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    Method for forming transparent conductive oxide
    1.
    发明授权
    Method for forming transparent conductive oxide 有权
    形成透明导电氧化物的方法

    公开(公告)号：US08361835B2

    公开(公告)日：2013-01-29

    申请号：US12748790

    申请日：2010-03-29

    申请人： Valery V. Komin ,  Hien-Minh Huu Le ,  David Tanner ,  James S. Papanu ,  Philip A. Greene ,  Suresh M. Shrauti ,  Roman Gouk ,  Steven Verhaverbeke

    发明人： Valery V. Komin ,  Hien-Minh Huu Le ,  David Tanner ,  James S. Papanu ,  Philip A. Greene ,  Suresh M. Shrauti ,  Roman Gouk ,  Steven Verhaverbeke

    IPC分类号： H01L21/00

    CPC分类号： C23C14/086 ,  C23C14/541 ,  C23C14/56 ,  C23C14/5846 ,  H01L31/022466 ,  H01L31/022483 ,  H01L31/02366 ,  H01L31/03921 ,  H01L31/056 ,  H01L31/075 ,  H01L31/1884 ,  Y02E10/52 ,  Y02E10/548

    摘要： Embodiments disclosed herein generally relate to a process of depositing a transparent conductive oxide layer over a substrate. The transparent oxide layer is sometimes deposited onto a substrate for later use in a solar cell device. The transparent conductive oxide layer may be deposited by a “cold” sputtering process. In other words, during the sputtering process, a plasma is ignited in the processing chamber which naturally heats the substrate. No additional heat is provided to the substrate during deposition such as from the susceptor. After the transparent conductive oxide layer is deposited, the substrate may be annealed and etched, in either order, to texture the transparent conductive oxide layer. In order to tailor the shape of the texturing, different wet etch chemistries may be utilized. The different etch chemistries may be used to shape the surface of the transparent conductive oxide and the etch rate.

    摘要翻译： 本文公开的实施例通常涉及在衬底上沉积透明导电氧化物层的工艺。 透明氧化物层有时沉积在衬底上，以供以后用于太阳能电池器件中。 可以通过冷溅射工艺沉积透明导电氧化物层。 换句话说，在溅射过程中，在处理室中点燃等离子体，其自然地加热基板。 在诸如从感受器的沉积期间不会向衬底提供额外的热量。 在沉积透明导电氧化物层之后，可以以任何顺序对衬底进行退火和蚀刻，以对透明导电氧化物层进行纹理化。 为了调整纹理的形状，可以使用不同的湿蚀刻化学物质。 可以使用不同的蚀刻化学物质来形成透明导电氧化物的表面和蚀刻速率。

    Solar Cell Substrate and Methods of Manufacture
    9.
    发明申请
    Solar Cell Substrate and Methods of Manufacture 审中-公开
    太阳能电池基板和制造方法

    公开(公告)号：US20100313945A1

    公开(公告)日：2010-12-16

    申请号：US12196001

    申请日：2008-08-21

    申请人： Hien-Minh Huu Le ,  David Tanner

    发明人： Hien-Minh Huu Le ,  David Tanner

    IPC分类号： H01L31/0224 ,  H01L21/18

    CPC分类号： H01L31/022425 ,  H01L31/046 ,  H01L31/0463 ,  H01L31/056 ,  H01L31/1888 ,  Y02E10/52

    摘要： Photovoltaic cells and methods for making photovoltaic cells are described. The methods include disposing an intermediate layer within the back contact at a thickness that does not negatively impact reflection or transmission of light through the solar cell. The intermediate layer prevents peeling of metal from the back contact during laser scribing.

    摘要翻译： 描述了用于制造光伏电池的光伏电池和方法。 所述方法包括以不负面影响通过太阳能电池的光的反射或透射的厚度来设置背面接触中的中间层。 中间层在激光划线期间防止金属从背面接触剥离。