公开(公告)号：US20050145448A1

公开(公告)日：2005-07-07

申请号：US11070101

申请日：2005-03-01

申请人： Jun Watanabe ,  Takuya Usui

发明人： Jun Watanabe ,  Takuya Usui

IPC分类号： B60T1/00 ,  B60T13/74 ,  F16D55/226 ,  F16D65/14 ,  F16D65/18 ,  F16D55/08

CPC分类号： F16D55/226 ,  B60T1/005 ,  B60T13/741 ,  F16D65/18 ,  F16D2121/24 ,  F16D2125/36 ,  F16D2127/06 ,  F16D2129/08

摘要： One of brake pads 5 is pressed against the disc rotor D by a piston of a caliper 3 which is floatably supported on the carrier 2, and in reaction thereto, the other brake pad 5 is pressed against the disc rotor D by a claw portion 14 on the caliper 3, thereby producing a braking force. During brake release, the spring force of a return spring 22 separates the brake pad 5 from the disc rotor D. A positioning convex portion 27 is provided on the carrier 2 in a standing position adjacent to the return spring 22, and serves to restrict the sideward movement of the distal end portion of the return spring 22. Thus displacement and deformation of the return spring can be prevented, and its functions can be maintained.

摘要翻译： 刹车片5中的一个通过可移动地支撑在载体2上的卡钳3的活塞压在盘形转子D上，并且与此相反，另一个制动片5通过爪部14压靠在盘形转子D上 在制动钳3上，从而产生制动力。 在制动器释放期间，复位弹簧22的弹簧力将制动衬块5与盘形转子D分开。定位凸部27以与复位弹簧22相邻的立位设置在托架2上，用于限制 因此能够防止复位弹簧的位移和变形，能够维持其功能。

公开(公告)号：US06893586B2

公开(公告)日：2005-05-17

申请号：US09963634

申请日：2001-09-27

申请人： Yasuo Yamanaka ,  Jun Watanabe ,  Kiyotaka Sawada

发明人： Yasuo Yamanaka ,  Jun Watanabe ,  Kiyotaka Sawada

IPC分类号： G02B1/04 ,  B29C45/78 ,  B29C71/00 ,  B29C71/02 ,  B29D11/00 ,  G02B3/00

CPC分类号： B29C71/02 ,  B29C2071/022 ,  B29D11/00009 ,  B29K2995/0031 ,  B29L2011/0016

摘要： A plastic optical element producing method produces a plastic optical element by an injection molding, and includes the step of cooling the optical element to a room temperature to cool an optical surface of the plastic optical element with priority over other surfaces of the plastic optical element in a state where a temperature of the plastic optical element is within a predetermined temperature range which is less than or equal to a glass transition temperature of the resin material.

摘要翻译： 塑料光学元件制造方法通过注射成型制造塑料光学元件，并且包括将光学元件冷却至室温以优先于塑料光学元件的其它表面以冷却塑料光学元件的光学表面的步骤 塑料光学元件的温度在小于或等于树脂材料的玻璃化转变温度的预定温度范围内的状态。

公开(公告)号：US06878501B2

公开(公告)日：2005-04-12

申请号：US09842114

申请日：2001-04-26

申请人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

发明人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

IPC分类号： C08F232/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F10/00 ,  C08F214/18

CPC分类号： C08F232/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  C08F222/06 ,  C08F222/40

摘要： Polymers comprising recurring units of cycloolefin having fluorinated alkyl introduced therein are novel and have transparency and alkali solubility. Using the polymers, resist compositions featuring low absorption of F2 excimer laser light are obtained.

摘要翻译： 包含引入其中具有氟化烷基的环烯烃的重复单元的聚合物是新颖的并且具有透明性和碱溶解性。 使用聚合物，获得了具有低的F2准分子激光吸收的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US06841086B2

公开(公告)日：2005-01-11

申请号：US10105388

申请日：2002-03-26

申请人： Hajimu Minami ,  Jun Watanabe ,  Yoshishige Nakamura

发明人： Hajimu Minami ,  Jun Watanabe ,  Yoshishige Nakamura

IPC分类号： C07F9/02 ,  C07F9/11 ,  C07H3/04 ,  D06M13/148 ,  D06M13/292 ,  D06M10/00 ,  C07C31/18 ,  C07F9/09 ,  C07H3/02

CPC分类号： D06M13/148 ,  C07F9/025 ,  C07F9/11 ,  C07H3/04 ,  D06M13/292

摘要： Stabilizing an aqueous solution of an alkali metal salt of partial alkyl esters of phosphoric acid by adding 1 to 10 weight percent of C3-12 polyhydric alcohol having three or more of hydroxyl groups to an alkali metal salt of partial alkyl esters of phosphoric acid having linear of branched-chain alkyl groups of 16 to 22 average carbon number, 0.6 to 1.0 degree of phosphorylation and 60 to 100% of neutralization degree, and providing a fiber finish containing the stabilized aqueous solution as a major component.

摘要翻译： 通过向具有线性的磷酸的部分烷基酯的碱金属盐中加入1至10重量％的具有3个或更多个羟基的C3-12多元醇，使磷酸的部分烷基酯的碱金属盐的水溶液稳定化 的支链烷基的平均碳数为16〜22，磷酸化为0.6〜1.0，中和度为60〜100％，提供含有稳定的水溶液作为主要成分的纤维整理剂。

公开(公告)号：US06730451B2

公开(公告)日：2004-05-04

申请号：US09735521

申请日：2000-12-14

申请人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

发明人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

IPC分类号： G03F7038

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： Polymers comprising recurring units of an acrylic derivative of fluorinated backbone represented by formula (1) are novel. R1, R2 and R3 are independently H, F, C1-20 alkyl or fluorinated C1-20 alkyl, at least one of R1, R2 and R3 contains fluorine, and R4 is an acid labile group. Using such polymers, resist compositions featuring low absorption of F2 excimer laser light are obtained.

摘要翻译： 包含由式（1）表示的氟化主链的丙烯酸衍生物的重复单元的聚合物是新颖的.R 1，R 2和R 3独立地是H，F，C 1-20烷基或氟化C 1-20烷基 ，R 1，R 2和R 3中的至少一个含有氟，R 4是酸不稳定基团。 使用这种聚合物，获得具有F2准分子激光的低吸收性的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US06710148B2

公开(公告)日：2004-03-23

申请号：US10068298

申请日：2002-02-08

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kentaro Tsutsumi ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kentaro Tsutsumi ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： C08F11800

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： A copolymer of an acrylate monomer containing fluorine at &agr;-position with a norbornene derivative is highly transparent to VUV radiation and resistant to dry etching. A resist composition using the resin as a base polymer is sensitive to high-energy radiation below 200 nm, has excellent sensitivity, and is suited for lithographic microprocessing.

摘要翻译： 在α-位含氟的丙烯酸酯单体与降冰片烯衍生物的共聚物对VUV辐射是高度透明的并且耐干蚀刻。 使用树脂作为基础聚合物的抗蚀剂组合物对于低于200nm的高能辐射敏感，具有优异的灵敏度，并且适用于光刻微处理。

公开(公告)号：US06692893B2

公开(公告)日：2004-02-17

申请号：US09983155

申请日：2001-10-23

申请人： Youichi Ohsawa ,  Jun Watanabe ,  Takeshi Nagata ,  Jun Hatakeyama

发明人： Youichi Ohsawa ,  Jun Watanabe ,  Takeshi Nagata ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： G03C173

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： Onium salts of arylsulfonyloxynaphthalenesulfonate anions with iodonium or sulfonium cations are novel. A chemically amplified resist composition comprising the onium salt as a photoacid generator is suited for microfabrication, especially by deep UV lithography because of many advantages including improved resolution, improved focal latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development.

摘要翻译： 芳基磺酰氧基萘磺酸盐与碘鎓或锍阳离子的鎓盐是新颖的。 包含作为光致酸发生剂的鎓盐的化学放大抗蚀剂组合物特别适用于微细加工，特别是通过深紫外光刻技术，因为许多优点，包括改进的分辨率，改善的焦点纬度，最小化的线宽变化或甚至在长期PED下的形状退化 涂层，显影和剥离后的碎屑，以及显影后改进的图案轮廓。

公开(公告)号：US06682869B2

公开(公告)日：2004-01-27

申请号：US09799052

申请日：2001-03-06

申请人： Youichi Ohsawa ,  Jun Watanabe ,  Takanobu Takeda ,  Akihiro Seki

发明人： Youichi Ohsawa ,  Jun Watanabe ,  Takanobu Takeda ,  Akihiro Seki

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0758 ,  Y10S430/106

摘要： A chemical amplification, positive resist composition is provided comprising (A) a photoacid generator and (B) a resin which changes its solubility in an alkali developer under the action of acid and has substituents of the formula: Ph—(CH2)nOCH(CH2CH3)— wherein Ph is phenyl and n=1 or 2. The composition has many advantages including improved focal latitude, improved resolution, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized defect left after coating, development and stripping, and improved pattern profile after development and is suited for microfabrication by any lithography, especially deep UV lithography.

摘要翻译： 提供化学放大正性抗蚀剂组合物，其包含（A）光酸产生剂和（B）在酸的作用下改变其在碱显影剂中的溶解度并具有下式的取代基的树脂：Ph-（CH 2）n OCH（CH 2 CH 3 ） - 其中Ph是苯基并且n = 1或2.组合物具有许多优点，包括改进的焦点纬度，改进的分辨率，最小化的线宽变化或形状退化，即使在长期PED上，涂覆后剩余的最小化缺陷，显影和剥离， 并且在显影后改进的图案轮廓，并且适用于通过任何光刻，特别是深UV光刻的微细加工。

公开(公告)号：US06667415B1

公开(公告)日：2003-12-23

申请号：US08300245

申请日：1994-09-02

申请人： Fujio Yagihashi ,  Jun Watanabe ,  Minoru Takamizawa ,  Akinobu Tanaka ,  Yoshio Kawai ,  Tadahito Matsuda

发明人： Fujio Yagihashi ,  Jun Watanabe ,  Minoru Takamizawa ,  Akinobu Tanaka ,  Yoshio Kawai ,  Tadahito Matsuda

IPC分类号： C07C6976

CPC分类号： C07C69/734 ,  C07D309/12 ,  C07F7/1804 ,  G03F7/0045 ,  Y02P20/55

摘要： Disclosed are novel tert-butyl 4,4-bis(4′-hydroxyphenyl)pentanoate derivatives represented by the following general formula (I); wherein R1 represents a protective group which can be readily eliminated under an acidic condition, and R2 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group: and high energy radiation-responsive positive resist materials using said novel derivatives as dissolution inhibitors.

摘要翻译： 公开了由以下通式（I）表示的新颖的4,4-双（4'-羟基苯基）戊酸叔丁酯衍生物：其中R 1表示在酸性条件下易于除去的保护基，R 代表氢原子，低级烷基或低级烷氧基;以及使用所述新衍生物作为溶解抑制剂的高能辐射响应正抗蚀材料。

公开(公告)号：US06605361B2

公开(公告)日：2003-08-12

申请号：US09965867

申请日：2001-10-01

申请人： Jun Watanabe ,  Takanobu Itoh

发明人： Jun Watanabe ,  Takanobu Itoh

IPC分类号： B32B904

CPC分类号： G02B1/14 ,  C09D183/04 ,  C09D183/14 ,  G02B1/105 ,  G02B1/111 ,  Y10T428/31663 ,  C08L2666/52 ,  C08L2666/54

摘要： A coating composition that can be applied to a lens, a method of making the coating composition, and a coated lens comprising a cured coating composition of the invention are disclosed. The coating composition is produced by providing a mixture comprising metal oxide colloid particles and an organosilicon compound, and adding an acetylacetonate metal salt and an aliphatic amine to the mixture.