公开(公告)号：US5739265A

公开(公告)日：1998-04-14

申请号：US530847

申请日：1995-09-20

申请人： M. Dalil Rahman ,  Daniel P. Aubin ,  Dinesh N. Khanna ,  Sunit S. Dixit

发明人： M. Dalil Rahman ,  Daniel P. Aubin ,  Dinesh N. Khanna ,  Sunit S. Dixit

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08G8/00 ,  C08G8/08 ,  C08L61/06 ,  G03F7/023 ,  C08J3/00 ,  G03C7/022

CPC分类号： C08G8/08 ,  G03F7/0236

摘要： A process for producing a water insoluble, aqueous alkali soluble, film forming novolak resin having low metal ions, made by the fractionation of a phenol formaldehyde condensation product, a process for producing a resin a photoresist composition of superior quality containing such novolak resin, and a method for producing a semiconductor device using such photoresist composition.

公开(公告)号：US5750632A

公开(公告)日：1998-05-12

申请号：US366634

申请日：1994-12-30

申请人： M. Dalil Rahman ,  Daniel Aubin

发明人： M. Dalil Rahman ,  Daniel Aubin

IPC分类号： C08G8/00 ,  C08G8/04 ,  C08G8/08 ,  C08G8/12 ,  C08G8/24 ,  C08L61/06 ,  C09D161/06 ,  G03F7/023 ,  H01L21/027 ,  C08G14/04

CPC分类号： C08G8/12 ,  C08G8/08 ,  C08G8/24 ,  C08L61/06 ,  G03F7/0236

摘要： A water insoluble, aqueous alkali soluble novolak resin, process for producing such a novolak resin, a photoresist containing such a novolak resin, and a method for producing a semiconductor device, wherein the resin is isolated by sub surface forced steam distillation.

公开(公告)号：US6165675A

公开(公告)日：2000-12-26

申请号：US053885

申请日：1998-04-02

申请人： M. Dalil Rahman ,  Daniel Aubin

发明人： M. Dalil Rahman ,  Daniel Aubin

IPC分类号： C08G8/00 ,  C08G8/04 ,  C08G8/08 ,  C08G8/12 ,  C08G8/24 ,  C08L61/06 ,  C09D161/06 ,  G03F7/023 ,  H01L21/027 ,  G03C5/00

CPC分类号： C08G8/12 ,  C08G8/08 ,  C08G8/24 ,  C08L61/06 ,  G03F7/0236

摘要： A water insoluble, aqueous alkali soluble novolak resin, process for producing such a novolak resin, a photoresist containing such a novolak resin, and a method for producing a semiconductor device, wherein the resin is isolated by sub surface forced steam distillation.

摘要翻译： 不溶于水的碱溶性酚醛清漆树脂，制造这种酚醛清漆树脂的方法，含有这种酚醛清漆树脂的光致抗蚀剂和半导体装置的制造方法，其中通过亚表面强制蒸汽蒸馏分离树脂。

公开(公告)号：US20110151376A1

公开(公告)日：2011-06-23

申请号：US12646191

申请日：2009-12-23

申请人： M. Dalil Rahman ,  Douglas McKenzie ,  Huirong Yao ,  JoonYeon Cho ,  Yi Yi ,  Guanyang Lin

发明人： M. Dalil Rahman ,  Douglas McKenzie ,  Huirong Yao ,  JoonYeon Cho ,  Yi Yi ,  Guanyang Lin

IPC分类号： G03F7/00 ,  C08G65/48

CPC分类号： C09D165/00 ,  C08G2261/141 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/42 ,  C08G2261/50 ,  C08G2261/76 ,  C08L65/00 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/3081

摘要： The invention relates to an antireflective coating composition comprising a crosslinker and a crosslinkable polymer capable of being crosslinked by the crosslinker, where the crosslinkable polymer comprises a unit represented by structure (1): A-Bn  (1) where A is a fused aromatic ring and B has a structure (2), where R1 is C1-C4alkyl and R2 is C1-C4alkylThe invention further relates to a process for forming an image using the composition.

摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含能够由交联剂交联的交联剂和可交联聚合物，其中可交联聚合物包含由结构（1）表示的单元：其中A是稠合芳族化合物 环和B具有结构（2），其中R 1是C 1 -C 4烷基，R 2是C 1 -C 4烷基。本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法。

公开(公告)号：US20090280435A1

公开(公告)日：2009-11-12

申请号：US12115776

申请日：2008-05-06

申请人： Douglas McKenzie ,  David Abdallah ,  Allen G. Timko ,  M. Dalil Rahman

发明人： Douglas McKenzie ,  David Abdallah ,  Allen G. Timko ,  M. Dalil Rahman

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/091

摘要： The invention relates to an antireflective coating composition comprising a polymer, a crosslinker and a thermal acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure (1), at least one unit of structure (2) and at least one structure of structure (3), where R1 to R9 is independently selected from H and C1-C6 alkyl, R′ and R″ is independently selected from H and C1-C6 alkyl, X is C1-C6 alkylene, Y is C1-C6 alkylene. The invention further relates to a process for imaging a photoresist coated over the antireflective coating composition.

摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，交联剂和热酸发生剂的抗反射涂料组合物，其中聚合物包含至少一个结构单元（1），至少一个结构单元（2）和至少一个结构结构 （3），其中R 1至R 9独立地选自H和C 1 -C 6烷基，R'和R“独立地选自H和C 1 -C 6烷基，X是C 1 -C 6亚烷基，Y是C 1 -C 6亚烷基。 本发明还涉及一种用于对涂覆在抗反射涂层组合物上的光致抗蚀剂进行成像的方法。

公开(公告)号：US20100151392A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：US12332501

申请日：2008-12-11

申请人： M. Dalil Rahman ,  Yi Yi ,  Douglas McKenzie ,  Clement Anyadiegwu ,  Ping-Hung Lu

发明人： M. Dalil Rahman ,  Yi Yi ,  Douglas McKenzie ,  Clement Anyadiegwu ,  Ping-Hung Lu

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08L83/06

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08G61/02 ,  C08G2261/342 ,  C08L83/04 ,  C09D165/00

摘要： The present invention relates to an organic spin coatable antireflective coating composition comprising a polymer, a linking component, a crosslinker, and an acid generator. The invention further relates to a process for imaging the present composition.

摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，连接组分，交联剂和酸产生剂的有机旋涂可涂抗反射涂料组合物。 本发明还涉及用于对本发明组合物进行成像的方法。

公开(公告)号：US20090246691A1

公开(公告)日：2009-10-01

申请号：US12060307

申请日：2008-04-01

申请人： M. Dalil Rahman ,  David Abdallah ,  Rhuzi Zhang ,  Douglas McKenzie

发明人： M. Dalil Rahman ,  David Abdallah ,  Rhuzi Zhang ,  Douglas McKenzie

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/091

摘要： The present invention relates to an antireflective composition comprising a thermal acid generator and an epoxy polymer comprising at least one unit of structure 1, at least one unit of structure 2. where, R1 to R12 are independently selected from hydrogen and C1-C4 alkyl, structure. 1 has a configuration selected from cis, trans or mixture thereof, and x and y are the mole % of the monomeric units in the polymer. The invention also relates to a process for manufacturing a microelectronic device.

摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射组合物，其包含热酸产生剂和环氧聚合物，其包含至少一个结构单元1，至少一个结构单元，其中R1至R12独立地选自氢和C1-C4烷基， 结构体。 1具有选自顺式，反式或其混合物的构型，x和y是聚合物中单体单元的摩尔％。 本发明还涉及一种用于制造微电子器件的方法。

公开(公告)号：US06610465B2

公开(公告)日：2003-08-26

申请号：US09833226

申请日：2001-04-11

申请人： M. Dalil Rahman ,  Douglas McKenzie ,  Takanori Kudo ,  Munirathna Padmanaban

发明人： M. Dalil Rahman ,  Douglas McKenzie ,  Takanori Kudo ,  Munirathna Padmanaban

IPC分类号： G03F732

CPC分类号： B01J20/28033 ,  B01J20/28004 ,  B01J20/28028 ,  B01J20/2803 ,  B01J20/28085 ,  B01J47/018 ,  B01J47/133 ,  C08F6/02 ,  C08F6/16 ,  G03F7/0395

摘要： The present invention provides a method for producing a film forming resin suitable for use in a photoresist composition, involving the following steps: (a) providing a solution of a film forming resin in a solvent; (b) providing the following two filter sheets: (i) a filter sheet containing a self-supporting fibrous matrix having immobilized therein a particulate filter aid and particulate ion exchange resin particles, where the particulate filter aid and ion exchange resin particles are distributed substantially uniformly throughout a cross-section of said matrix; and (ii) a filter sheet containing a self-supporting matrix of fibers having immobilized therein particulate filter aid and binder resin; (c) rinsing the filter sheets of step (b) with the solvent of step (a); and (d) passing the solution of the film forming resin through the rinsed filter sheets of step (c).

摘要翻译： 本发明提供一种适用于光致抗蚀剂组合物的成膜树脂的制造方法，包括以下步骤：（a）在成膜剂中提供成膜树脂的溶液; （b）提供以下两个过滤片：（i）含有固定有微粒过滤助剂和粒状离子交换树脂颗粒的自支撑纤维基质的过滤片，其中颗粒助滤剂和离子交换树脂颗粒基本上分布 均匀地遍布所述基质的横截面; 和（ii）含有固定有颗粒助滤剂和粘合剂树脂的纤维自支撑基质的过滤片; （c）用步骤（a）的溶剂冲洗步骤（b）的过滤片; 和（d）使成膜树脂的溶液通过步骤（c）的冲洗过的滤纸。

公开(公告)号：US09201305B2

公开(公告)日：2015-12-01

申请号：US13930711

申请日：2013-06-28

申请人： M. Dalil Rahman ,  Venkata Gopal Reddy Chada ,  Huirong Yao ,  Clement Anyadiegwu ,  Douglas McKenzie

发明人： M. Dalil Rahman ,  Venkata Gopal Reddy Chada ,  Huirong Yao ,  Clement Anyadiegwu ,  Douglas McKenzie

IPC分类号： H01L21/033 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  C23C18/06 ,  C23C18/12 ,  C23C18/14

CPC分类号： G03F7/092 ,  C23C18/06 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/14 ,  G03F7/09 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276

摘要： The present disclosure relates to spin-on compositions containing at least one metal oxide dicarboxylate and an organic solvent into which the metal oxide dicarboxylate is soluble or colloidally stable. The dicarboxylate is capable of decomposing during heat treatment to give a cured metal oxide film. The present disclosure also relates to method of using the spin-on compositions.

摘要翻译： 本公开内容涉及含有至少一种金属氧化物二羧酸盐和有机溶剂的旋涂组合物，其中金属氧化物二羧酸盐可溶于或胶体稳定。 二羧酸盐能够在热处理期间分解，得到固化的金属氧化物膜。 本公开还涉及使用旋涂组合物的方法。

公开(公告)号：US07989144B2

公开(公告)日：2011-08-02

申请号：US12060307

申请日：2008-04-01

申请人： M. Dalil Rahman ,  David Abdallah ,  Rhuzi Zhang ,  Douglas McKenzie

发明人： M. Dalil Rahman ,  David Abdallah ,  Rhuzi Zhang ,  Douglas McKenzie

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/30 ,  B29C59/16 ,  C08F291/02

CPC分类号： G03F7/091

摘要： The present invention relates to an antireflective composition comprising a thermal acid generator and an epoxy polymer comprising at least one unit of structure 1, at least one unit of structure 2, where, R1 to R12 are independently selected from hydrogen and C1-C4 alkyl, structure 1 has a configuration selected from cis, trans or mixture thereof, and x and y are the mole % of the monomeric units in the polymer. The invention also relates to a process for manufacturing a microelectronic device.

摘要翻译： 本发明涉及包含热酸产生剂和环氧聚合物的抗反射组合物，其包含至少一个结构单元1，至少一个结构单元2，其中R 1至R 12独立地选自氢和C 1 -C 4烷基， 结构1具有选自顺式，反式或其混合物的构型，x和y是聚合物中单体单元的摩尔％。 本发明还涉及一种用于制造微电子器件的方法。