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    Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film
    2.
    发明专利
    Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film 有权
    图案形成方法，丙烯酸敏感或辐射敏感性树脂组合物，以及丙烯酸敏感或辐射敏感膜

    公开(公告)号：JP2013050511A

    公开(公告)日：2013-03-14

    申请号：JP2011187055

    申请日：2011-08-30

    申请人： Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

    发明人： KATO KEITA ,  NAKAMURA ATSUSHI

    IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F220/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C2602/14 ,  C07C2603/56 ,  C07C2603/74 ,  C08F212/08 ,  C08F220/10 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/325 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3081 ,  Y10S430/114

    摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method by which a negative pattern having high resolution, high etching durability and reduced development residue defects can be formed by using KrF light, electron beams and EUV light, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film used for the method.SOLUTION: The pattern forming method includes steps of forming a film by using the following resin composition, exposing the film and developing the exposed film by use of a developing solution containing an organic solvent to form a negative pattern. The resin composition used is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising: (A) a resin the solubility of which with an organic solvent is decreased by an action of an acid, the resin containing a repeating unit having a group that is decomposed by an action of an acid to generate a polar group and also containing an aromatic group; (B) a nonionic compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation; and (C) a solvent.

    摘要翻译： 要解决的问题：提供一种图案形成方法，通过使用KrF光，电子束和EUV光可以形成具有高分辨率，高蚀刻耐久性和减少的显影残余缺陷的负图案，并提供光化学 射线敏感或辐射敏感性树脂组合物和用于该方法的光化射线敏感或辐射敏感膜。 解决方案：图案形成方法包括以下步骤：通过使用以下树脂组合物形成膜，通过使用含有机溶剂的显影溶液曝光膜和显影曝光膜以形成负图案。 所使用的树脂组合物是光化学射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其包含：（A）通过酸的作用使其与有机溶剂的溶解度降低的树脂，所述树脂含有具有以下基团的重复单元： 通过酸的作用分解以产生极性基团并且还含有芳族基团; （B）通过用光化射线或辐射照射产生酸的非离子化合物; 和（C）溶剂。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT