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    FLUID HANDLING DEVICE
    81.
    发明公开
    FLUID HANDLING DEVICE 审中-公开
    流体处理装置

    公开(公告)号：EP3225311A1

    公开(公告)日：2017-10-04

    申请号：EP17163924.8

    申请日：2017-03-30

    申请人： Enplas Corporation

    发明人： ONO, Koichi

    IPC分类号： B01L3/00

    CPC分类号： B01L3/502784 ,  B01L3/502707 ,  B01L3/502715 ,  B01L2200/027 ,  B01L2200/0652 ,  B01L2200/0673 ,  B01L2300/0816 ,  B01L2300/0864 ,  B01L2300/0887 ,  B01L2400/0406 ,  B01L2400/0415 ,  B01L2400/0487 ,  F16K99/0015 ,  F16K99/0028 ,  F16K99/0042 ,  F16K2099/008 ,  F16K2099/0084

    摘要： A fluid handling device includes: a substrate (110) including a first surface (1101) and a second surface (1102) which are opposite to each other, wherein a first recess (112) which allows fluid to flow therethrough is formed on the first surface; a film (120) including a third surface (1201) and a fourth surface (1202) which are opposite to each other, wherein at least a pair of second recesses (121) is formed on the third surface; and at least a pair of electrodes (130) whose shape is defined by the second recesses, the electrodes being disposed in the second recesses and configured to apply an electric field to an inside of the first recess, the film being joined to the substrate such that the first surface and the fourth surface face each other.

    摘要翻译： 一种流体处理装置，包括：基板（110），其包括彼此相对的第一表面（1101）和第二表面（1102），其中允许流体流过的第一凹部（112）形成在第一表面 表面; 包括彼此相对的第三表面（1201）和第四表面（1202）的膜（120），其中至少一对第二凹陷（121）形成在所述第三表面上; 以及形状由第二凹部限定的至少一对电极（130），所述电极设置在第二凹部中并且被配置为向第一凹部的内部施加电场，所述薄膜与基板接合 第一表面和第四表面彼此面对。

    LIQUID HANDLING DEVICE
    85.
    发明公开
    LIQUID HANDLING DEVICE 审中-公开
    FLUIDHANDHABUNGSVORRICHTUNG

    公开(公告)号：EP3106879A4

    公开(公告)日：2017-09-13

    申请号：EP15745813

    申请日：2015-02-10

    申请人： ENPLAS CORP

    发明人： KITAMOTO KEN

    IPC分类号： G01N35/08 ,  B01J19/00 ,  B01L3/00 ,  B81B3/00 ,  F16K51/00 ,  F16K99/00 ,  G01N37/00

    CPC分类号： B01L3/502738 ,  B01L3/502715 ,  B01L3/502723 ,  B01L3/50273 ,  B01L2200/0684 ,  B01L2300/0816 ,  B01L2300/0848 ,  B01L2300/0887 ,  B01L2300/14 ,  B01L2400/0481 ,  B01L2400/0638 ,  F16K99/0015 ,  F16K99/0059

    摘要： This liquid handling device is provided with a first chip that comprises a first substrate, a first film, a first flow path, a second flow path and a partition wall. A diaphragm portion of the first film is over the first flow path, the second flow path and the partition wall, and the center thereof is arranged over the first flow path. The first chip comprises a discharge hole or a discharge flow path which, in the liquid flow direction in the first flow path, opens into the first flow path between the partition wall and the center of the diaphragm and allows communication between the inside and outside of the first flow path.

    摘要翻译： 该液体处理装置设置有第一芯片，该第一芯片包括第一基底，第一膜，第一流动路径，第二流动路径和分隔壁。 第一膜的隔膜部分位于第一流路，第二流路和分隔壁上方，并且其中心布置在第一流路上方。 第一芯片具有排出孔或排出流路，该排出孔或排出流路在第一流路的液体流动方向上通向分隔壁与隔膜的中心之间的第一流路，并且允许内部与外部之间的连通 第一流路。