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公开(公告)号：CN110651361A
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201880010466.6
申请日：2018-04-26
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 描述一种用于输送带有基板的载体的真空处理系统。所述系统包括：第一真空处理腔室，所述第一真空处理腔室用于处理所述载体上的所述基板；真空缓冲腔室，所述真空缓冲腔室为所述基板提供处理时间延迟；第二真空处理腔室，所述第二真空处理腔室用于在所述基板上掩蔽沉积材料层；以及一个或多个传送腔室，所述一个或多个传送腔室用于从所述第一真空处理腔室输送所述载体至所述真空缓冲腔室，以及用于从所述真空缓冲腔室输送所述载体至所述第二真空处理腔室。
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公开(公告)号：CN110527972A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910765172.0
申请日：2016-05-18
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供一种用于非接触式运输沉积源的设备。设备包括沉积源组件。沉积源组件包括沉积源。沉积源组件包括第一主动磁性单元。设备包括在源运输方向上延伸的引导结构。沉积源组件沿引导结构是可移动的。第一主动磁性单元与引导结构经构造以用于提供第一磁浮力以悬浮沉积源组件。
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公开(公告)号：CN109477204A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201680082636.2
申请日：2016-05-10
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 斯蒂芬·班格特 , 德烈亚斯·勒普 , 哈拉尔德·沃斯特 , 迪特尔·哈斯
Abstract: 提供了一种操作沉积设备之方法。所述方法包括：通过从蒸发源(20)的一个或多个出口(22)导引蒸发的源材料朝向基板(10)而在基板(10)上沉积蒸发的源材料，其中部分的蒸发的源材料由屏蔽装置(30)阻挡并且附接于所述屏蔽装置，所述屏蔽装置布置在一个或多个出口(22)和基板(10)之间；接着通过至少局部地加热屏蔽装置(30)来清洁屏蔽装置(30)，以用于从屏蔽装置(30)释放至少部分的附接的源材料。根据另一方面，提供沉积设备，所述沉积设备可根据所述的方法操作。
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公开(公告)号：CN107709604A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201580080549.9
申请日：2015-06-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 海克·兰特格雷夫 , 托马斯·科赫 , 斯蒂芬·班格特
CPC classification number: C23C14/24 , C23C14/542 , C23C14/546 , G05B21/02 , C23C14/545
Abstract: 描述一种用于测量蒸发材料的沉积速率的方法(100)。所述方法包括：以第一测量M1与第二测量M2之间的一时间间隔ΔT测量(110)沉积速率；以及根据所测量的沉积速率调整(120)时间间隔ΔT。此外，描述一种沉积速率控制系统(200)。所述沉积速率控制系统包括：沉积速率测量组件(210)，用于测量蒸发材料的沉积速率；以及控制器(220)，连接至沉积速率测量组件(210)且连接至蒸发源(300)，其中控制器被配置为提供控制信号至沉积速率测量组件(210)。
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公开(公告)号：CN105874095A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201380081379.7
申请日：2013-12-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乌韦·许斯勒 , 斯蒂芬·班格特 , 卡尔·阿尔伯特·凯姆 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波
CPC classification number: C23C14/14 , B01D1/0064 , B01D1/0082 , C23C14/24 , C23C14/246 , C23C14/542 , C23C14/545
Abstract: 本发明揭露一种用于蒸发材料及用于将所述材料沉积于基板上的沉积装置，所述材料包括碱金属或碱土金属。沉积装置包含：第一腔室，所述第一腔室被配置为用于使材料液化，其中第一腔室包括气体入口，所述气体入口被配置为用于使气体进入第一腔室；蒸发区域，所述蒸发区域被配置为用于使液化的材料蒸发；管线，提供第一腔室与蒸发区域之间的用于液化的材料的流体连通，其中管线包含第一部分，所述第一部分限定管线的流动阻力；阀，所述阀被配置为用于控制第一腔室中的气体的流率而用于控制通过具有所述流动阻力的管线的液化的材料的流率；及一或多个出口，用于将蒸发的材料引向基板。
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公开(公告)号：CN104884664A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201380066886.3
申请日：2013-12-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·凯勒 , 乌韦·许斯勒 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 斯蒂芬·班格特 , 里奥·库韦克·比安-孙
IPC: C23C14/24
Abstract: 描述用于蒸发包括碱金属或碱土金属的材料及用于沉积所述材料于基板上的沉积装置。所述装置包含：第一腔室，所述第一腔室被配置以液化材料；阀，所述阀与第一腔室流体连通且在第一腔室下游，其中阀被配置以控制液化材料通过阀的流率；蒸发区，所述蒸发区与阀流体连通且在阀下游，其中蒸发区被配置以蒸发液化材料；及一或更多出口，所述一或更多出口用于将蒸发材料导向基板。
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公开(公告)号：CN104838467A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201380063812.4
申请日：2013-12-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·凯勒 , 斯蒂芬·班格特 , 里奥·库韦克·比安-孙
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/0676 , C23C14/246 , C23C14/30 , C23C14/32 , C23C14/50 , H01J37/32091 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01M4/0428 , H01M4/1391 , H01M10/052 , H01M10/0562
Abstract: 描述用于蒸发介电材料至基板上的沉积装置。沉积装置包括：蒸汽分配喷头；保持器，所述保持器用于提供介电材料于蒸汽分配喷头中，其中保持器具有进给单元，用于进给介电材料至蒸汽分配喷头；能源，所述能源配置成用于熔化及蒸发蒸汽分配喷头中的介电材料或使蒸汽分配喷头中的介电材料升华，其中蒸汽分配喷头具有一或更多出口，用于将蒸发的介电材料导向基板，及特别地，其中能源发射电子或光子，其中电子或光子熔化及蒸发介电材料或使介电材料升华。装置进一步包括等离子体源，等离子体源配置成用于在蒸汽分配喷头与基板之间提供等离子体。
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公开(公告)号：CN102046832B
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN200980120088.8
申请日：2009-04-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 迈克尔·柯尼格 , 尼蒂·M·克里希纳 , 秉-圣·利奥·郭
IPC: C23C14/24
CPC classification number: C23C14/24 , H01M4/1395 , H01M4/382 , H01M6/40 , H01M10/052
Abstract: 本发明涉及经由蒸汽分配器(3)而对基板(4)进行镀膜的设备。此蒸汽分配器(3)经由入口(5)而与汽化坩埚(7)连接。在所述坩埚(7)与所述入口(5)之间设有至少一个阀门(13)。所述汽化坩埚(7)位于腔室(12)中，腔室(12)可经由真空阀门(11)来进行抽空或充气。
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公开(公告)号：CN102576899A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201080047312.8
申请日：2010-09-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 秉-圣·郭 , 斯蒂芬·班格特 , 迪特尔·哈斯 , 奥姆卡拉姆·诺拉马苏
IPC: H01M10/04 , H01M10/0525
Abstract: 本文描述用于制造薄膜电池的方法与工厂。方法包括用于制造薄膜电池的操作。工厂包括用于制造薄膜电池的一个或更多个工具组。
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