公开(公告)号：US06842294B2

公开(公告)日：2005-01-11

申请号：US10118479

申请日：2002-04-08

申请人： Hubert Holderer ,  Ulrich Weber ,  Alexander Kohl ,  Toralf Gruner ,  Christoph Zaczek ,  Jens Ullmann ,  Martin Weiser ,  Bernhard Gellrich ,  Hartmut Muenker

发明人： Hubert Holderer ,  Ulrich Weber ,  Alexander Kohl ,  Toralf Gruner ,  Christoph Zaczek ,  Jens Ullmann ,  Martin Weiser ,  Bernhard Gellrich ,  Hartmut Muenker

IPC分类号： G02B17/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G02B3/00 ,  G02B17/00

CPC分类号： G02B17/0892 ,  G02B17/08 ,  G03F7/70225

摘要： A catadioptric objective comprises a plurality of lenses and at least two deflecting mirrors that have reflecting surfaces that are at a specific angle, in particular of 90°, to one another. The two deflecting mirrors are arranged with their reflecting surfaces on a common base member whose position in the objective can be set.

摘要翻译： 反射折射物镜包括多个透镜和至少两个偏转镜，其具有彼此具有特定角度，特别是90°的反射表面。 两个偏转镜被布置成其反射表面位于可以设置物镜中的位置的公共基座构件上。

公开(公告)号：US20070138442A1

公开(公告)日：2007-06-21

申请号：US11641367

申请日：2006-12-18

申请人： Martin Weiser

发明人： Martin Weiser

IPC分类号： H01B1/12

CPC分类号： C22C12/00 ,  H01B1/02 ,  H01L24/29 ,  H01L2224/29 ,  H01L2224/29101 ,  H01L2224/29109 ,  H01L2224/29111 ,  H01L2224/2919 ,  H01L2224/29298 ,  H01L2224/83439 ,  H01L2224/83805 ,  H01L2924/00013 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/0102 ,  H01L2924/01023 ,  H01L2924/01024 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/0103 ,  H01L2924/01032 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01038 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/01049 ,  H01L2924/0105 ,  H01L2924/01051 ,  H01L2924/01056 ,  H01L2924/01057 ,  H01L2924/01058 ,  H01L2924/01067 ,  H01L2924/01074 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/0132 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/01327 ,  H01L2924/0133 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/0665 ,  H01L2924/1301 ,  H01L2924/1305 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/15747 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/01014 ,  H01L2924/01083 ,  H01L2924/00015 ,  H01L2224/29099 ,  H01L2224/29199 ,  H01L2224/29299 ,  H01L2224/2929

摘要： Solder compositions are described that include at least about 2% of silver, at least about 60% of bismuth, and at least one coupling element, wherein the at least one coupling element forms a complex with bismuth. Layered materials are also described that include a surface or substrate; an electrical interconnect; the solder composition described herein; and a semiconductor die or package. Methods of producing a solder composition are also described that include: a) providing at least about 2% of silver, b) providing at least about 60% of bismuth, c) providing at least one coupling element, wherein the at least one coupling element forms a complex with bismuth, and d) blending the silver, bismuth and at least one coupling element to form the solder composition.

摘要翻译： 描述了包含至少约2％的银，至少约60％的铋和至少一种偶联元素的焊料组合物，其中所述至少一种偶联元素与铋形成络合物。 还描述了包括表面或基底的分层材料; 电互连; 本文所述的焊料组合物; 和半导体管芯或封装。 还描述了生产焊料组合物的方法，其包括：a）提供至少约2％的银，b）提供至少约60％的铋，c）提供至少一个耦合元件，其中所述至少一个耦合元件 与铋形成络合物，和d）将银，铋和至少一种偶合元素混合以形成焊料组合物。

公开(公告)号：US07118449B1

公开(公告)日：2006-10-10

申请号：US10943952

申请日：2004-09-20

申请人： Udo Dinger ,  Frank Eisert ,  Siegfried Stacklies ,  Martin Weiser ,  Guenther Seitz

发明人： Udo Dinger ,  Frank Eisert ,  Siegfried Stacklies ,  Martin Weiser ,  Guenther Seitz

IPC分类号： B24B49/00 ,  B24B51/00 ,  B24B1/00

CPC分类号： B24B13/06 ,  B24B51/00

摘要： A method of manufacturing an optical element having an optical surface extending close to a periphery of a substrate comprises: providing a substrate having a main surface extending beyond a periphery of the optical surface and also performing a polishing of the optical surface in regions of the main surface extending beyond the optical surface. Thereafter, material of the substrate carrying a portion of the surface extending beyond the optical surface is removed.

摘要翻译： 一种制造具有靠近基板周边延伸的光学表面的光学元件的方法包括：提供具有延伸超过光学表面的周边的主表面的基板，并且还在主体的区域中执行光学表面的抛光 表面延伸超出光学表面。 此后，去除承载延伸超过光学表面的表面的一部分的基板的材料。

公开(公告)号：US4501516A

公开(公告)日：1985-02-26

申请号：US548741

申请日：1983-11-04

申请人： Bernhard Kotulla ,  Martin Weiser ,  Jurgen Faltin ,  Lothar Preis ,  Rudolf Schmidt ,  Eberhard Born

发明人： Bernhard Kotulla ,  Martin Weiser ,  Jurgen Faltin ,  Lothar Preis ,  Rudolf Schmidt ,  Eberhard Born

IPC分类号： E21D20/00 ,  E02D5/76 ,  E21D20/02 ,  E21D21/00

CPC分类号： E21D21/0093 ,  E02D5/76 ,  E21D20/025

摘要： By using a packer which is pushed as far over an anchor as the intended length of the moulding, the cavity in a borehole in the region of the bond can be completely filled with a reactive resin. Overhead work is possible even with slowly reacting resins. By using a catalyst on the packer, the reactive resin injected into the borehole behind the packer can be made to harden very rapidly.

摘要翻译： 通过使用被推压在锚定件上远远超过模制件的预期长度的封隔器，在接合区域中的钻孔中的空腔可以被完全填充反应性树脂。 即使使用缓慢反应的树脂也可以进行间接工作。 通过在封隔器上使用催化剂，可以使注入封隔器后面的钻孔中的反应性树脂非常快速地硬化。

公开(公告)号：US4443132A

公开(公告)日：1984-04-17

申请号：US340417

申请日：1982-01-18

申请人： Bernhard Kotulla ,  Martin Weiser ,  Jurgen Faltin ,  Lothar Preis ,  Rudolf Schmidt ,  Eberhard Born

发明人： Bernhard Kotulla ,  Martin Weiser ,  Jurgen Faltin ,  Lothar Preis ,  Rudolf Schmidt ,  Eberhard Born

IPC分类号： E21D20/00 ,  E02D5/76 ,  E21D20/02 ,  E21D21/00

CPC分类号： E21D21/0093 ,  E02D5/76 ,  E21D20/025

摘要： By using a packer which is pushed as far over an anchor as the intended length of the moulding, the cavity in a borehole in the region of the bond can be completely filled with a reactive resin. Overhead work is possible even with slowly reacting resins. By using a catalyst on the packer, the reactive resin injected into the borehole behind the packer can be made to harden very rapidly.

摘要翻译： 通过使用被推压在锚定件上远远超过模制件的预期长度的封隔器，在接合区域中的钻孔中的空腔可以被完全填充反应性树脂。 即使使用缓慢反应的树脂也可以进行间接工作。 通过在封隔器上使用催化剂，可以使注入封隔器后面的钻孔中的反应性树脂非常快速地硬化。

公开(公告)号：US09179176B2

公开(公告)日：2015-11-03

申请号：US14343070

申请日：2012-06-26

申请人： Thorsten Hehn ,  Jens Krause ,  Urs Thürmann ,  Martin Weiser

发明人： Thorsten Hehn ,  Jens Krause ,  Urs Thürmann ,  Martin Weiser

IPC分类号： H04N7/18 ,  H04N21/433 ,  H04N21/414 ,  H04N21/442 ,  H04N21/475 ,  H04N21/2668 ,  H04N21/432 ,  H04N21/462 ,  H04N21/61 ,  H04N21/658 ,  H04N21/235 ,  H04N21/258

CPC分类号： H04N21/4334 ,  H04N21/2353 ,  H04N21/25891 ,  H04N21/2668 ,  H04N21/41422 ,  H04N21/4325 ,  H04N21/4331 ,  H04N21/44222 ,  H04N21/4622 ,  H04N21/4755 ,  H04N21/6131 ,  H04N21/6582

摘要： A method for operating a data receiver for audio and/or video data, wherein a planned and variable program title sequence having program titles is recorded, audio and/or video data relating to at least one program title are received via a data link and are buffered, and audio and/or video data of at least one program title are reproduced. The transmission resources of the data link for audio and/or video data to be transmitted and to be buffered are distributed over at least two program titles that have not yet been reproduced by the data receiver. Also disclosed are a data receiver associated with the method and a media reproduction system connected thereto, in particular in a vehicle.

摘要翻译： 一种用于操作用于音频和/或视频数据的数据接收机的方法，其中记录具有节目标题的预定和可变节目标题序列，经由数据链路接收与至少一个节目标题相关的音频和/或视频数据，并且 缓冲的，以及至少一个节目标题的音频和/或视频数据被再现。 要发送和要缓冲的音频和/或视频数据的数据链路的传输资源分布在数据接收机尚未被再现的至少两个节目标题上。 还公开了与该方法相关联的数据接收器和与其连接的媒体再现系统，特别是在车辆中。

公开(公告)号：US07919004B2

公开(公告)日：2011-04-05

申请号：US12534659

申请日：2009-08-03

申请人： Martin Weiser ,  Olaf Bork ,  Ulrich Andiel

发明人： Martin Weiser ,  Olaf Bork ,  Ulrich Andiel

IPC分类号： B29D11/00

CPC分类号： G02B5/0825 ,  C23F4/00 ,  G02B5/0891 ,  G03F1/24 ,  G03F1/72

摘要： A method for removing at least one reflective layer (4a, 4b) from an optical element (1) for EUV lithography, wherein the optical element (1) has a substrate (2) and an interlayer (6) between the substrate (2) and the at least one reflective layer (4a, 4b). The method includes etching away the at least one reflective layer (4a, 4b) as far as the interlayer (6) with an etching gas (7), wherein the material of the interlayer (6) does not react with the etching gas (7), and wherein, after the etching away, the interlayer (6) has a surface roughness of less than 0.5 nm rms, preferably of less than 0.2 nm rms, and more preferably of less than 0.1 nm rms. Also, an optical element (1) for reflecting radiation in the EUV wavelength range includes a substrate (2), at least one reflective layer (4a, 4b), and an interlayer (6) arranged between the substrate (2) and the at least one reflective layer (4a, 4b). The interlayer (6) is composed at least partly of a material which does not react with a halogen or a halogen compound as etching gas (7) and which is selected, in particular, from one or more of the following: alkali metal halides, alkaline earth metal halides and aluminum oxide (Al2O3). The interlayer (6) has a surface roughness of less than 0.5 nm rms, preferably of less than 0.2 nm rms, and more preferably of less than 0.1 nm rms.

摘要翻译： 一种用于从用于EUV光刻的光学元件（1）去除至少一个反射层（4a，4b）的方法，其中所述光学元件（1）在所述基板（2）之间具有基板（2）和中间层（6） 和所述至少一个反射层（4a，4b）。 该方法包括使用蚀刻气体（7）将至少一个反射层（4a，4b）蚀刻掉至中间层（6），其中中间层（6）的材料不与蚀刻气体（7）反应 ），并且其中在蚀刻之后，中间层（6）具有小于0.5nm rms，优选小于0.2nm rms，更优选小于0.1nm rms的表面粗糙度。 此外，用于反射EUV波长范围的辐射的光学元件（1）包括基板（2），至少一个反射层（4a，4b）和布置在基板（2）和基板 至少一个反射层（4a，4b）。 中间层（6）至少部分由不与卤素或卤素化合物作为蚀刻气体（7）反应的材料组成，特别是选自以下的一种或多种：碱金属卤化物， 碱土金属卤化物和氧化铝（Al2O3）。 中间层（6）具有小于0.5nm rms，优选小于0.2nm rms，更优选小于0.1nm rms的表面粗糙度。

公开(公告)号：US20070045838A1

公开(公告)日：2007-03-01

申请号：US11592396

申请日：2006-11-02

申请人： Martin Weiser ,  Nancy Dean ,  Brett Clark ,  Michael Bossio ,  Ronald Fleming ,  James Flint

发明人： Martin Weiser ,  Nancy Dean ,  Brett Clark ,  Michael Bossio ,  Ronald Fleming ,  James Flint

IPC分类号： H01L23/48

CPC分类号： H01L24/10 ,  B23K35/025 ,  B23K35/26 ,  B23K35/268 ,  C22B13/06 ,  C25C1/18 ,  H01L23/3128 ,  H01L23/49816 ,  H01L24/13 ,  H01L2224/05568 ,  H01L2224/05573 ,  H01L2224/13 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01012 ,  H01L2924/01015 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/01049 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/01084 ,  H01L2924/01088 ,  H01L2924/01092 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/12042 ,  H01L2924/14 ,  H05K3/3463 ,  H05K3/3484 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/05599

摘要： The invention includes solder materials having low concentrations of alpha particle emitters, and includes methods of purification of materials to reduce a concentration of alpha particle emitters within the materials. The invention includes methods of reducing alpha particle flux in various lead-containing and lead-free materials through purification of the materials. The invention also includes methods of estimating the fractionation of a low concentration of one or more alpha particle emitters during purification of a material.

摘要翻译： 本发明包括具有低浓度α粒子发射体的焊料材料，并且包括纯化材料以降低材料内的α粒子发射体浓度的方法。 本发明包括通过纯化材料来减少各种含铅和无铅材料中的α粒子通量的方法。 本发明还包括在纯化材料期间估计低浓度的一种或多种α粒子发射体的分馏的方法。

公开(公告)号：US07077533B2

公开(公告)日：2006-07-18

申请号：US10477772

申请日：2002-05-28

申请人： Martin Weiser ,  Udo Dinger ,  Siegfried Stacklies ,  Markus Haidl

发明人： Martin Weiser ,  Udo Dinger ,  Siegfried Stacklies ,  Markus Haidl

IPC分类号： G02B5/08

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F7/2008 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/06

摘要： A device serves for reflecting electromagnetic waves, in particular in a length range less than 200 nm. It has a mirror carrier made of a material with at least approximately vanishing thermal expansion and at least one reflective layer applied on said mirror carrier. An intermediate layer made of a material which is formed such that its surface roughness is not significantly increased after beam processing methods is fitted between the mirror carrier and the reflective layer.

摘要翻译： 装置用于反射电磁波，特别是在小于200nm的长度范围内。 它具有由至少近乎消失的热膨胀的材料制成的反射镜载体，并且至少一个反射层施加在所述反射镜载体上。 由在反射镜载体和反射层之间装配光束处理方法之后形成为使得其表面粗糙度不显着增加的材料制成的中间层。

公开(公告)号：US08466047B2

公开(公告)日：2013-06-18

申请号：US13453798

申请日：2012-04-23

申请人： Martin Weiser ,  Stefan Burkhart ,  Holger Maltor

发明人： Martin Weiser ,  Stefan Burkhart ,  Holger Maltor

IPC分类号： H01L21/00 ,  G01N23/20

CPC分类号： G02B1/12 ,  H01J2237/3151

摘要： A method for processing the surface of a component, or the processing of an optical element through an ion beam, directed onto the surface to be processed, whereby the surface is lowered and/or removed at least partially, and wherein the ions have a kinetic energy of 100 keV or more, as well as optical elements processed in accordance with the method.

摘要翻译： 一种用于处理部件的表面或通过离子束处理光学元件的方法，所述方法被引导到待加工的表面上，由此至少部分地降低和/或去除所述表面，并且其中所述离子具有动力学 100keV以上的能量，以及根据该方法处理的光学元件。