一种高模量MPI柔性覆铜板及其制备方法

    公开(公告)号:CN118984530A

    公开(公告)日:2024-11-19

    申请号:CN202411056507.9

    申请日:2024-08-02

    发明人: 肖旭 赵健 葛敬辉

    摘要: 本发明公开了一种高模量MPI柔性覆铜板及其制备方法,该高模量MPI柔性覆铜板包括铜箔层以及涂布在铜箔层上的MPI层;MPI层由改性聚酰亚胺前驱体和聚酰亚胺前驱体按重量比(1~4):1混胶制得;聚酰亚胺前驱体包括填料、非质子极性溶剂、刚性二胺单体、柔性二胺单体和芳香族酸酐单体;改性聚酰亚胺前驱体包括填料、非质子极性溶剂、刚性二胺单体、柔性二胺单体、主链含酯基的二胺单体和芳香族酸酐单体;聚酰亚胺前驱体中刚性二胺单体、柔性二胺单体的摩尔数之和与芳香族酸酐单体的摩尔比为1:(0.96~1.05);改性聚酰亚胺前驱体中刚性二胺单体、柔性二胺单体、主链含酯基的二胺单体的摩尔数之和与芳香族酸酐单体的摩尔比为1:(0.96~1.05)。

    导电性膜及显示装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118946455A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202380030271.9

    申请日:2023-03-06

    申请人: TDK株式会社

    IPC分类号: B32B15/08 H05K1/03

    摘要: 本发明涉及一种导电性膜,其具备膜状的基材和设置于基材的一个主面侧的导电层。导电层具有从基材侧起依次设置的含有第一金属的第一金属层、和含有与第一金属不同的第二金属的第二金属层。第一金属层包含晶界。

    基板及其制备方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118946004A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202411016429.X

    申请日:2024-07-27

    摘要: 本发明公开了一种基板及其制备方法,所述方法包括:步骤1:提供多个生瓷片,在每个生瓷片上开孔,使生瓷片上形成通孔;步骤2:采用填充物对步骤1中生瓷片上的通孔进行填充;步骤3:将步骤2中通孔填充后的多个生瓷片进行叠片压合,相邻两个生瓷片上的通孔一一对齐,以使得多个生瓷片上的通孔连接形成直孔;步骤4:步骤3叠片压合后的生瓷片通过等静压粘接后进行烧结以获得烧结后的陶瓷板,陶瓷板的直孔内的填充物分解;步骤5:对陶瓷板的两面进行种子层沉积,在直孔内填充导体;步骤6:在陶瓷板的表面制作再布线层,形成基板。本方法制备的基板机械强度高、平面度好、不易涨缩、能够满足探针卡在高频测试时的需求。