公开(公告)号：US06301698B1

公开(公告)日：2001-10-09

申请号：US09387434

申请日：1999-09-01

申请人： Chia-Hui Lin ,  San-De Tzu

发明人： Chia-Hui Lin ,  San-De Tzu

IPC分类号： G06F1750

CPC分类号： G03F1/32 ,  G03F1/29 ,  G03F1/34

摘要： A method is described for using computer aided design data for contact holes in a background, such as an opaque background or a phase shifting background, to generate computer aided design data for fabricating a mask an outrigger pattern. The outrigger pattern mask has contact holes surrounded by a first border of opaque material and the first border of opaque material surrounded by a third border of attenuating or 100% transmittance phase shifting material. The third border of attenuating or 100% transmittance phase shifting material is surrounded by opaque material. The design data for the contact hole pattern, a background pattern, a first correction pattern, and a second correction pattern are combined in a computer processor to generate final data. The final data is used to fabricate the mask.

摘要翻译： 描述了一种方法，用于使用计算机辅助设计数据用于背景中的接触孔，例如不透明背景或相移背景，以产生用于制造掩模外伸支架图案的计算机辅助设计数据。 外伸支架图案掩模具有被不透明材料的第一边界包围的接触孔和由衰减或100％透射相移材料的第三边界包围的不透明材料的第一边界。 衰减或100％透光相移材料的第三个边界被不透明材料包围。 接触孔图案的设计数据，背景图案，第一校正图案和第二校正图案被组合在计算机处理器中以产生最终数据。 最终的数据用于制作掩码。

公开(公告)号：US06174801B1

公开(公告)日：2001-01-16

申请号：US09261997

申请日：1999-03-05

申请人： San-De Tzu ,  Ching-Shiun Chiu ,  Chia-Hui Lin

发明人： San-De Tzu ,  Ching-Shiun Chiu ,  Chia-Hui Lin

IPC分类号： H01L214763

CPC分类号： H01L21/76807 ,  G03F7/2059 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/0277 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3086 ,  H01L2221/1021

摘要： A method is disclosed for employing direct electron beam writing in the lithography used for forming step-profiles in semiconductor devices. The number of steps in the profiles are not limited. An electron beam sensitive resist is formed over a substrate. The resist is then exposed to a scanning electron beam having precise information, including proximity effect correction data, to directly form stair-case-like openings in the resist. The highly accurately dimensioned step-profiles are then transferred into the underlying layers by performing appropriate etchings. The resulting structures are shown to be especially suitable for forming damascene interconnects for submicron technologies.

摘要翻译： 公开了一种在用于在半导体器件中形成阶梯轮廓的光刻中采用直接电子束写入的方法。 配置文件中的步骤数不受限制。 在衬底上形成电子束敏感抗蚀剂。 然后将抗蚀剂暴露于具有精确信息的扫描电子束，包括邻近效应校正数据，以直接在抗蚀剂中形成阶梯状开口。 然后通过执行适当的蚀刻将高度精确尺寸的阶梯轮廓转移到下面的层中。 所得到的结构显示出特别适用于形成亚微米技术的镶嵌互连。

公开(公告)号：US5717427A

公开(公告)日：1998-02-10

申请号：US506959

申请日：1995-07-28

申请人： Chia-Hui Lin

发明人： Chia-Hui Lin

IPC分类号： G06F3/033 ,  G09G5/08

CPC分类号： G06F3/03543 ,  G06F3/0312

摘要： An optical-reflecting decoder modular design mechanism of mouse which is all components of mouse control circuit to adhere to the PCB using SMT technic, and this PCB is installed on a base which has two small size slotted discs, one ball member and one idle roller. Besides, the end of mouse cable has a connector which has several slots on the top center, and each slot has a connecting spring, and at the end of each spring has a connecting protuberance in order to touch to the touching point of the PCB. Also two sets of LED and phototransistors are adhered to the back of PCB, and installed reflecting lens under each LED and phototransistor, and install on the rack of two lens in a proper slope angle for light reflection.

摘要翻译： 一种光学反射解码器模块化设计机制，鼠标控制电路的所有组件都使用SMT技术粘贴在PCB上，该PCB安装在基座上，该基座上有两个小尺寸的开槽盘，一个球形件和一个空转辊 。 此外，鼠标电缆的端部具有在顶部中心具有多个槽的连接器，并且每个槽具有连接弹簧，并且在每个弹簧的端部具有连接突起以便接触PCB的接触点。 还有两套LED和光电晶体管粘贴在PCB的背面，并在每个LED和光电晶体管下安装反射镜，并以适当的倾斜角安装在两个镜头的机架上进行光反射。

公开(公告)号：US4977397A

公开(公告)日：1990-12-11

申请号：US427681

申请日：1989-10-13

申请人： Wen-Chieh Kuo ,  Chia-Hui Lin ,  Te-Chang Chou ,  Yuan-Hsiung Liang

发明人： Wen-Chieh Kuo ,  Chia-Hui Lin ,  Te-Chang Chou ,  Yuan-Hsiung Liang

IPC分类号： G06F1/16 ,  G06F3/033 ,  G06F3/045

CPC分类号： G06F3/03547 ,  G06F1/1632 ,  G06F3/045

摘要： A touch-control mouse provides rapid and accurate control of the positioning of a cursor on a computer display screen, and includes a laminated touch-control film assembly, an aluminum supporting board, a press button switch set, a signal processing circuit board, and a dust-protective hanging case. Drawing using a finger on x-axis and y-axis resistance planes of the laminated touch-control film assembly results in variable potential value for x, y coordinates. The value of potential variation is calculated through a single-chip microprocessor to indicate relative direction, speed and amount of displacement on x, y coordinates. The signal of the relative direction, speed and amount of displacement is further is further sent by the single-chip microprocessor through a standard RS-232 connector to one of the serial communications ports of a PC to rapidly and accurately control the positioning of the cursor on the computer display screen.

摘要翻译： 触摸控制鼠标可以快速准确地控制计算机显示屏幕上光标的定位，并且包括层叠的触摸控制膜组件，铝支撑板，按钮开关组，信号处理电路板和 防尘吊箱。 使用手指在层叠的触摸控制膜组件的x轴和y轴电阻平面上绘制导致x，y坐标的可变电位值。 通过单片微处理器计算电位变化的值，以指示x，y坐标上的相对方向，速度和位移量。 相对方向，速度和位移量的信号进一步由单片微处理器通过标准RS-232连接器发送到PC的串行通信端口之一，以快速，准确地控制光标的定位 在电脑显示屏幕上。

公开(公告)号：US08021992B2

公开(公告)日：2011-09-20

申请号：US11218695

申请日：2005-09-01

申请人： Joung-Wei Liou ,  Tsang-Yu Liu ,  Chien-Feng Lin ,  Cheng-Liang Chang ,  Ming-Te Chen ,  Chia-Hui Lin ,  Ying-Hsiu Tsai ,  Szu-An Wu ,  Yin-Ping Lee

发明人： Joung-Wei Liou ,  Tsang-Yu Liu ,  Chien-Feng Lin ,  Cheng-Liang Chang ,  Ming-Te Chen ,  Chia-Hui Lin ,  Ying-Hsiu Tsai ,  Szu-An Wu ,  Yin-Ping Lee

IPC分类号： H01L21/31 ,  H01L21/469

CPC分类号： C23C16/045 ,  C23C16/46 ,  C23C16/507 ,  H01L21/76837

摘要： A high density plasma chemical vapor deposition process including exciting gas mixture to create a plasma including ions, and directing the plasma into a dense region above the upper surface of the semiconductor wafer, heating the wafer using an additional heat source, and allowing a material from the plasma to deposit onto the semiconductor wafer.

摘要翻译： 一种高密度等离子体化学气相沉积方法，包括激发气体混合物以产生包括离子的等离子体，并将等离子体引导到半导体晶片的上表面上方的致密区域中，使用额外的热源加热晶片， 等离子体沉积到半导体晶片上。

公开(公告)号：US20070049034A1

公开(公告)日：2007-03-01

申请号：US11218695

申请日：2005-09-01

申请人： Joung-Wei Liou ,  Tsang-Yu Liu ,  Chien-Feng Lin ,  Cheng-Liang Chang ,  Ming-Te Chen ,  Chia-Hui Lin ,  Ying-Hsiu Tsai ,  Szu-An Wu ,  Yin-Ping Lee

发明人： Joung-Wei Liou ,  Tsang-Yu Liu ,  Chien-Feng Lin ,  Cheng-Liang Chang ,  Ming-Te Chen ,  Chia-Hui Lin ,  Ying-Hsiu Tsai ,  Szu-An Wu ,  Yin-Ping Lee

IPC分类号： H01L21/469 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C16/045 ,  C23C16/46 ,  C23C16/507 ,  H01L21/76837

摘要： A high density plasma chemical vapor deposition process including exciting gas mixture to create a plasma including ions, and directing the plasma into a dense region above the upper surface of the semiconductor wafer, heating the wafer using an additional heat source, and allowing a material from the plasma to deposit onto the semiconductor wafer.

摘要翻译： 一种高密度等离子体化学气相沉积方法，包括激发气体混合物以产生包括离子的等离子体，并将等离子体引导到半导体晶片的上表面上方的致密区域中，使用额外的热源加热晶片， 等离子体沉积到半导体晶片上。

公开(公告)号：US06943077B2

公开(公告)日：2005-09-13

申请号：US10408689

申请日：2003-04-07

申请人： Ai-Sen Liu ,  Baw-Ching Perng ,  Ming-Ta Lei ,  Yih-Shung Lin ,  Cheng-Chung Lin ,  Chia-Hui Lin

发明人： Ai-Sen Liu ,  Baw-Ching Perng ,  Ming-Ta Lei ,  Yih-Shung Lin ,  Cheng-Chung Lin ,  Chia-Hui Lin

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/302 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/314 ,  H01L21/336 ,  H01L21/8234 ,  H01L21/8238

CPC分类号： H01L21/823468 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/3144 ,  H01L21/823456 ,  H01L29/6656

摘要： A method of forming spacers with different widths on a semiconductor substrate, includes the steps of disposing a first spacer layer over the substrate, defining the first spacer layer into a plurality of spacers of a first width, and disposing a second spacer layer selectively over the first spacer layer of a number of the spacers preselected for the second spacer layer, the predetermined number of the spacers with the second spacer layer each having a second width which is different from the first width.

摘要翻译： 一种在半导体衬底上形成具有不同宽度的间隔物的方法，包括以下步骤：在衬底上设置第一间隔层，将第一间隔层限定为多个第一宽度的间隔物，并且在第 为第二间隔层预选的多个间隔物的第一间隔层，具有第二间隔层的预定数量的间隔物各自具有与第一宽度不同的第二宽度。

公开(公告)号：US20050179076A1

公开(公告)日：2005-08-18

申请号：US11098112

申请日：2005-04-04

申请人： Chun-Chieh Lin ,  Lan-Lin Chao ,  Chia-Hui Lin ,  Fu-Liang Yang ,  Chia-Shiung Tsai ,  Chanming Hu

发明人： Chun-Chieh Lin ,  Lan-Lin Chao ,  Chia-Hui Lin ,  Fu-Liang Yang ,  Chia-Shiung Tsai ,  Chanming Hu

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/336 ,  H01L21/8242 ,  H01L27/02 ,  H01L27/108

CPC分类号： H01L27/10852 ,  H01L27/0207 ,  H01L27/10817 ,  H01L28/91

摘要： A method for fabricating a high-density array of crown capacitors with increased capacitance while reducing process damage to the bottom electrodes is achieved. The process is particularly useful for crown capacitors for future DRAM circuits with minimum feature sizes of 0.18 micrometer or less. A conformal conducting layer is deposited over trenches in an interlevel dielectric (ILD) layer, and is polished back to form capacitor bottom electrodes. A novel photoresist mask and etching are then used to pattern the ILD layer to provide a protective interlevel dielectric structure between capacitors. The protective structures prevent damage to the bottom electrodes during subsequent processing. The etching also exposes portions of the outer surface of bottom electrodes for increased capacitance (>50%). In a first embodiment the ILD structure is formed between pairs of adjacent bottom electrodes, and in a second embodiment the ILD structure is formed between four adjacent bottom electrodes.

摘要翻译： 实现了一种用于制造具有增加的电容的高密度阵列的冠状电容器的方法，同时减少了对底部电极的工艺损伤。 该过程对于具有最小特征尺寸为0.18微米或更小的未来DRAM电路的冠电容器特别有用。 在层间电介质（ILD）层中的沟槽上沉积共形导电层，并将其抛光回形成电容器底部电极。 然后使用新颖的光致抗蚀剂掩模和蚀刻来对ILD层进行图案以在电容器之间提供保护性层间电介质结构。 保护结构可防止在后续处理期间损坏底部电极。 蚀刻还暴露了底部电极的外表面的部分以增加电容（> 50％）。 在第一实施例中，ILD结构形成在成对的相邻底部电极之间，并且在第二实施例中，ILD结构形成在四个相邻的底部电极之间。

公开(公告)号：US20050010463A1

公开(公告)日：2005-01-13

申请号：US10616157

申请日：2003-07-09

申请人： Joseph Du ,  Jeffrey Liou ,  Ted Chiang ,  Chia-Hui Lin ,  Chun Chen ,  Yuch-Ching Lee ,  Dah-Chih Lin ,  Shih-Wen Tu ,  Hsien-Ying Tseng

发明人： Joseph Du ,  Jeffrey Liou ,  Ted Chiang ,  Chia-Hui Lin ,  Chun Chen ,  Yuch-Ching Lee ,  Dah-Chih Lin ,  Shih-Wen Tu ,  Hsien-Ying Tseng

IPC分类号： G06F7/00 ,  G06Q10/00

CPC分类号： G06Q10/10 ,  G06Q10/063114 ,  G06Q10/103

摘要： A method of managing a project comprises: receiving data representing attributes of a project from a project manager; receiving data identifying attributes of the task; assigning a task to a task-responsible person; automatically providing a notice to the task-responsible person, the notice identifying the assignment of the task; receiving at least one task report from the corresponding task-responsible person; providing the corresponding task-responsible person and the project manager read-write access to the task report; and providing at least one other person read-only access to the task report. A computer-implemented information integration system comprises: a database for receiving a plurality of patent data; the database for receiving a plurality of entity data; the database for receiving a plurality of evidence data; the database associating the patent data, the entity data, and the evidence data to each other and storing the patent data, the entity data, and the evidence data.

摘要翻译： 管理项目的方法包括：从项目经理接收表示项目属性的数据; 接收识别任务属性的数据; 将任务分配给任务负责人; 自动向任务负责人提供通知，指明任务的分配; 从相应的任务负责人接收至少一个任务报告; 提供相应的任务负责人和项目经理对任务报告的读写访问; 并向任务报告提供至少一个其他人只读访问。 计算机实现的信息集成系统包括：用于接收多个专利数据的数据库; 用于接收多个实体数据的数据库; 用于接收多个证据数据的数据库; 数据库将专利数据，实体数据和证据数据彼此相关联并存储专利数据，实体数据和证据数据。

公开(公告)号：US06210841B1

公开(公告)日：2001-04-03

申请号：US09390784

申请日：1999-09-07

申请人： Chia-Hui Lin ,  Hung Jui Kuo

发明人： Chia-Hui Lin ,  Hung Jui Kuo

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G03F1/32 ,  G03F1/36

摘要： A mask and method of forming a pattern on an integrated circuit wafer having regions of dense line/space patterns and regions of isolated lines or widely spaced line/space patterns. The mask uses a binary mask pattern to form the dense line/space region and an attenuating phase shifting mask pattern to form the isolated line or widely spaced line/space region. Scattering bars are used in the widely spaced line/space region of the mask to improve depth of focus. The method uses the mask in a projection exposure system to expose a layer of photosensitive dielectric on an integrated circuit wafer.

摘要翻译： 在具有密集线/空间图案区域以及隔离线区域或宽间隔线/空间图案的集成电路晶片上形成图案的掩模和方法。 掩模使用二进制掩模图案形成密集线/空间区域和衰减相移掩模图案以形成隔离线或者宽间隔的线/空间区域。 散射棒用于掩模的间隔很远的线/空间区域以改善焦深。 该方法使用投影曝光系统中的掩模来暴露集成电路晶片上的光敏电介质层。