封装结构及其制造方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109243981B

    公开(公告)日:2021-05-11

    申请号:CN201710845069.8

    申请日:2017-09-19

    摘要: 本发明提供一种封装结构及其制造方法。所述制造方法包括以下步骤:提供载体,在载体上设置半导体晶粒以及至少一牺牲结构;通过多条导线使半导体晶粒与牺牲结构上的接合垫电性连接;于载体上形成封装体以密封半导体晶粒、牺牲结构以及导线;剥离载体,并通过薄化工程来移除牺牲结构的至少一部分;于半导体晶粒与封装体上形成重布线层,所述重布线层通过导线电性连接至半导体晶粒。

    封装结构及其制造方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109243981A

    公开(公告)日:2019-01-18

    申请号:CN201710845069.8

    申请日:2017-09-19

    摘要: 本发明提供一种封装结构及其制造方法。所述制造方法包括以下步骤:提供载体,在载体上设置半导体晶粒以及至少一牺牲结构;通过多条导线使半导体晶粒与牺牲结构上的接合垫电性连接;于载体上形成封装体以密封半导体晶粒、牺牲结构以及导线;剥离载体,并通过薄化工程来移除牺牲结构的至少一部分;于半导体晶粒与封装体上形成重布线层,所述重布线层通过导线电性连接至半导体晶粒。

    重布线层的测试方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109037089B

    公开(公告)日:2020-09-15

    申请号:CN201710680991.6

    申请日:2017-08-10

    IPC分类号: H01L21/66

    摘要: 本发明公开一种重布线层的测试方法,导电层成形于第一载体的第一表面上,重布线层成形于导电层上,然后于重布线层上执行断路测试,由于导电层与重布线层构成一封闭的回路,故若重布线层成形正确,则断路测试时将会有负载呈现,于断路测试执行完毕后,将第一载体与导电层移除,并于重布线层上执行一短路测试,由于重布线层本身为一开启的回路,故若重布线层成形正确,则短路测试时将不会有负载呈现,因此可在芯片结合于重布线层之前确定重布线层是否具有缺陷,则将不会因为重布线层的缺陷而浪费良好的芯片。

    重布线层的测试方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109037089A

    公开(公告)日:2018-12-18

    申请号:CN201710680991.6

    申请日:2017-08-10

    IPC分类号: H01L21/66

    摘要: 本发明公开一种重布线层的测试方法,导电层成形于第一载体的第一表面上,重布线层成形于导电层上,然后于重布线层上执行断路测试,由于导电层与重布线层构成一封闭的回路,故若重布线层成形正确,则断路测试时将会有负载呈现,于断路测试执行完毕后,将第一载体与导电层移除,并于重布线层上执行一短路测试,由于重布线层本身为一开启的回路,故若重布线层成形正确,则短路测试时将不会有负载呈现,因此可在芯片结合于重布线层之前确定重布线层是否具有缺陷,则将不会因为重布线层的缺陷而浪费良好的芯片。

    重布线层的测试方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109037088A

    公开(公告)日:2018-12-18

    申请号:CN201710680424.0

    申请日:2017-08-10

    IPC分类号: H01L21/66

    摘要: 本发明公开一种重布线层的测试方法,一导电层成形于载体的第一表面,重布线层成形于位在第一表面的该导电层以及载体的第二表面,接着于重布线层上执行断路测试及短路测试,由于导电层与位于导电层上的重布线层构成一封闭的回路,若重布线层成形良好则会有负载呈现,此外,由于重布线层与载体的第二区域构成一开启的回路,若重布线层成形良好则不会有负载呈现,因此,可在芯片结合于重布线层之前确定重布线层是否具有缺陷,则将不会因为重布线层的缺陷而浪费良好的芯片。