公开(公告)号：US07123427B2

公开(公告)日：2006-10-17

申请号：US10484866

申请日：2002-07-20

申请人： Alexander Kohl ,  Hubert Holderer ,  Werner Lang ,  Hartmut Brandenburg

发明人： Alexander Kohl ,  Hubert Holderer ,  Werner Lang ,  Hartmut Brandenburg

IPC分类号： G02B7/02 ,  G02B7/182

CPC分类号： G03F7/70225 ,  G02B27/62 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70825

摘要： The invention relates to an objective, particularly a projection objective for use in semiconductor lithography, comprising optical elements such as lenses (16) and mirrors (11a). According to the invention, at least a portion of the optical elements (16, 11a) is provided with a reflective surface outside of the optically active area serving as the reference surface (12) for a the optical element inside the objective (8).

摘要翻译： 本发明涉及一种目的，特别是用于半导体光刻的投影物镜，包括诸如透镜（16）和反射镜（11a）之类的光学元件。 根据本发明，光学元件（16,11a）的至少一部分在用作物镜（8）内的光学元件的基准面（12）的光学有效区域外面设置有反射表面， 。

公开(公告)号：US20110199597A1

公开(公告)日：2011-08-18

申请号：US13096112

申请日：2011-04-28

申请人： Wolfgang Hummel ,  Jurgen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schöngart ,  Markus Neumaier ,  Bärbel Trossbach ,  Ulrich Weber ,  Michael Mühlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

发明人： Wolfgang Hummel ,  Jurgen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schöngart ,  Markus Neumaier ,  Bärbel Trossbach ,  Ulrich Weber ,  Michael Mühlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G03F7/70825

摘要： An imaging device in a projection exposure machine for microlithography has at least one optical element and at least one manipulator, having a linear drive, for manipulating the position of the optical element. The linear drive has a driven subregion and a nondriven subregion, which are movable relative to one another in the direction of a movement axis. The subregions are interconnected at least temporarily via functional elements with an active axis and via functional elements with an active direction at least approximately parallel to the movement axis.

摘要翻译： 用于微光刻的投影曝光机中的成像装置具有至少一个光学元件和至少一个具有线性驱动的操纵器，用于操纵光学元件的位置。 线性驱动器具有驱动区域和非驱动子区域，它们可以在运动轴线的方向上相对于彼此移动。 至少临时地通过具有主动轴的功能元件和通过至少大致平行于运动轴的有源方向的功能元件临时地互相连接。

公开(公告)号：US20060164619A1

公开(公告)日：2006-07-27

申请号：US11316160

申请日：2005-12-21

申请人： Stephan Back ,  Wolfgang Hummel ,  Juergen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schoengart ,  Markus Neumaier ,  Baerbel Schwaer ,  Ulrich Weber ,  Michael Muehlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

发明人： Stephan Back ,  Wolfgang Hummel ,  Juergen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schoengart ,  Markus Neumaier ,  Baerbel Schwaer ,  Ulrich Weber ,  Michael Muehlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70825 ,  G03F7/70258

摘要： An imaging device in a projection exposure machine for microlithography comprises at least one optical element and at least one manipulator, a linear drive for manipulating the position of the optical element. Said linear drive has at least one moving element, said moving element having a shearing part and a lifting part. Said shearing part is arranged to move the optical element and said lifting part is arranged to move said shearing part. Said linear drive has a supporting element which is in contact with and prevents movement of the optical element while the shearing part is moved by the lifting part.

摘要翻译： 用于微光刻的投影曝光机中的成像装置包括至少一个光学元件和至少一个操纵器，用于操纵光学元件的位置的线性驱动器。 所述线性驱动器具有至少一个移动元件，所述移动元件具有剪切部分和提升部分。 所述剪切部分被布置成移动光学元件，并且所述提升部分被布置成移动所述剪切部分。 所述线性驱动器具有支撑元件，该支撑元件在剪切部分被提升部分移动的同时与光学元件接触并防止其移动。

公开(公告)号：US20060012893A1

公开(公告)日：2006-01-19

申请号：US10530689

申请日：2003-08-13

申请人： Ulrich Weber ,  Alexander Kohl ,  Hubert Holderer

发明人： Ulrich Weber ,  Alexander Kohl ,  Hubert Holderer

IPC分类号： G02B7/02

CPC分类号： G03F9/7096 ,  G02B7/004 ,  G02B7/023 ,  G03F7/70833

摘要： An objective, in particular a projection objective in microlithography for producing semiconductor components, is assembled from a number of individual housing structures (4, 5), optical elements being arranged in each housing structure (4, 5), and a number of optical axes (15, 16, 18, 35) being formed by the housing structures (4, 5). At least one first housing structure (4) is provided with seats (22, 23, 24, 25) on which one or more further housing structures (5) and/or optical subassemblies (6, 8, 11, 14) are adjusted and are connected to the first housing structure (4).

摘要翻译： 特别是用于制造半导体部件的微光刻中的投影物镜的目的是从多个单独的外壳结构（4,5）组装，设置在每个外壳结构（4,5）中的光学元件，以及多个光轴 （15,16,18，35）由所述壳体结构（4,5）形成。 至少一个第一壳体结构（4）设置有座（22,23,24,25），其上调整了一个或多个另外的壳体结构（5）和/或光学子组件（6,8,11,14），并且 连接到第一壳体结构（4）。

公开(公告)号：US06728021B1

公开(公告)日：2004-04-27

申请号：US10299032

申请日：2002-11-18

申请人： Alexander Kohl ,  Hubert Holderer

发明人： Alexander Kohl ,  Hubert Holderer

IPC分类号： G02F103

CPC分类号： G03F7/70966

摘要： High precision optical components, for example CaF2 lenses in lithographic systems for the production of integrated circuits, often suffer from stress induced birefringence and other imperfections. For altering the optical properties in a confined region of the optical component, the latter is exposed to a beam of ions having an energy preferably in the order 100 MeV/u. This results in a modification of the optical properties due to an interaction of the ions with the surrounding medium the optical component consists of. By carefully choosing the parameters of the process, it is possible to alter the refractive index or the mechanical stress distribution or other optical properties within a confined region of this medium.

摘要翻译： 高精度光学元件，例如用于生产集成电路的光刻系统中的CaF 2透镜，经常遭受应力引起的双折射和其它缺陷。 为了改变光学部件的限制区域中的光学性质，后者被暴露于具有优选为100MeV / u的量级的能量的离子束。 这导致由于离子与光学部件组成的周围介质的相互作用而导致的光学性质的改变。 通过仔细选择该过程的参数，可以改变该介质的限制区域内的折射率或机械应力分布或其他光学性质。

公开(公告)号：US08514371B2

公开(公告)日：2013-08-20

申请号：US13096112

申请日：2011-04-28

申请人： Wolfgang Hummel ,  Juergen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schoengart ,  Markus Neumaier ,  Baerbel Trossbach ,  Ulrich Weber ,  Michael Muehlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

发明人： Wolfgang Hummel ,  Juergen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schoengart ,  Markus Neumaier ,  Baerbel Trossbach ,  Ulrich Weber ,  Michael Muehlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G03F7/70825

摘要： An imaging device in a projection exposure machine for microlithography has at least one optical element and at least one manipulator, having a linear drive, for manipulating the position of the optical element. The linear drive has a driven subregion and a nondriven subregion, which are movable relative to one another in the direction of a movement axis. The subregions are interconnected at least temporarily via functional elements with an active axis and via functional elements with an active direction at least approximately parallel to the movement axis.

摘要翻译： 用于微光刻的投影曝光机中的成像装置具有至少一个光学元件和至少一个具有线性驱动的操纵器，用于操纵光学元件的位置。 线性驱动器具有驱动区域和非驱动子区域，它们可以在运动轴线的方向上相对于彼此移动。 至少临时地通过具有主动轴的功能元件和通过至少大致平行于运动轴的有源方向的功能元件临时地互相连接。

公开(公告)号：US07486382B2

公开(公告)日：2009-02-03

申请号：US11316160

申请日：2005-12-21

申请人： Stephan Back ,  Wolfgang Hummel ,  Juergen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schoengart ,  Markus Neumaier ,  Baerbel Schwaer ,  Ulrich Weber ,  Michael Muehlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

发明人： Stephan Back ,  Wolfgang Hummel ,  Juergen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schoengart ,  Markus Neumaier ,  Baerbel Schwaer ,  Ulrich Weber ,  Michael Muehlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G02B7/02

CPC分类号： G03F7/70825 ,  G03F7/70258

摘要： An imaging device in a projection exposure machine for microlithography includes at least one optical element and at least one manipulator, a linear drive for manipulating the position of the optical element. The linear drive has at least one moving element, the moving element having a shearing part and a lifting part. The shearing part is arranged to move the optical element and the lifting part is arranged to move the shearing part. The linear drive has a supporting element which is in contact with and prevents movement of the optical element while the shearing part is moved by the lifting part.

摘要翻译： 用于微光刻的投影曝光机中的成像装置包括至少一个光学元件和至少一个操纵器，用于操纵光学元件的位置的线性驱动器。 线性驱动器具有至少一个移动元件，移动元件具有剪切部分和提升部分。 剪切部分被布置成移动光学元件，并且提升部分被布置成移动剪切部分。 线性驱动器具有支撑元件，该支撑元件在通过提升部分移动剪切部分的同时与光学元件接触并防止其移动。

公开(公告)号：US20050286121A1

公开(公告)日：2005-12-29

申请号：US10517265

申请日：2003-05-07

申请人： Ulrich Weber ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl

发明人： Ulrich Weber ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl

IPC分类号： G02B7/18 ,  G02B17/08 ,  G02B27/00 ,  G02B27/10 ,  G03F7/20 ,  G02B23/24

CPC分类号： G02B17/0892 ,  G02B7/1805 ,  G02B17/08 ,  G02B27/0025 ,  G02B27/144 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70258

摘要： An objective is provided with a plurality of lenses, mirrors and at least one beam splitter element (20) inserted in an objective housing (1). One or more surfaces (26, 27, 28), situated in the beam path, of the beam splitter element (20) are provided as correction aspherics. The beam splitter element (20) can be provided with manipulators (22) that are arranged on a manipulator carrier (23) which is permanently connected to the objective housing.

摘要翻译： 目的是设置有多个透镜，反射镜和插入物镜壳体（1）中的至少一个分束器元件（20）。 位于分束器元件（20）的光束路径中的一个或多个表面（26,27,28）被提供作为校正非球面。 分束器元件（20）可以设置有操纵器（22），其被布置在永久地连接到物镜壳体的操纵器托架（23）上。

公开(公告)号：US06842294B2

公开(公告)日：2005-01-11

申请号：US10118479

申请日：2002-04-08

申请人： Hubert Holderer ,  Ulrich Weber ,  Alexander Kohl ,  Toralf Gruner ,  Christoph Zaczek ,  Jens Ullmann ,  Martin Weiser ,  Bernhard Gellrich ,  Hartmut Muenker

发明人： Hubert Holderer ,  Ulrich Weber ,  Alexander Kohl ,  Toralf Gruner ,  Christoph Zaczek ,  Jens Ullmann ,  Martin Weiser ,  Bernhard Gellrich ,  Hartmut Muenker

IPC分类号： G02B17/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G02B3/00 ,  G02B17/00

CPC分类号： G02B17/0892 ,  G02B17/08 ,  G03F7/70225

摘要： A catadioptric objective comprises a plurality of lenses and at least two deflecting mirrors that have reflecting surfaces that are at a specific angle, in particular of 90°, to one another. The two deflecting mirrors are arranged with their reflecting surfaces on a common base member whose position in the objective can be set.

摘要翻译： 反射折射物镜包括多个透镜和至少两个偏转镜，其具有彼此具有特定角度，特别是90°的反射表面。 两个偏转镜被布置成其反射表面位于可以设置物镜中的位置的公共基座构件上。

公开(公告)号：US07961294B2

公开(公告)日：2011-06-14

申请号：US12247597

申请日：2008-10-08

申请人： Wolfgang Hummel ,  Juergen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schoengart ,  Markus Neumaier ,  Baerbel Trossbach ,  Ulrich Weber ,  Michael Muehlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

发明人： Wolfgang Hummel ,  Juergen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schoengart ,  Markus Neumaier ,  Baerbel Trossbach ,  Ulrich Weber ,  Michael Muehlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03B7/02

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G03F7/70825

摘要： An imaging device in a projection exposure machine for microlithography has at least one optical element and at least one manipulator, having a linear drive, for manipulating the position of the optical element. The linear drive has a driven subregion and a nondriven subregion, which are movable relative to one another in the direction of a movement axis. The subregions are interconnected at least temporarily via functional elements with an active axis and via functional elements with an active direction at least approximately parallel to the movement axis.

摘要翻译： 用于微光刻的投影曝光机中的成像装置具有至少一个光学元件和至少一个具有线性驱动的操纵器，用于操纵光学元件的位置。 线性驱动器具有驱动区域和非驱动子区域，它们可以在运动轴线的方向上相对于彼此移动。 至少临时地通过具有主动轴的功能元件和通过至少大致平行于运动轴的有源方向的功能元件临时地互相连接。