公开(公告)号：CN108700814B

公开(公告)日：2022-10-11

申请号：CN201780011950.6

申请日：2017-01-20

申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司

发明人： 三角元希 ,  横山大志 ,  谷口克人 ,  九泽昌祥

IPC分类号： G03F7/075 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/40

摘要： 提供一种负型感光性组合物，所述负型感光性组合物可低温固化，并且可获得透明性、耐化学品性、耐环境性高的固化膜，还提供使用该组合物的图案形成方法。本发明提供一种负型感光性组合物，其包含：碱可溶性树脂、具有2个以上的(甲基)丙烯酰氧基的化合物、聚硅氧烷、聚合引发剂、以及溶剂，所述碱可溶性树脂是含有包含羧基的聚合单元与包含烷氧基甲硅烷基的聚合单元的聚合物。

公开(公告)号：CN108780284B

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN201780017114.9

申请日：2017-02-27

申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司

发明人： 宫本义大 ,  片山朋英 ,  佐尾高步

IPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/004 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033

摘要： 提供一种微细图案形成用组合物、以及使用其的微细图案形成方法，所述微细图案形成用组合物即使适用于厚膜抗蚀层，也使得图案形状良好，尺寸缩小率高，缺陷数少。[解决方案]一种组合物、以及使用其的微细图案形成方法，所述组合物包含乙烯基树脂、具有特定的笼型的立体结构的胺类化合物、以及溶剂。

公开(公告)号：CN108351588B

公开(公告)日：2021-10-22

申请号：CN201680066965.8

申请日：2016-11-02

申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司

发明人： 铃木理人 ,  仁川裕 ,  片山朋英

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40

摘要： 本发明提供一种高耐热性抗蚀剂组合物以及使用该组合物的图案形成方法。本发明提供了包含特定聚合物和特定交联剂的化学放大型负型抗蚀剂组合物，并且该组合物使得可以形成高灵敏度、优异分辨率和强耐热性的抗蚀图案。

公开(公告)号：CN105103053B

公开(公告)日：2019-12-27

申请号：CN201480010383.9

申请日：2014-03-14

申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司

发明人： 长原达郎 ,  关藤高志 ,  山本和磨 ,  小林政一 ,  佐竹升 ,  石井雅弘

IPC分类号： G03F7/40 ,  H01L21/027

摘要： 本发明提供一种可形成表面皲裂少的微细的负型光致抗蚀图案的组合物、以及使用该组合物的图案形成方法。一种组合物，其为微细图案形成用组合物，该微细图案形成用组合物在使用化学放大型正型光致抗蚀组合物而形成正型抗蚀图案的方法中，用于通过使抗蚀图案变粗而使图案微细化，其特征在于：包含在重复单元中包含氨基的聚合物、溶剂以及酸。可通过在显影后的正型光致抗蚀图案上涂布该组合物，并进行加热，从而形成微细的图案。

公开(公告)号：CN110609445A

公开(公告)日：2019-12-24

申请号：CN201910902154.2

申请日：2014-12-08

申请人： AZ电子材料卢森堡有限公司

发明人： V·G·R·查达 ,  姚晖蓉 ,  M·帕德马纳班 ,  赵俊衍 ,  E·沃尔佛 ,  A·D·迪奥塞斯 ,  S·K·木伦

IPC分类号： G03F7/004

摘要： 本发明涉及新型组合物，其包含选自至少一种多金属氧酸盐、至少一种杂多金属氧酸盐及其混合物的金属组分；以及至少一种有机组分。本发明还涉及制备纳米棒阵列和纳米棒材料和膜的方法。本发明还涉及生成富含金属-氧化物的膜的新型组合物，还涉及通孔或沟槽填充、反向通孔或沟槽填充和用底层成像的方法。该材料可用于许多行业的多种制造应用，包括半导体器件、光电器件和储能行业。

公开(公告)号：CN104995564B

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：CN201480008277.7

申请日：2014-02-26

申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司

发明人： 山本和磨 ,  宫本义大 ,  关藤高志 ,  长原达郎

IPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/038 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

摘要： 本发明提供一种组合物以及使用该组合物的图案形成方法，该组合物可形成没有表面皲裂、桥连缺陷或者未析像等不良现象的微细的负型光致抗蚀图案。一种微细图案形成用组合物，其通过应用于使用化学放大型抗蚀组合物而形成出的负型抗蚀图案，使抗蚀图案变粗而将图案进行微细化。该组合物包含在重复单元中含有氨基的聚合物或聚合物混合物以及溶剂，并且进一步包含特定量的酸，或者显示特定的pH。而且，聚合物混合物包含根据汉森溶解度参数而确定的HSP距离为3以上的多种聚合物。将该组合物涂布于由有机溶剂显影液进行显影而获得的负型光致抗蚀图案，并进行加热，从而形成微细的图案。

公开(公告)号：CN105190441B

公开(公告)日：2019-09-06

申请号：CN201480012592.7

申请日：2014-03-14

申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司

发明人： 王晓伟 ,  冈安哲雄 ,  G·帕夫洛夫斯基 ,  绢田贵史

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08F20/10 ,  C08G63/133 ,  H01L21/027

摘要： 本发明的课题在于提供一种上层膜形成用组合物以及使用了该上层膜形成用组合物的图案形成方法，该上层膜形成用组合物在基于极紫外线曝光而进行的图案形成方法中，可形成粗糙度、图案形状优异的图案。本发明的解决手段是一种上层膜形成用组合物，其特征在于包含具有亲水性基团的苯并菲衍生物以及溶剂；以及一种方法，其中，通过将该组合物涂布于抗蚀层表面，利用曝光显影而形成图案。该组合物也可进一步包含聚合物。

公开(公告)号：CN105209973B

公开(公告)日：2019-08-13

申请号：CN201480026104.8

申请日：2014-06-26

申请人： AZ电子材料卢森堡有限公司

发明人： M·D·拉赫曼 ,  V·G·R·查达 ,  姚晖蓉 ,  C·安亚蒂格伍 ,  D·麦克肯兹

IPC分类号： G03F7/09 ,  H01L21/027

摘要： 本公开涉及含有至少一种金属氧化物二羧酸盐和该金属氧化物二羧酸盐可溶于其中或在其中胶体稳定的有机溶剂的旋涂组合物。该二羧酸盐能够在热处理过程中分解以提供固化的金属氧化物膜。本公开还涉及使用该旋涂组合物的方法。

公开(公告)号：CN110032042A

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201910240873.2

申请日：2016-12-20

申请人： AZ电子材料卢森堡有限公司

发明人： 陈春伟 ,  刘卫宏 ,  卢炳宏

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  G03F7/095 ,  G03F7/20

摘要： 本申请涉及用于激光烧蚀的负性光致抗蚀剂组合物及其使用方法。具体地，可通过宽带紫外辐射交联的组合物，其在交联后能够通过在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光进行冷烧蚀，其中所述组合物包含可在碱水溶液中显影的负性色调抗蚀剂，还包含强烈吸收约220nm至约310nm范围内的紫外辐射的共轭芳基添加剂。本发明还涵盖包括步骤a)，b)和c)的方法，a)将权利要求1的组合物涂覆在基底上；b)通过用宽带UV曝光辐照使整个涂层交联；c)通过用在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光的冷激光烧蚀在交联涂层中形成图案。

公开(公告)号：CN109971344A

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201910073632.3

申请日：2014-09-16

申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司

发明人： 尾崎祐树 ,  佐竹升 ,  河户俊二 ,  小林政一

IPC分类号： C09D183/14 ,  C09D183/16 ,  C09D7/63 ,  B05D3/04 ,  B05D3/06 ,  B05D7/04 ,  C08J7/04 ,  C08L67/02

摘要： 【课题】本发明提供一种可形成气体阻隔性能优异的覆膜的覆膜形成用组合物和覆膜形成方法。【解决方案】一种覆膜形成用组合物，其特征在于包含不含羟基或者羧基的聚硅氧烷、聚硅氮烷和有机溶剂；以及一种覆膜形成方法，其包含将该组合物涂布于基板的工序以及进行曝光的工序。