公开(公告)号：US07410265B2

公开(公告)日：2008-08-12

申请号：US10675471

申请日：2003-09-30

申请人： Martin Antoni ,  Frank Melzer ,  Andreas Seifert ,  Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert

发明人： Martin Antoni ,  Frank Melzer ,  Andreas Seifert ,  Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert

IPC分类号： G02B5/08

CPC分类号： G03F7/70825 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/10 ,  G02B17/02 ,  G02B27/0025 ,  G02B27/30 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175

摘要： A focusing-device for the radiation from a light source (2) is provided with a collector mirror (1, 1′) which is arranged in a mount (24) and collects the light, in virtual or real terms, from the light source (2) at the second focus (200). The collector mirror (1, 1′) is displaceably connected to the mount (24) via a bearing in such a way that its optical properties remain at least approximately the same even in the event of temperature changes.

摘要翻译： 用于来自光源（2）的辐射的聚焦装置设置有集中器反射镜（1,1'），其被布置在安装件（24）中，并以虚拟或实际的方式从光源收集光 （2）在第二焦点（200）。 收集镜（1,1'）经由轴承可移动地连接到支座（24），使得即使在温度变化的情况下，它的光学特性保持至少近似相同。

公开(公告)号：US07091505B2

公开(公告)日：2006-08-15

申请号：US10775037

申请日：2004-02-09

申请人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

发明人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

IPC分类号： G21G5/00 ,  A61N5/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B7/182 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

摘要： There is provided a projection exposure system operable in a scanning mode along a scanning direction. The projection exposure system includes a collector that receives light having a wavelength ≦193 nm and illuminates a region in a plane. The plane is defined by a local coordinate system having a y-direction parallel to the scanning direction and an x-direction perpendicular to the scanning direction. The collector includes (a) a first mirror shell, (b) a second mirror shell within the first mirror shell, and (c) a fastening device for fastening the first and second mirror shells. The mirror shells are substantially rotational symmetric about a common rotational axis. The fastening device has a support spoke that extends in a radial direction of the mirror shells, and the support spoke, when projected into the plane, yields a projection that is non-parallel to the y-direction.

摘要翻译： 提供了沿着扫描方向以扫描模式操作的投影曝光系统。 投影曝光系统包括收集器，其收集波长<= 193nm的光并照亮平面中的区域。 平面由具有与扫描方向平行的y方向和垂直于扫描方向的x方向的局部坐标系限定。 收集器包括（a）第一镜壳，（b）第一镜壳内的第二镜壳，以及（c）用于紧固第一镜壳和第二镜壳的紧固装置。 镜壳基本上围绕公共旋转轴线旋转对称。 紧固装置具有在镜壳的径向方向上延伸的支撑辐条，并且当​​投影到平面中时支撑辐条产生不平行于y方向的突起。

公开(公告)号：US20060291062A1

公开(公告)日：2006-12-28

申请号：US11416447

申请日：2006-05-02

申请人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

发明人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

IPC分类号： G02B27/10

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B7/182 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

摘要： There is provided a projection exposure system operable in a scanning mode along a scanning direction. The projection exposure system includes a collector that receives light having a wavelength 193 nm and illuminates a region in a plane. The plane is defined by a local coordinate system having a y-direction parallel to the scanning direction and an x-direction perpendicular to the scanning direction. The collector includes (a) a first mirror shell, (b) a second mirror shell within the first mirror shell, and (c) a fastening device for fastening the first and second mirror shells. The mirror shells are substantially rotational symmetric about a common rotational axis. The fastening device has a support spoke that extends in a radial direction of the mirror shells, and the support spoke, when projected into the plane, yields a projection that is non-parallel to the y-direction.

摘要翻译： 提供了沿着扫描方向以扫描模式操作的投影曝光系统。 投影曝光系统包括：收集器，其接收波长为193nm的光并照射平面中的区域。 平面由具有与扫描方向平行的y方向和垂直于扫描方向的x方向的局部坐标系限定。 收集器包括（a）第一镜壳，（b）第一镜壳内的第二镜壳，以及（c）用于紧固第一镜壳和第二镜壳的紧固装置。 镜壳基本上围绕公共旋转轴线旋转对称。 紧固装置具有在镜壳的径向方向上延伸的支撑辐条，并且当​​投影到平面中时支撑辐条产生不平行于y方向的突起。

公开(公告)号：US20080042079A1

公开(公告)日：2008-02-21

申请号：US11974718

申请日：2007-10-16

申请人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

发明人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

IPC分类号： G01J3/10

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B7/182 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

摘要： There is provided a system that includes a first optical sub-system contained in a first space, and a second optical sub-system contained in a second space. The first and said second spaces are separated by a structure selected from the group consisting of a diaphragm and a valve.

摘要翻译： 提供了一种包括包含在第一空间中的第一光学子系统和包含在第二空间中的第二光学子系统的系统。 第一和第二空间由选自隔膜和阀门的结构分开。

公开(公告)号：US07321126B2

公开(公告)日：2008-01-22

申请号：US11416447

申请日：2006-05-02

申请人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

发明人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

IPC分类号： A61N5/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B7/182 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

摘要： There is provided a projection exposure system operable in a scanning mode along a scanning direction. The projection exposure system includes a collector that receives light having a wavelength ≦193 nm and illuminates a region in a plane. The plane is defined by a local coordinate system having a y-direction parallel to the scanning direction and an x-direction perpendicular to the scanning direction. The collector includes (a) a first mirror shell, (b) a second mirror shell within the first mirror shell, and (c) a fastening device for fastening the first and second mirror shells. The mirror shells are substantially rotational symmetric about a common rotational axis. The fastening device has a support spoke that extends in a radial direction of the mirror shells, and the support spoke, when projected into the plane, yields a projection that is non-parallel to the y-direction.

摘要翻译： 提供了沿着扫描方向以扫描模式操作的投影曝光系统。 投影曝光系统包括收集器，其收集波长<= 193nm的光并照亮平面中的区域。 平面由具有与扫描方向平行的y方向和垂直于扫描方向的x方向的局部坐标系限定。 收集器包括（a）第一镜壳，（b）第一镜壳内的第二镜壳，以及（c）用于紧固第一镜壳和第二镜壳的紧固装置。 镜壳基本上围绕公共旋转轴线旋转对称。 紧固装置具有在镜壳的径向方向上延伸的支撑辐条，并且当​​投影到平面中时支撑辐条产生不平行于y方向的突起。

公开(公告)号：US08542346B2

公开(公告)日：2013-09-24

申请号：US12409961

申请日：2009-03-24

申请人： Guido Limbach ,  Franz Sorg ,  Armin Schoeppach ,  Ulrich Weber ,  Ulrich Loering ,  Dirk Hellweg ,  Peter Meyer ,  Stefan Xalter ,  Jens Kugler ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Hembacher ,  Bernhard Geuppert ,  Aksel Goehnermeier

发明人： Guido Limbach ,  Franz Sorg ,  Armin Schoeppach ,  Ulrich Weber ,  Ulrich Loering ,  Dirk Hellweg ,  Peter Meyer ,  Stefan Xalter ,  Jens Kugler ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Hembacher ,  Bernhard Geuppert ,  Aksel Goehnermeier

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G02B7/004 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70825

摘要： The disclosure relates to an optical system, such as a projection exposure apparatus for semiconductor lithography, including a manipulable correction arrangement for reducing image aberrations. In some embodiments, the system includes at least one manipulator configured to reduce image aberrations. The manipulator can include at least one optical element which can be manipulated by at least one actuator. The manipulator can be formed in changeable fashion together with an actuator.

摘要翻译： 本发明涉及一种光学系统，例如用于半导体光刻的投影曝光装置，包括用于减小图像像差的可操作的校正装置。 在一些实施例中，系统包括被配置为减少图像像差的至少一个操纵器。 操纵器可以包括至少一个可由至少一个致动器操纵的光学元件。 操纵器可以与致动器一起以可变的方式形成。

公开(公告)号：US08300210B2

公开(公告)日：2012-10-30

申请号：US11664896

申请日：2005-10-01

申请人： Johannes Rau ,  Armin Schoeppach ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Martin Mahlmann ,  Bernhard Geuppert ,  Thomas Petasch ,  Gerhard Fuerter

发明人： Johannes Rau ,  Armin Schoeppach ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Martin Mahlmann ,  Bernhard Geuppert ,  Thomas Petasch ,  Gerhard Fuerter

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42 ,  G02B7/02

CPC分类号： G03F7/7015 ,  G02B7/00 ,  G02B7/008 ,  G02B7/021 ,  G02B7/028 ,  G02B7/22 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0804 ,  G02B17/0812 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70883

摘要： An optical projection unit comprising a first optical element module and at least one second optical element module is provided. The first optical element module comprises a first housing unit and at least a first optical element, the first optical element being received within the first housing unit and having an optically used first region defining a first optical axis. The at least one second optical element module is located adjacent to the first optical element module and comprises at least one second optical element, the second optical element defining a second optical axis of the optical projection unit. The first housing unit has a central first housing axis and an outer wall extending in a circumferential direction about the first housing axis. The first optical axis is at least one of laterally offset and inclined with respect to the first housing axis. Furthermore, the first housing axis is substantially collinear with the second optical axis.

摘要翻译： 提供了包括第一光学元件模块和至少一个第二光学元件模块的光学投影单元。 第一光学元件模块包括第一壳体单元和至少第一光学元件，第一光学元件被接收在第一壳体单元内并且具有限定第一光轴的光学使用的第一区域。 所述至少一个第二光学元件模块位于与所述第一光学元件模块相邻并且包括至少一个第二光学元件，所述第二光学元件限定所述光学投影单元的第二光轴。 第一壳体单元具有中心的第一壳体轴线和围绕第一壳体轴线在圆周方向上延伸的外壁。 第一光轴是相对于第一壳体轴线的横向偏移和倾斜中的至少一个。 此外，第一壳体轴线与第二光轴基本共线。

公开(公告)号：US20090174874A1

公开(公告)日：2009-07-09

申请号：US11664896

申请日：2005-10-01

申请人： Johannes Rau ,  Armin Schoeppach ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Martin Mahlmann ,  Bernhard Geuppert ,  Thomas Petasch ,  Gerhard Fuerter

发明人： Johannes Rau ,  Armin Schoeppach ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Martin Mahlmann ,  Bernhard Geuppert ,  Thomas Petasch ,  Gerhard Fuerter

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/62

CPC分类号： G03F7/7015 ,  G02B7/00 ,  G02B7/008 ,  G02B7/021 ,  G02B7/028 ,  G02B7/22 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0804 ,  G02B17/0812 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70883

摘要： An optical projection unit comprising a first optical element module and at least one second optical element module is provided. The first optical element module comprises a first housing unit and at least a first optical element, the first optical element being received within the first housing unit and having an optically used first region defining a first optical axis. The at least one second optical element module is located adjacent to the first optical element module and comprises at least one second optical element, the second optical element defining a second optical axis of the optical projection unit. The first housing unit has a central first housing axis and an outer wall extending in a circumferential direction about the first housing axis. The first optical axis is at least one of laterally offset and inclined with respect to the first housing axis. Furthermore, the first housing axis is substantially collinear with the second optical axis.

摘要翻译： 提供了包括第一光学元件模块和至少一个第二光学元件模块的光学投影单元。 第一光学元件模块包括第一壳体单元和至少第一光学元件，第一光学元件被接收在第一壳体单元内并且具有限定第一光轴的光学使用的第一区域。 所述至少一个第二光学元件模块位于与所述第一光学元件模块相邻并且包括至少一个第二光学元件，所述第二光学元件限定所述光学投影单元的第二光轴。 第一壳体单元具有中心的第一壳体轴线和围绕第一壳体轴线在圆周方向上延伸的外壁。 第一光轴是相对于第一壳体轴线的横向偏移和倾斜中的至少一个。 此外，第一壳体轴线与第二光轴基本共线。

公开(公告)号：US20090244509A1

公开(公告)日：2009-10-01

申请号：US12409961

申请日：2009-03-24

申请人： Guido Limbach ,  Franz Sorg ,  Armin Schoeppach ,  Ulrich Weber ,  Ulrich Loering ,  Dirk Hellweg ,  Peter Meyer ,  Stefan Xalter ,  Jens Kugler ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Hembacher ,  Bernhard Geuppert ,  Aksel Goehnermeier

发明人： Guido Limbach ,  Franz Sorg ,  Armin Schoeppach ,  Ulrich Weber ,  Ulrich Loering ,  Dirk Hellweg ,  Peter Meyer ,  Stefan Xalter ,  Jens Kugler ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Hembacher ,  Bernhard Geuppert ,  Aksel Goehnermeier

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G02B7/004 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70825

摘要： The disclosure relates to an optical system, such as a projection exposure apparatus for semiconductor lithography, including a manipulable correction arrangement for reducing image aberrations. In some embodiments, the system includes at least one manipulator configured to reduce image aberrations. The manipulator can include at least one optical element which can be manipulated by at least one actuator. The manipulator can be formed in changeable fashion together with an actuator.

摘要翻译： 本发明涉及一种光学系统，例如用于半导体光刻的投影曝光装置，包括用于减小图像像差的可操作的校正装置。 在一些实施例中，系统包括被配置为减少图像像差的至少一个操纵器。 操纵器可以包括至少一个可由至少一个致动器操纵的光学元件。 操纵器可以与致动器一起以可变的方式形成。

公开(公告)号：US07760327B2

公开(公告)日：2010-07-20

申请号：US11395719

申请日：2006-03-31

申请人： Hans-Jürgen Scherle ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Stefan Xalter ,  Johannes Lippert ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Geuppert ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Franz Sorg ,  Willi Heintel ,  Harald Kirchner ,  Wolfgang Keller ,  Andreas Frommeyer ,  Fraser G. Morrison

发明人： Hans-Jürgen Scherle ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Stefan Xalter ,  Johannes Lippert ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Geuppert ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Franz Sorg ,  Willi Heintel ,  Harald Kirchner ,  Wolfgang Keller ,  Andreas Frommeyer ,  Fraser G. Morrison

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54 ,  G03B27/32 ,  G02B5/10

CPC分类号： G03F7/70225 ,  G02B17/0812

摘要： There is provided an optical element comprising an optical element body, a reflecting area and an optical passageway. The optical element body defines an axis of rotational symmetry. The reflecting area is disposed on the optical element body and adapted to be optically used in an exposure process. The optical passageway is arranged within the optical element body and allows light to pass the optical element body, the optical passageway being arranged eccentrically with respect to the axis of rotational symmetry.

摘要翻译： 提供了一种包括光学元件主体，反射区域和光学通道的光学元件。 光学元件主体限定旋转对称轴。 反射区域设置在光学元件主体上并且适于在曝光过程中被光学地使用。 光学通道布置在光学元件主体内并允许光通过光学元件主体，光学通道相对于旋转对称轴线偏心地布置。