和B层构成的组中选出的交替层。
-
公开(公告)号：CN102981201A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201210518419.7
申请日：2009-02-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： W·A·索尔 , V·Y·班尼恩 , J·H·J·莫尔斯 , M·M·J·W·范赫彭 , A·M·亚库林
CPC分类号： G02B5/208 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B5/22 , G02B5/26 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70575 , G03F7/70958 , G21K1/067 , G21K2201/061 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 本申请涉及一种光学元件、包括该光学元件的光刻设备、器件制造方法以及所制造的器件。一种光学元件包括第一层(4)，所述第一层包括第一材料，并配置成对第一波长的辐射是基本上反射的并且对第二波长的辐射是基本上透明的。光学元件包括第二层(2)，所述第二层包括第二材料，并配置成对所述第二波长的辐射是基本上吸收的或透明的。光学元件包括第三层(3)，位于所述第一层和所述第二层之间的所述第三层包括第三材料，并对所述第二波长的辐射是基本上透明的并且配置成减小所述第二波长的辐射从所述第二层的面朝所述第一层的顶部表面的反射。第一层位于入射辐射的光学路径中相对于所述第二层的上游，以便提高所述第一波长的辐射的光谱纯度。
-
公开(公告)号：CN101952780B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN200980105437.9
申请日：2009-02-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·H·J·莫尔斯 , N·B·考斯特 , E·R·卢普斯特拉 , M·F·P·斯密特思 , A·T·W·凯姆彭
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70808 , G03F7/70858 , G03F7/70916
摘要： 一种光刻设备(1)，所述光刻设备(1)包括磁体(100)，所述磁体(100)被包含在保护性外罩(110)内，所述保护性外罩(110)被布置以保护磁体(100)不与包含H2或包含H原子的气体接触。外罩(110)还可以包含氢气吸气剂(120)、磁体表面修饰气体(130)或非包含氢的气体(130)。非包含氢的气体流可以被提供或磁体表面修饰气体流可以被提供通过保护性外罩(110)的至少一部分。
-
公开(公告)号：CN102047183A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200980120621.0
申请日：2009-05-20
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , G03F1/24 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： 一种多层反射镜被构造且被布置以反射具有在2-8nm范围内的波长的辐射。所述多层反射镜具有从由Cr和Sc层，Cr和C层，C和B4C层，U和B4C层，Th和B4C层，C和B9C层，La和B9C层，U和B9C层，Th和B9C层，La和B层，C和B层，U和B层，以及Th和B层构成的组中选出的交替层。
-
公开(公告)号：CN101978791A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200980109474.7
申请日：2009-03-20
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： H05G2/00
摘要： 一种靶材被配置成用于被构造且被布置以产生具有在6.8nm范围内的波长的辐射束的源中。靶材包括被配置以改变Gd的熔化温度的基于Gd的合成物，或Tb，或被配置以减小Tb的熔化温度的基于Tb的合成物。
-
公开(公告)号：CN101968609A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN201010265577.7
申请日：2007-09-18
申请人： 卡尔·蔡司半导体技术股份公司 , ASML荷兰有限公司
发明人： D·H·埃姆 , S·米勒伦德 , T·施泰因 , J·H·J·莫尔斯 , B·T·沃尔斯施里金 , D·克劳斯 , R·维尔斯路易斯 , M·G·H·迈耶因克
CPC分类号： G03B27/16 , B82Y10/00 , G03F7/70841 , G03F7/70883 , G03F7/70916 , G21K2201/061
摘要： 本发明涉及一种光学装置，特别是一种用于EUV光刻的投影曝光设备(1)，包括：围住内部空间(15)的外壳(2)；至少一个布置在所述外壳(2)中的光学元件(4至10，12，14.1至14.6)，特别是反射光学元件；至少一个用于在所述外壳(2)的所述内部空间(15)中产生真空的真空产生单元(3)；以及至少一个真空外壳(18，18.1至18.10)，布置在所述外壳(2)的所述内部空间(15)中，并且至少围住所述光学元件(4至10，12，14.1至14.5)的光学表面(17，17.1，17.2)，其中，污染降低单元与所述真空外壳(18.1至18.10)关联，相对于所述内部空间(15)中的所述污染物质的分压，所述污染降低单元降低至少在所述光学表面(17，17.1，17.2)附近处污染物质的分压，特别是水和/或碳氢化合物的分压。
-
公开(公告)号：CN101960338A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200980106463.3
申请日：2009-02-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： W·A·索尔 , V·Y·班尼恩 , J·H·J·莫尔斯 , M·M·J·W·范赫彭 , A·M·亚库林
CPC分类号： G02B5/208 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B5/22 , G02B5/26 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70575 , G03F7/70958 , G21K1/067 , G21K2201/061 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 一种光学元件包括第一层(4)，所述第一层包括第一材料，并配置成对第一波长的辐射是基本上反射的并且对第二波长的辐射是基本上透明的。光学元件包括第二层(2)，所述第二层包括第二材料，并配置成对所述第二波长的辐射是基本上吸收的或透明的。光学元件包括第三层(3)，位于所述第一层和所述第二层之间的所述第三层包括第三材料，并对所述第二波长的辐射是基本上透明的并且配置成减小所述第二波长的辐射从所述第二层的面朝所述第一层的顶部表面的反射。第一层位于入射辐射的光学路径中相对于所述第二层的上游，以便提高所述第一波长的辐射的光谱纯度。
-
公开(公告)号：CN1959541B
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200610153964.5
申请日：2006-09-15
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70933 , G21K2201/06
摘要： 用于清洁光刻装置的元件的方法，例如清洁诸如收集反射镜的光学元件的方法，包括提供含有氮的气体；从至少部分气体产生氮基团，由此形成含有基团的气体；以及向所述装置的一个或多个元件提供至少部分含有基团的气体。光刻装置包括辐射源和光学元件，以及布置成产生射频放电的放电发生器。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
53 条记录 (耗时 0.036 秒)
