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    ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
    3.
    发明申请
    ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION 有权
    丙酰胺或辐射敏感性树脂组合物和使用组合物形成图案的方法

    公开(公告)号：US20120156618A1

    公开(公告)日：2012-06-21

    申请号：US13393173

    申请日：2010-08-31

    申请人： Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Takayuki Ito ,  Hideaki Tsubaki

    发明人： Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Takayuki Ito ,  Hideaki Tsubaki

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C08F214/18

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20

    摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (P) containing not only at least one repeating unit (A) that when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid and is expressed by any of general formulae (I) to (III) below but also a repeating unit (B) containing at least an aromatic ring group provided that the repeating unit (B) does not include any of those of general formulae (I) to (III). (The characters used in general formulae (I) to (III) have the meanings mentioned in the description.)

    摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括不仅含有至少一个重复单元（A）的树脂（P），当暴露于光化射线或辐射时，其被分解，从而产生酸， 由下述通式（I）〜（III）中的任何一个表示，但也包含至少含有芳环基的重复单元（B），条件是重复单元（B）不包括通式（I） 至（III）。 （通式（I）〜（III）中使用的字符具有说明书中提及的含义。）

    Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the composition
    4.
    发明授权
    Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the composition 有权
    光化学射线或辐射敏感性树脂组合物和使用该组合物形成图案的方法

    公开(公告)号：US09052590B2

    公开(公告)日：2015-06-09

    申请号：US13393173

    申请日：2010-08-31

    申请人： Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Takayuki Ito ,  Hideaki Tsubaki

    发明人： Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Takayuki Ito ,  Hideaki Tsubaki

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20

    摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (P) containing not only at least one repeating unit (A) that when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid and is expressed by any of general formulae (I) to (III) below but also a repeating unit (B) containing at least an aromatic ring group provided that the repeating unit (B) does not include any of those of general formulae (I) to (III). (The characters used in general formulae (I) to (III) have the meanings mentioned in the description.)

    摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括不仅含有至少一个重复单元（A）的树脂（P），当暴露于光化射线或辐射时，其被分解，从而产生酸， 由下述通式（I）〜（III）中的任何一个表示，但也包含至少含有芳环基的重复单元（B），条件是重复单元（B）不包括通式（I） 至（III）。 （通式（I）〜（III）中使用的字符具有说明书中提及的含义。）

    ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME
    10.
    发明申请
    ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME 审中-公开
    化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，耐腐蚀膜和使用其的图案形成方法

    公开(公告)号：US20140127627A1

    公开(公告)日：2014-05-08

    申请号：US13669530

    申请日：2012-11-06

    申请人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

    发明人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

    IPC分类号： G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20

    摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film formed with the composition, and a pattern-forming method using the same. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (P) a resin that contains the following repeating units (A), (B) and (C); and a solvent having a boiling temperature of 150° C. or less, (A) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming a carboxylic acid by the action of an acid, and (C) a repeating unit containing a carbon-carbon unsaturated bond.

    摘要翻译： 提供了一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，由该组合物形成的抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（P）含有以下重复单元（A），（B）和（C）的树脂; 和沸点为150℃以下的溶剂，（A）含有能够在光化射线或辐射照射时能够分解形成酸的基团的重复单元，（B）含有能够具有基团的重复单元 通过酸的作用分解和形成羧酸，和（C）含有碳 - 碳不饱和键的重复单元。