半導體裝置及其形成方法
    6.
    发明专利
    半導體裝置及其形成方法 审中-公开
    半导体设备及其形成方法

    公开(公告)号:TW202022998A

    公开(公告)日:2020-06-16

    申请号:TW108127161

    申请日:2019-07-31

    摘要: 在實施例中,一種裝置包括:積體電路晶粒;重佈線結構,位於積體電路晶粒的前側表面之上;插座,位於重佈線結構之上;機械支架,位於插座之上,所述機械支架具有暴露出插座的開口,插座的邊緣區與開口處的機械支架的邊緣區交疊;第一支座螺釘,設置在機械支架的邊緣區中,所述第一支座螺釘實體地接觸插座,所述第一支座螺釘在插座與機械支架之間延伸第一距離;以及螺栓,延伸穿過機械支架及重佈線結構。

    简体摘要: 在实施例中,一种设备包括:集成电路晶粒;重布线结构,位于集成电路晶粒的前侧表面之上;插座,位于重布线结构之上;机械支架,位于插座之上,所述机械支架具有暴露出插座的开口,插座的边缘区与开口处的机械支架的边缘区交叠;第一支座螺钉,设置在机械支架的边缘区中,所述第一支座螺钉实体地接触插座,所述第一支座螺钉在插座与机械支架之间延伸第一距离;以及螺栓,延伸穿过机械支架及重布线结构。

    半導體封裝及其形成方法
    9.
    发明专利
    半導體封裝及其形成方法 审中-公开
    半导体封装及其形成方法

    公开(公告)号:TW201830639A

    公开(公告)日:2018-08-16

    申请号:TW106114156

    申请日:2017-04-27

    摘要: 一種半導體封裝包括第一介電層、元件晶粒、主動穿孔及虛設穿孔、密封材料、第二介電層、主動金屬頂蓋、虛設金屬頂蓋及第一重佈線線路。元件晶粒位於第一介電層之上。密封材料密封元件晶粒、主動穿孔、及虛設穿孔。第二介電層位於元件晶粒、主動穿孔、及虛設穿孔之上。主動金屬頂蓋位於第二介電層之上,並且電性耦合至主動穿孔。主動金屬頂蓋交疊主動穿孔。虛設金屬頂蓋位於第二介電層之上。虛設金屬頂蓋交疊虛設穿孔。虛設金屬頂蓋被間隙分隔成第一部分及第二部分。重佈線線路穿過虛設金屬頂蓋的第一部分與第二部分之間的間隙。

    简体摘要: 一种半导体封装包括第一介电层、组件晶粒、主动穿孔及虚设穿孔、密封材料、第二介电层、主动金属顶盖、虚设金属顶盖及第一重布线线路。组件晶粒位于第一介电层之上。密封材料密封组件晶粒、主动穿孔、及虚设穿孔。第二介电层位于组件晶粒、主动穿孔、及虚设穿孔之上。主动金属顶盖位于第二介电层之上,并且电性耦合至主动穿孔。主动金属顶盖交叠主动穿孔。虚设金属顶盖位于第二介电层之上。虚设金属顶盖交叠虚设穿孔。虚设金属顶盖被间隙分隔成第一部分及第二部分。重布线线路穿过虚设金属顶盖的第一部分与第二部分之间的间隙。