公开(公告)号：CN111081598A

公开(公告)日：2020-04-28

申请号：CN201910989235.0

申请日：2019-10-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 寺本聪宽 ,  榎木田卓 ,  土山正志 ,  佐佐木庆介

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，该基板处理装置减少使收纳有基板的基板处理容器暂时待机的保管部所占的地面专有面积。对基板进行处理的基板处理装置具有：保管部，其设置于所述基板处理装置的最上部，载置用于收纳基板的基板收纳容器；搬入搬出部，其在所述基板处理装置中载置所述基板收纳容器，并且与基板处理装置的处理部侧之间进行基板的搬入和搬出；以及移载装置，其与所述保管部之间直接或间接地进行所述基板收纳容器的交接，其中，所述移载装置能够与在所述基板处理装置的上方移动的顶面行驶车之间进行所述基板收纳容器的交接。

公开(公告)号：CN110416119A

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：CN201910344158.3

申请日：2019-04-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 大久保敬弘 ,  榎木田卓 ,  古庄智伸

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种使质量管理变得容易的处理液供给装置和处理液供给方法。一种向用于对晶圆涂布抗蚀液来进行规定的处理的抗蚀剂涂布装置供给抗蚀液的抗蚀液供给装置，作为抗蚀液的供给目的地的抗蚀剂涂布装置为多个，所述处理液供给装置具有由多个所述液处理装置共享的送出部，该送出部将用于贮存所述处理液的处理液供给源中所贮存的所述处理液送出至多个所述液处理装置的各个液处理装置，其中，所述送出部具有多个泵，所述多个泵吸引所述处理液来补充所述处理液，并且送出补充来的处理液，所述送出部始终处于能够从所述多个泵中的至少一个向多个所述液处理装置送出所述处理液的状态。

公开(公告)号：CN104966685B

公开(公告)日：2018-07-10

申请号：CN201510336832.5

申请日：2011-06-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松冈伸明 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓

IPC: H01L21/67

CPC classification number: G03F7/708 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明提供一种涂布、显影装置，其目的在于提供能够抑制处理模块的设置面积并且能够抑制装置的运转效率降低的技术。将前级处理用单位块作为第一前级处理用单位块和第二前级处理用单位块以上下二层化的方式相互叠层，将后级处理用单位块作为第一后级处理用单位块和第二后级处理用单位块上下以上下二层化的方式相互叠层，进一步将显影处理用单位块作为第一显影处理用单位块和第二显影处理用单位块以上下二层化的方式相互叠层，由此构成处理模块，该涂布、显影装置包括：从前级处理用单位块向后级处理用的各单位块分配并交接基板的第一交接机构；和将曝光后的基板分配并交接给显影处理用单位块的第二交接机构。

公开(公告)号：CN107256838A

公开(公告)日：2017-10-17

申请号：CN201710256275.5

申请日：2012-11-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中原田雅弘 ,  酒田洋司 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓 ,  中岛常长

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种基板处理系统和基板搬送方法。基板处理系统具有在曝光前进行基板的背面清洗的功能，能够提高基板处理的成品率。涂敷显影处理系统的交接站(5)具有：在将晶片搬入到曝光装置之前至少清洗晶片的背面的清洗单元(100)；在晶片搬入到曝光装置之前，对于清洗后的晶片的背面检查该晶片能否进行曝光的检查单元(101)；暂时收纳由检查单元(101)检查后的晶片的缓冲单元(111)；和晶片搬送机构(120，130)，其包括在各单元(100，101，111)之间搬送晶片的臂。

公开(公告)号：CN107068588A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201611161171.8

申请日：2016-12-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 重富贤一 ,  七种刚 ,  碛本荣一 ,  福留生将 ,  吉原孝介 ,  榎木田卓 ,  竹下和宏 ,  梅木和人

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67248 ,  H01L21/67103 ,  H05B1/0233 ,  H05B2203/037 ,  H01L21/67115

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理装置的调整方法。不仅在基板的面内而且在基板间，都能够进行均匀性良好的加热处理。在基板处理装置中，包括分别将基板载置在载置台来对该基板进行加热的多个加热组件，其包括：设置在载置台的多个加热器，其发热量能相互独立地被控制；和控制部，其输出控制信号，使得对于与多个加热器分别对应的基板的被加热部位，从预先决定的第1时刻直至第2时刻之间的累计热量在1台载置台中一致并且在多个加热组件之间一致。第1时刻为在加热器的发热量稳定的状态下在基板被载置于载置台后的基板的温度变化曲线中，向基板的处理温度升温过程中的时刻，第2时刻为在温度变化曲线中基板达到了处理温度后的时刻。

公开(公告)号：CN103094160B

公开(公告)日：2017-06-13

申请号：CN201210436221.4

申请日：2012-11-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中原田雅弘 ,  酒田洋司 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓 ,  中岛常长

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67046 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/6875

Abstract: 本发明提供基板处理系统和基板搬送方法。在具有处理站（3）和交接站（5）的涂敷显影处理系统中，交接站（5）具有：在将晶片搬入到曝光装置之前至少清洗晶片的背面的晶片清洗单元（141）、至少对清洗后的晶片的背面，在搬入到曝光装置之前检查能否进行该晶片的曝光的晶片检查单元（101）、具有在清洗单元（141）和检查单元（142）之间搬送晶片的臂的晶片搬送装置（120）。清洗单元（141）和检查单元（142）在交接站（5）的正面侧，在上下方向设置有多层，晶片搬送装置（120）设置于与清洗单元（141）和检查单元（142）相邻的区域。

公开(公告)号：CN103021906B

公开(公告)日：2016-10-05

申请号：CN201210337344.2

申请日：2012-09-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 榎木田卓 ,  中原田雅弘 ,  宫田亮 ,  木山秀和 ,  饭田成昭

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/139

Abstract: 本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置具有：承载区，其包含左右分开地设置的第1承载件载置部及第2承载件载置部；处理区，其具有将多个层部分上下配置而成的层构造，并且各层部分具有用于输送基板的基板输送机构和用于处理基板的处理组件；塔单元，其含有多个基板载置部，该多个基板载置部配置在可利用多个基板载置部各自所对应的层部分的基板输送机构交接基板的高度位置；第1基板移载机构，其用于在第1承载件载置部上的承载件与塔单元的各基板载置部之间移载基板；第2基板移载机构，其用于在第2承载件载置部上的承载件与塔单元的各基板载置部之间移载基板。

公开(公告)号：CN105489537A

公开(公告)日：2016-04-13

申请号：CN201610034301.5

申请日：2012-03-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 道木裕一 ,  林德太郎 ,  饭田成昭 ,  榎木田卓

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/68 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/681 ,  H01L21/68707 ,  H01L22/10 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明提供不使用调整夹具就能够进行搬送位置调整的基板搬送装置的位置调整方法。本发明提供基板搬送装置的位置调整方法，其包括：第一检测步骤，利用搬送基板的基板搬送部保持基板，检测基板的位置；将由基板搬送部保持的基板向保持并旋转基板的基板旋转部搬送的步骤；利用基板旋转部使由基板旋转部保持的基板仅仅旋转规定的角度的步骤；从基板搬送部接收被基板旋转部旋转的基板的步骤；第二检测步骤，检测基板搬送部接收的该基板的位置；基于在第一检测步骤求出的基板的位置和在第二检测步骤求出的基板的位置，掌握基板旋转部的旋转中心位置的步骤；和基于掌握的旋转中心位置，调整基板搬送部的位置的步骤。

公开(公告)号：CN104465460A

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201410641400.0

申请日：2011-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松冈伸明 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓 ,  富田浩 ,  早川诚 ,  吉田达平

IPC: H01L21/67

CPC classification number: G03F7/16 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种抑制处理块的设置面积并且抑制装置的工作效率降低的技术。构成具备模式选择部的涂覆显影装置，上述模式选择部用于在由检查模块进行的检查中检查出基板异常时，基于存储在存储部的数据，从模式M1和M2中选择后续的基板的搬送模式。上述模式M1，确定显影处理用的单位块中处理过基板的模块，控制单位块用的搬送机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的模块以外的模块，上述模式M2，确定处理过基板的显影处理用的单位块，控制交接机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的显影处理用的单位块以外的显影处理用的单位块。

公开(公告)号：CN101872732B

公开(公告)日：2015-02-18

申请号：CN201010167338.8

申请日：2010-04-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中野征二 ,  松下道明 ,  饭田成昭 ,  榎木田卓 ,  森川胜洋

IPC: H01L21/68 ,  B65G49/06 ,  B65G49/08

Abstract: 本发明提供基板保持部件、基板搬送臂和基板搬送装置，其具备减低磨损量、防止污染、提高对准精度、防止凸出的功能。作为安装于基板搬送装置的基板搬送臂的、载置基板的周边而保持该基板的基板保持部件(4)，其具有与基板的背面抵接而保持该基板的背面保持部(5)、和与基板的端面抵接的端面抵接部(6)。端面抵接部(6)包括：具有R形状，与基板的端面抵接而限制基板的偏移的R形状部(8)；和设置在R形状部(8)的上方侧的、形成为檐状的悬突(overhang)部(81)。